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江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝 納糯三維科技供應(yīng)

發(fā)貨地點(diǎn):上海市浦東新區(qū)

發(fā)布時(shí)間:2024-04-06

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詳細(xì)信息

由Nanoscribe研發(fā)的IP系列光刻膠是用于特別高分辨率微納3D打印的標(biāo)準(zhǔn)材料。所打印的亞微米級(jí)別分辨率器件具有特別高的形狀精度,屬于目前市場(chǎng)上易于操作的“負(fù)膠”。IP樹脂作為高效的打印材料,是Nanoscribe微納加工解決方案的基本組成部分之一。我們提供針對(duì)優(yōu)化不同光刻膠和應(yīng)用領(lǐng)域的高級(jí)配套軟件,從而簡(jiǎn)化3D打印工作流程并加快科研和工業(yè)領(lǐng)域的設(shè)計(jì)迭代周期,包括仿生表面,微光學(xué)元件,機(jī)械超材料和3D細(xì)胞支架等。世界上頭一臺(tái)雙光子灰度光刻(2GL ®)系統(tǒng)Quantum X實(shí)現(xiàn)了2D和2,江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝.5D微納結(jié)構(gòu)的增材制造。該無掩模光刻系統(tǒng)將灰度光刻的出色性能與Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)的精度和靈活性相結(jié)合,江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝,從而達(dá)到亞微米分辨率并實(shí)現(xiàn)對(duì)體素大小的超快控制,江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝,自動(dòng)化打印以及特別高的形狀精度和光學(xué)質(zhì)量表面。更多有關(guān)3D雙光子無掩模光刻技術(shù)的咨詢,歡迎致電Nanoscribe中國(guó)分公司-納糯三維。江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝

江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝,Nanoscribe

Nanoscribe成立于 2007 年,是卡爾斯魯厄理工學(xué)院 (KIT) 的衍生公司。Nanoscribe 憑借其過硬的技術(shù)背景和市場(chǎng)敏銳度奠定了其市場(chǎng)優(yōu)先領(lǐng)導(dǎo)地位,并以高標(biāo)準(zhǔn)來要求自己以滿足客戶的需求。 Nanoscribe 將在未來在基于雙光子聚合技術(shù)的3D 微納加工系統(tǒng)基礎(chǔ)上進(jìn)一步擴(kuò)大產(chǎn)品組合實(shí)現(xiàn)多樣化,以滿足不用客戶群的需求。Nanoscribe作為一家納米,微米和中尺度高精度結(jié)構(gòu)增材制造專家,一直致力于開發(fā)和生產(chǎn)和無掩模光刻系統(tǒng),以及自研發(fā)的打印材料和特定應(yīng)用不同解決方案。在全球頂端大學(xué)和創(chuàng)新科技企業(yè)的中,有超過2,500 多名用戶在使用我們突破性的 3D 微納加工技術(shù)和定制應(yīng)用解決方案。四川2PPNanoscribe微流道Nanoscribe是德國(guó)高精度增材制造系統(tǒng)的先驅(qū)。

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Nanoscribe 公司推出針對(duì)微光學(xué)元件(如微透鏡、棱鏡或復(fù)雜自由曲面光學(xué)器件)具有特殊性能的新型打印材料,IP-n162光刻膠。全新光敏樹脂材料具有高折射率,高色散和低阿貝數(shù)的特性,這些特性對(duì)于3D微納加工創(chuàng)新微光學(xué)元件設(shè)計(jì)尤為重要,尤其是在沒有旋轉(zhuǎn)對(duì)稱性和復(fù)合三維光學(xué)系統(tǒng)的情況下。由于在紅外區(qū)域吸收率不高,因此光敏樹脂成為了紅外微光學(xué)的優(yōu)先,同時(shí)也是光通訊、量子技術(shù)和光子封裝等需要低吸收損耗應(yīng)用的相當(dāng)好的選擇。全新IP-n162光刻膠是為基于雙光子聚合技術(shù)的3D打印量身定制的打印材料。高折射率材料可實(shí)現(xiàn)具有高精度形狀精度的創(chuàng)新微光學(xué)設(shè)計(jì),并將高精度微透鏡和自由曲面3D微光學(xué)提升到一個(gè)新的高度。由于其光學(xué)特性,高折射率聚合物可促進(jìn)許多運(yùn)用突破性技術(shù)的各種應(yīng)用,例如光電應(yīng)用中,他們可以增加顯示設(shè)備、相機(jī)或投影儀鏡頭的視覺特性。此外,這些材料在3D微納加工技術(shù)應(yīng)用下可制作更高階更復(fù)雜更小尺寸的3D微光學(xué)元件。例如圖示中可應(yīng)用于微型成像系統(tǒng),內(nèi)窺鏡和AR/VR3D感測(cè)的微透鏡。

