【光學(xué)鍍膜之何為化學(xué)氣相蒸鍍，主要的優(yōu)缺點有哪些】 化學(xué)氣相蒸鍍乃使用一種或多種氣體，在一加熱的固體基材上發(fā)生化學(xué)反應(yīng)，并鍍上一層固態(tài)薄膜。 優(yōu)點: (1)真空度要求不高，甚至可以不需要真空，例如熱噴覆 (2)沉積速率快，大氣CVD可以達到1μm/min (3)與PVD比較的話?；瘜W(xué)量論組成或合金的鍍膜較容易達成 (4)鍍膜的成份多樣化，如金屬、非金屬、半導(dǎo)體、光電材料、鉆石薄膜等等 (5)可以在復(fù)雜形狀的基材鍍膜，甚至滲入多孔的陶瓷 (6)厚度的均勻性良好，低壓CVD甚至可以同時鍍數(shù)十芯片 缺點: (1)熱力學(xué)及化學(xué)反應(yīng)機制不易了解或不甚了解 (2)需要在高溫下進行，有些基材不能承受，甚至和鍍膜產(chǎn)生作用 (3)反應(yīng)氣體可能具腐蝕性、毒性或baozha性，處理時需小心 (4)反應(yīng)生成物可能殘余在鍍膜上，成為雜質(zhì) (5)基材的遮蔽很難 光學(xué)鍍膜機技術(shù)教程。上海萊寶光學(xué)鍍膜機說明書

【光學(xué)鍍膜機維護與保養(yǎng)之光路的檢修與維護】光路調(diào)整的先決條件是：確保直流穩(wěn)定電源、調(diào)制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚測量儀的接地點，必須單獨歸至主機接點牢固接地。 導(dǎo)磁板及掃描圈的維護：導(dǎo)磁板及永磁鐵是不需要經(jīng)常拆卸維護，如需拆卸，請注意永磁鐵的極向，及導(dǎo)磁板的方向。線圈由于安裝的空間密實，請不要使用硬尖的東西撬動，否則有可能會造成損壞。 湖北光學(xué)鍍膜機 otfc光學(xué)鍍膜機真空度多少？

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實際應(yīng)用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測量得出只有85%了,那就可以把這個濾光片的光學(xué)透過率定為(Tp)>80%。 半帶寬(FWHM): 簡單說就是*高透過率的1/2處所對應(yīng)的波長,左右波長值相減,例如,峰值*好是90%,1/2就是45%,45%所對應(yīng)的左右波長是875nm和825nm,那半帶寬就是50nm。 截止率(Blocking): 截止區(qū)所對應(yīng)的透過率.由于要想透過率達到零,那是非常難的事情,只能選擇它透過率接近于零，但通常透過率達到10的負(fù)5次方以上就可以滿足大部分使用要求，通常轉(zhuǎn)換為光學(xué)密度值，用OD>5表示。 截止波段: 可接受的不需要的波長*小區(qū)間范圍，由于多數(shù)電子成像用的感光器件的響應(yīng)范圍是350-950nm,在實際中確定范圍稍稍比這個區(qū)間寬一點即可。紫外及紅外的截止范圍確定比這個要繁雜一些，需要根據(jù)使用的探頭響應(yīng)范圍來確定。

【光學(xué)鍍膜之蒸發(fā)源的類型和特點】 ①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì) 。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料。 ②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)。 ③電子束加熱源：用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000℃）的材料。 特點：能在金屬、半導(dǎo)體、絕緣體甚至塑料、紙張、織物表面上沉積金屬、半導(dǎo)體、絕緣體、不同成分比的合金、化合物及部分有基聚合物等的薄膜，其適用范圍之廣是其它方法無法與之比擬的?？梢圆煌某练e速率、不同的基板溫度和不同的蒸氣分子入射角蒸鍍成膜，因而可得到不同顯微結(jié)構(gòu)和結(jié)晶形態(tài)（單晶、多晶或非晶等）的薄膜； 薄膜的純度很高；易于在線檢測和控制薄膜的厚度與成分；厚度控制精度*高可達單分子層量級。 光學(xué)鍍膜機國內(nèi)有哪些產(chǎn)商？

【減反射膜的原理】 減反射膜是以光的波動性和干涉現(xiàn)象為基礎(chǔ)的。二個振幅相同，波長相同的光波疊加，那么光波的振幅增強；如果二個光波原由相同，波程相差，如果這二個光波疊加，那么互相抵消了。 1）振幅條件：膜層材料的折射率必須等于鏡片片基材料折射率的平方根。 2）位相條件：膜層厚度應(yīng)為基準(zhǔn)光的1/4波長。d=λ/4 λ=555nm時，d=555/4=139nm 對于減反射膜層，許多眼鏡片生產(chǎn)商采用人眼敏感度較高的光波（波長為555nm)。當(dāng)鍍膜的厚度過?。ā?39nm),反射光會顯出淺棕黃色，如果呈藍色則表示鍍膜的厚度過厚（ 〉139nm）。鍍膜反射膜層的目的是要減少光線的反射，但并不可能做到?jīng)]有反射光線。鏡片的表面也總會有殘留的顏色，我們也會發(fā)現(xiàn)殘留顏色在鏡片凸面與凹面的曲率不同也使鍍膜的速度不同，因此在鏡片中yang部分呈綠色，而在邊緣部分則為淡紫紅色或其它顏色。 3）鍍減反射膜技術(shù) ：有機鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300 °C以上的高溫，而有機鏡片在超過100 °C時便會發(fā)黃，隨后很快分解。 光學(xué)鍍膜機廠家排名。上海2017年光學(xué)鍍膜機國際招標(biāo)

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【光學(xué)鍍膜的理論】 　　鍍膜控制穿過光學(xué)干涉機制的反射光和透射光。當(dāng)兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當(dāng)光束為反相位(180°位移)時，其疊加會導(dǎo)致在所有峰值的消減效應(yīng)，導(dǎo)致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。 　　光的波長和入射角通常是指定的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應(yīng)可簡單地通過單層增透膜例子說明。 　　當(dāng)光傳輸穿過系統(tǒng)時，在鍍膜任一側(cè)的兩個接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了使反射Z小化，當(dāng)兩個反射部分在diyi界面處結(jié)合時，我們希望它們之間具有180°相位差。這個相位差異直接對應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學(xué)厚度設(shè)置為λ/4獲得Z佳實現(xiàn)。 　　必須考慮到的Z后一個參數(shù)是膜層的入射角。如果光的入射角改變，則每層的內(nèi)角和光程長度都將受到影響;這將影響反射光束的相位變化量。使用非一般入射時，S偏振光和P偏振光將從每個界面互相反射，這將導(dǎo)致兩個偏振光具有不同的光學(xué)性能。偏振分光計就是基于這一原理設(shè)計的。 上海萊寶光學(xué)鍍膜機說明書

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