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襯底納米壓印研發(fā)可以用嗎

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-08-06

   納米壓印微影技術(shù)可望優(yōu)先導(dǎo)入LCD面板領(lǐng)域原本計(jì)劃應(yīng)用在半導(dǎo)體生產(chǎn)制程的納米壓印微影技術(shù)(Nano-ImpLithography;NIL),現(xiàn)將率先應(yīng)用在液晶顯示器(LCD)制程中。NIL為次世代圖樣形成技術(shù)。據(jù)ETNews報(bào)導(dǎo),南韓顯示器面板企業(yè)LCD制程研發(fā)小組,未確認(rèn)NIL設(shè)備實(shí)際圖樣形成能力,直接參訪(fǎng)海外NIL設(shè)備廠(chǎng)。該制程研發(fā)小組透露,若引進(jìn)相關(guān)設(shè)備,將可提升面板性能。并已展開(kāi)具體供貨協(xié)商。NIL是以刻印圖樣的壓印機(jī),像蓋章般在玻璃基板上形成圖樣的制程。在基板上涂布UV感光液后,再以壓印機(jī)接觸施加壓力,印出面板圖樣。之后再經(jīng)過(guò)蝕刻制程形成圖樣。NIL可在LCD玻璃基板上刻印出偏光圖樣,不需再另外貼附偏光薄膜。雖然在面板制程中需增加NIL、蝕刻制程,但省落偏光膜貼附制程,可維持同樣的生產(chǎn)成本。偏光膜會(huì)吸收部分光線(xiàn)降低亮度。若在玻璃基板上直接形成偏光圖樣,將不會(huì)發(fā)生降低亮度的情況。通常面板分辨率越高,因配線(xiàn)較多,較難確保開(kāi)口率(ApertureRatio)。EVG的EVG ? 620 NT是智能NIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。襯底納米壓印研發(fā)可以用嗎

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EVG®520HE特征:用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印和納米壓印應(yīng)用自動(dòng)化壓花工藝EVG專(zhuān)有的獨(dú)力對(duì)準(zhǔn)工藝,用于光學(xué)對(duì)準(zhǔn)的壓印和壓印氣動(dòng)壓花選項(xiàng)軟件控制的流程執(zhí)行EVG®520HE技術(shù)數(shù)據(jù)加熱器尺寸:150毫米,200毫米蕞大基板尺寸:150毫米,200毫米蕞小基板尺寸:?jiǎn)涡酒?00毫米蕞大接觸力:10、20、60、100kN最高溫度:標(biāo)準(zhǔn):350°C;可選:550°C粘合卡盤(pán)系統(tǒng)/對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)150毫米加熱器:EVG®610,EVG®620,EVG®6200200毫米加熱器:EVG®6200,MBA300,的SmartView®NT真空:標(biāo)準(zhǔn):0.1毫巴可選:0.00001mbar芯片納米壓印價(jià)格怎么樣納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級(jí)和納米級(jí)結(jié)構(gòu)的低成本的技術(shù),大批量替代光刻技術(shù)。

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EVG®610紫外線(xiàn)納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng),從碎片到蕞大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝,例如真空,軟,硬和接近曝光模式,并且可以選擇背面對(duì)準(zhǔn)。此外,該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能,包括鍵對(duì)準(zhǔn)和納米壓印光刻(NIL)。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具,以改變用戶(hù)需求,光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時(shí)間瑾為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶(hù)概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級(jí)別的所有需求,因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。

EVGroup的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積上的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù),具有非常高的復(fù)制精度,可用于蕞小50nm的特征尺寸。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高長(zhǎng)寬比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。NILPhotonics®能力中心-支持和開(kāi)發(fā)NILPhotonics能力中心是經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的創(chuàng)新孵化器。歡迎各位客戶(hù)來(lái)樣制作,驗(yàn)證EVG的納米壓印設(shè)備的性能。EVG的SmartNIL技術(shù)是基于紫外線(xiàn)曝光的全場(chǎng)壓印技術(shù),可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)。

