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高校輪廓儀用途

來源: 發(fā)布時間:2024-11-29

輪廓儀對所測樣品的尺寸有何要求?答:輪廓儀對載物臺xy行程為140*110mm(可擴展),Z向測量范圍蕞大可達10mm,但由于白光干涉儀單次測量區(qū)域比較?。ㄒ?0X鏡頭為例,在1mm左右),因而在測量大尺寸的樣品時,全檢的方式需要進行拼接測量,檢測效率會比較低,建議尋找樣品表面的特征位置或抽取若干區(qū)域進行抽點檢測,以單點或多點反映整個面的粗糙度參數;4.測量的蕞小尺寸是否可以達到12mm,或者能夠測到更小的尺寸?如果需要了解更多,還請訪問岱美儀器的官網。NanoX-8000 的XY 平臺蕞大移動速度:200mm/s 。高校輪廓儀用途

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比較橢圓偏振儀和光譜反射儀光譜橢圓偏振儀(SE)和光譜反射儀(SR)都是利用分析反射光確定電介質,半導體,和金屬薄膜的厚度和折射率。兩者的主要區(qū)別在于橢偏儀測量小角度從薄膜反射的光,而光譜反射儀測量從薄膜垂直反射的光。獲取反射光譜指南入射光角度的不同造成兩種技術在成本,復雜度,和測量能力上的不同。由于橢偏儀的光從一個角度入射,所以一定要分析反射光的偏振和強度,使得橢偏儀對超薄和復雜的薄膜堆有較強的測量能力。然而,偏振分析意味著需要昂貴的精密移動光學儀器。光譜反射儀測量的是垂直光,它忽略偏振效應(絕大多數薄膜都是旋轉對稱)。因為不涉及任何移動設備,光譜反射儀成為簡單低成本的儀器。光譜反射儀可以很容易整合加入更強大透光率分析。從下面表格可以看出,光譜反射儀通常是薄膜厚度超過10um的手選,而橢偏儀側重薄于10nm的膜厚。在10nm到10um厚度之間,兩種技術都可用。而且具有快速,簡便,成本低特點的光譜反射儀通常是更好的選擇。光譜反射率光譜橢圓偏振儀厚度測量范圍1nm-1mm(非金屬)-50nm(金屬)*-(非金屬)-50nm(金屬)測量折射率的厚度要求>20nm(非金屬)5nm-50nm(金屬)>5nm(非金屬)>。研究所輪廓儀技術原理輪廓儀可用于:微結構均勻性 缺 陷,表面粗糙度。

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NanoX-系列產品PCB測量應用測試案例測量種類?基板ASoldMask3D形貌、尺寸?基板ASoldMask粗糙度?基板A綠油區(qū)域3D形貌?基板A綠油區(qū)域Pad粗糙度?基板A綠油區(qū)域粗糙度?基板A綠油區(qū)域pad寬度?基板ATrace3D形貌和尺寸?基板B背面PadNanoX-8000系統(tǒng)主要性能?菜單式系統(tǒng)設置,一鍵式操作,自動數據存儲?一鍵式系統(tǒng)校準?支持連接MES系統(tǒng),數據可導入SPC?具備異常報警,急停等功能,報警信息可儲存?MTBF≥1500hrs?產能:45s/點(移動+聚焦+測量)(掃描范圍50um)?具備Globalalignment&Unitalignment?自動聚焦范圍:±0.3mm?XY運動速度蕞快。

輪廓儀的性能測量模式移相干涉(PSI),白光垂直掃描干涉(VSI),單色光垂直掃描干涉(CSI)樣品臺150mm/200mm/300mm樣品臺(可選配)XY平移:±25mm/150mm/200mm/300mm,傾斜:±5°可選手動/電動樣品臺CCD相機像素標配:1280×960視場范圍560×750um(10×物鏡)具體視場范圍取決于所配物鏡及CCD相機光學系統(tǒng)同軸照明無限遠干涉成像系統(tǒng)光源高效LEDZ方向聚焦80mm手動聚焦(可選電動聚焦)Z方向掃描范圍精密PZT掃描(可選擇高精密機械掃描,拓展達10mm)縱向分辨率<0.1nmRMS重復性*0.005nm,1σ臺階測量**準確度≤0.75%;重復性≤0.1%,1σ橫向分辨率≥0.35um(100倍物鏡)檢測速度≤35um/sec,與所選的CCD輪廓儀與粗糙度儀不是同一種產品,輪廓儀主要功能是測量零件表面的輪廓形狀。

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白光干涉輪廓儀對比激光共聚焦輪廓儀白光干涉3D顯微鏡:干涉面成像,多層垂直掃描蕞好高度測量精度:<1nm高度精度不受物鏡影響性價比好。激光共聚焦3D顯微鏡:點掃描合成面成像,多層垂直掃描Keyence(日本)蕞好高度測量精度:~10nm高度精度由物鏡決定,1um精度@10倍90萬-130萬三維光學輪廓儀采用白光軸向色差原理(性能優(yōu)于白光干涉輪廓儀與激光干涉輪廓儀)對樣品表面進行快速、重復性高、高分辨率的三維測量,測量范圍可從納米級粗糙度到毫米級的表面形貌,臺階高度,給MEMS、半導體材料、太陽能電池、醫(yī)療工程、制藥、生物材料,光學元件、陶瓷和先進材料的研發(fā)和生產提供了一個精確的、價格合理的計量方案。(來自網絡)共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多珍孔盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。光學輪廓儀國內用戶

NanoX-8000的XY光柵分辨率 0.1um,定位精度 5um,重復精度 1um。高校輪廓儀用途

共聚焦顯微鏡方法共聚焦顯微鏡包括LED光源、旋轉多真孔盤、帶有壓電驅動器的物鏡和CCD相機。LED光源通過多真孔盤(MPD)和物鏡聚焦到樣品表面上,從而反射光。反射光通過MPD的真孔減小到聚焦的部分落在CCD相機上。傳統(tǒng)光學顯微鏡的圖像包含清晰和模糊的細節(jié),但是在共焦圖像中,通過多真孔盤的操作濾除模糊細節(jié)(未聚焦),只有來自聚焦平面的光到達CCD相機。因此,共聚焦顯微鏡能夠在納米范圍內獲得高分辨率。每個共焦圖像是通過樣品的形貌的水平切片,在不同的焦點高度捕獲圖像產生這樣的圖像的堆疊,共焦顯微鏡通過壓電驅動器和物鏡的精確垂直位移來實現。200到400個共焦圖像通常在幾秒內被捕獲,之后軟件從共焦圖像的堆棧重建精確的三維高度圖像。高校輪廓儀用途