事實(shí)上,雙光子聚合加工是在2001年開始真正應(yīng)用在微納制造領(lǐng)域的,其先驅(qū)者是東京大阪大學(xué)的Kawata教授以及孫洪波教授。當(dāng)時(shí)這個(gè)實(shí)驗(yàn)室在nature上發(fā)表的一篇工作,也就是傳說中的納米牛引起了極大的轟動(dòng):《Finer features for functional microdevices:Micromachines can be created with higher resolution using two-photon absorption.》但是,這篇文獻(xiàn)中還進(jìn)行了另外一個(gè)更厲害的工作,這兩位教授做出了當(dāng)時(shí)世界上特別小的彈簧振子,其加工分辨率達(dá)到了120nm,超越了衍射極限,同時(shí)還沒有使用諸如近場(chǎng)加工之類的不太通用的解決方案,而是單純的利用了材料的性質(zhì)。Nanoscribe的打印設(shè)備具有高度3D設(shè)計(jì)自由度的特點(diǎn)且具備人性化的操作系統(tǒng)。

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    對(duì)于光纖上打印的SERS探針,研究人員必須克服幾個(gè)制造上的挑戰(zhàn)。首先,他們?cè)O(shè)計(jì)了一個(gè)定制的光纖支架,可以在光纖的切面上打印。然后,打印的物體必須與光纖的重要部分部分完全對(duì)齊,以激發(fā)制造的拉曼熱點(diǎn)。剩下的一個(gè)挑戰(zhàn),特別是對(duì)于像單體陣列這樣的絲狀結(jié)構(gòu),是對(duì)可能傾斜的基材表面的補(bǔ)償。光纖傾斜的基材表面導(dǎo)致SERS活性微結(jié)構(gòu)的產(chǎn)量很低。為了推動(dòng)光學(xué)領(lǐng)域的創(chuàng)新以及在醫(yī)療設(shè)備的應(yīng)用和光學(xué)傳感的發(fā)展,例如光纖SERS探頭,Nanoscribe近期推出了更新的3D打印系統(tǒng)QuantumXalign。憑借其專有的在光纖上的打印設(shè)置和在所有空間方向上的傾斜校正,新的3D打印系統(tǒng)可能已經(jīng)為在光纖上打印SERS探針的挑戰(zhàn)提供了答案,并為進(jìn)一步改進(jìn)和新的創(chuàng)新奠定了基礎(chǔ)。 科學(xué)家們運(yùn)用Nanoscribe的雙光子聚合技術(shù)開創(chuàng)了一種全新的微流控微納加工方法。德國(guó)工業(yè)級(jí)NanoscribePPGT

使用Nanoscribe的3D微加工技術(shù)并配合其新型研發(fā)的IP-Visio光刻膠,可以打印極其復(fù)雜的3D微支架。江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝

作為基于雙光子聚合技術(shù)( 2PP) 的微細(xì)加工領(lǐng)域市場(chǎng)帶領(lǐng)者,Nanoscribe 在全球 30 多個(gè)國(guó)家擁有各科領(lǐng)域的客戶群體。 “我們?yōu)槲覀儞碛刑貏e先進(jìn)的 2PP 技術(shù)而感到自豪,憑借我們的技術(shù)支持,我們的客戶實(shí)現(xiàn)了一個(gè)又一個(gè)突破性創(chuàng)新想法。我們是一家充滿活力、屢獲殊榮的公司,與客戶保持良好密切的合作關(guān)系是我們保持優(yōu)于市場(chǎng)地位的關(guān)鍵” Nanoscribe 聯(lián)合創(chuàng)始人兼首席執(zhí)行官 Martin Hermatschweiler 表示;2PP 微納加工技術(shù)方面的專業(yè)知識(shí),Nanoscribe為前列科學(xué)研究和工業(yè)創(chuàng)新提供強(qiáng)大的技術(shù)支持,并推動(dòng)生物打印、微流體、微納光學(xué)、微機(jī)械、生物醫(yī)學(xué)工程和集成光子學(xué)技術(shù)等不同領(lǐng)域的發(fā)展。 “我們非常期待加入 CELLINK 集團(tuán),共同探索雙光子聚合技術(shù)在未來所帶來的更大機(jī)遇”Martin Hermatschweiler 說道。江蘇工業(yè)級(jí)Nanoscribe工藝

 

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