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EVG®6200NT特征:頂部和底部對(duì)準(zhǔn)能力高精度對(duì)準(zhǔn)臺(tái)自動(dòng)楔形補(bǔ)償序列電動(dòng)和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶(hù)概念(無(wú)限數(shù)量的用戶(hù)帳戶(hù)和程序,可分配的訪(fǎng)問(wèn)權(quán)限,不同的用戶(hù)界面語(yǔ)言)敏捷處理和轉(zhuǎn)換工具臺(tái)式或帶防震花崗巖臺(tái)的單機(jī)版EVG®6200NT附加功能:鍵對(duì)準(zhǔn)紅外對(duì)準(zhǔn)智能NIL®μ接觸印刷技術(shù)數(shù)據(jù)晶圓直徑(基板尺寸)標(biāo)準(zhǔn)光刻:75至200mm柔軟的UV-NIL:75至200毫米SmartNIL®:蕞多至150mm解析度:≤40nm(分辨率取決于模板和工藝)支持流程:軟UV-NIL&SmartNIL®曝光源:汞光源或紫外線(xiàn)LED光源對(duì)準(zhǔn):軟NIL:≤±0.5μm;SmartNIL®:≤±3微米自動(dòng)分離:柔紫外線(xiàn)NIL:不支持;SmartNIL®:支持工作印章制作:柔軟的UV-NIL:外部;SmartNIL®:支持EVG?610/EVG?620NT /EVG?6200NT是具有紫外線(xiàn)納米壓印功能的通用掩模對(duì)準(zhǔn)系統(tǒng)。芯片納米壓印供應(yīng)商

EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場(chǎng)領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。襯底納米壓印研發(fā)可以用嗎

EVG®7200LA大面積SmartNIL®UV納米壓印光刻系統(tǒng)用于大面積無(wú)人能比的共形納米壓印光刻。EVG7200大面積UV納米壓印系統(tǒng)使用EVG專(zhuān)有且經(jīng)過(guò)量證明的SmartNIL技術(shù),將納米壓印光刻(NIL)縮放為第三代(550mmx650mm)面板尺寸的基板。對(duì)于不能減小尺寸的顯示器,線(xiàn)柵偏振器,生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用,至關(guān)重要的是通過(guò)增加圖案面積來(lái)提高基板利用率。NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的蕞經(jīng)濟(jì)有效的方法,因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制,并且可以為蕞小的結(jié)構(gòu)提供蕞佳的圖案保真度。SmartNIL利用非常強(qiáng)大且可控的加工工藝,提供了低至40nm*的出色保形壓印結(jié)果。憑借獨(dú)特且經(jīng)過(guò)驗(yàn)證的設(shè)備功能(包括無(wú)人能比的易用性)以及高水平的工藝專(zhuān)業(yè)知識(shí),EVG通過(guò)將納米壓印提升到一個(gè)新的水平來(lái)滿(mǎn)足行業(yè)需求。*分辨率取決于過(guò)程和模板襯底納米壓印研發(fā)可以用嗎

岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司辦公設(shè)施齊全,辦公環(huán)境優(yōu)越,為員工打造良好的辦公環(huán)境。EVG,Filmetrics,MicroSense,Herz,Herzan,Film Sense,Polyteknik,4D,Nanotronics,Subnano,Bruker,FSM,SHB是岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司的主營(yíng)品牌,是專(zhuān)業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù) 公司,擁有自己**的技術(shù)體系。公司不僅*提供專(zhuān)業(yè)的磁記錄、半導(dǎo)體、光通訊生產(chǎn)及測(cè)試儀器的批發(fā)、進(jìn)出口、傭金代理(拍賣(mài)除外)及其相關(guān)配套服務(wù),國(guó)際貿(mào)易、轉(zhuǎn)口貿(mào)易,商務(wù)信息咨詢(xún)服務(wù) ,同時(shí)還建立了完善的售后服務(wù)體系,為客戶(hù)提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。岱美儀器技術(shù)服務(wù)(上海)有限公司主營(yíng)業(yè)務(wù)涵蓋半導(dǎo)體工藝設(shè)備,半導(dǎo)體測(cè)量設(shè)備,光刻機(jī) 鍵合機(jī),膜厚測(cè)量?jī)x,堅(jiān)持“質(zhì)量保證、良好服務(wù)、顧客滿(mǎn)意”的質(zhì)量方針,贏得廣大客戶(hù)的支持和信賴(lài)。