【濺射的四要素】:①靶材物質(zhì),②電磁場(chǎng),③底物,④一整套完整配備的鍍膜設(shè)備 【濺射收益】:1)離子每一次撞擊靶材時(shí),靶材所釋放出的靶材原子;2)影響濺射收益的因素: ①等離子體中離子動(dòng)能, ②入射離子的入射角度; 3)Zui大濺射收益的決定因素:①入射角度在45°&50°左右,②取決于靶材物質(zhì); 4)入射角度的影響因素 ①由電場(chǎng)決定,②靶材表面于入射源的相對(duì)角度。 【濺射率】: 定義:每單位時(shí)間內(nèi)靶材物質(zhì)所釋放出的原子個(gè)數(shù)。 濺射率的影響因素:①離子動(dòng)能(取決于電源電壓和氣體壓力)②等離子密度(取決于氣體壓力和電流)。統(tǒng)計(jì)學(xué)公式:Rs(統(tǒng)計(jì)學(xué))=d/t。 注:濺射原子溢出角度大部分在0~10度之間,因此在腔室內(nèi)所有區(qū)域都可能被鍍上一層膜,久之會(huì)產(chǎn)生污染。所以真空濺射腔室內(nèi)必須進(jìn)行定期清潔。 真空鍍膜設(shè)備技術(shù)教程。北京pvd真空鍍膜設(shè)備公司
【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之其他情況】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類(lèi)不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過(guò)加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過(guò)后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之其他情況: 對(duì)于用錯(cuò)程序,錯(cuò)誤操作(預(yù)熔未關(guān)閉擋板等)人為中斷需要補(bǔ)救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補(bǔ)救的情況處理方案: 模擬:將實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過(guò)計(jì)算機(jī)模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認(rèn)),找到與實(shí)現(xiàn)測(cè)試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。 優(yōu)化:根據(jù)模擬得到的膜系數(shù)據(jù),輸入產(chǎn)品要求的優(yōu)化目標(biāo)值,通過(guò)加層、優(yōu)化后續(xù)膜層的方法,重新優(yōu)化設(shè)計(jì)一個(gè)補(bǔ)救膜系。 試鍍:確認(rèn)、完善補(bǔ)救膜系效果 補(bǔ)救鍍:完成補(bǔ)救工作 北京pvd真空鍍膜設(shè)備公司真空鍍膜設(shè)備參數(shù)怎么調(diào)?
【真空鍍膜改善基片與膜的結(jié)合】: 1. 加強(qiáng)去油去污處理,如是超聲波清洗,重點(diǎn)考慮去油,若是手擦,考慮先用碳酸鈣粉擦再清擦; 2. 加強(qiáng)鍍前烘烤; 3. 有條件時(shí),機(jī)組安裝冷凝及(POLYCOLD); 4. 提高真空度; 5. 有條件時(shí),機(jī)組安裝離子源; 6. 膜料的去潮; 7. 保持工作環(huán)境的干燥; 8. 對(duì)于多層膜,在膜系設(shè)計(jì)時(shí),就要考慮第yi層膜與基片的匹配; 9. 采取研磨液復(fù)新去除鏡片表面的腐蝕層; 10. 有時(shí)候適當(dāng)降低蒸發(fā)速率對(duì)膜強(qiáng)度的提高有幫助,對(duì)提高膜表面光滑度有積極意義。
【真空鍍膜產(chǎn)品常見(jiàn)不良分析及改善對(duì)策之膜內(nèi)白霧】: 白霧形成在膜內(nèi),無(wú)法用擦拭方法去除。 可能成因: 1. 基片臟 2. 鏡片表面腐蝕污染 3. 膜料與膜料之間、膜料與基片之間的匹配 4. 氧化物充氧不夠 5. 第yi層氧化鋯膜料,可能對(duì)某些基片產(chǎn)生白暈現(xiàn)象 6. 基片進(jìn)罩前(洗凈后)受潮氣污染 7. 洗凈或擦拭不良,洗凈痕跡,擦拭痕跡 8. 真空室臟、水汽過(guò)重 9. 環(huán)境濕度大 改善對(duì)策:基片本身的問(wèn)題可能時(shí)主要的鍍膜室盡量彌補(bǔ),鍍膜本身Zui大的可能室膜料匹配問(wèn)題。 1. 改進(jìn)膜系,第yi層不用氧化鋯 2. 盡量減少真空室開(kāi)門(mén)時(shí)間 3. 真空室在更換護(hù)板、清潔后,Zui好能空罩抽真空烘烤一下,更換的護(hù)板等真空室部件必須干燥、干凈 4. 改善環(huán)境 5. 妥善保護(hù)進(jìn)罩前在傘片上的鏡片,免受污染 6. 改善洗凈、擦拭效果 7. 改善膜匹配(考慮第yi層用Al2O3) 8. 改善膜充氧和蒸發(fā)速率(降低) 9. 加快前工程的流程。前工程對(duì)已加工光面的保護(hù)加強(qiáng)。 10. 拋光加工完成的光面,必須立即清潔干凈,不能有拋光粉或其他雜質(zhì)附著干結(jié)。 真空鍍膜設(shè)備故障維修技巧有哪些?
【真空鍍膜設(shè)備之真空的獲得】: 真空泵:真空泵是指利用機(jī)械、物理、化學(xué)或物理化學(xué)的方法對(duì)被抽容器進(jìn)行抽氣而獲得真空的器件或設(shè)備。通俗來(lái)講,真空泵是用各種方法在某一封閉空間中改善、產(chǎn)生和維持真空的裝置。 按真空泵的工作原理,真空泵基本上可以分為兩種類(lèi)型,即氣體捕集泵和氣體傳輸泵。其廣fan用于冶金、化工、食品、電子鍍膜等行業(yè)。 A、粗真空泵(Rough Vacuum Pump):一般用于抽粗真空,有油泵和 干泵。從結(jié)構(gòu)上可分幾種: 旋轉(zhuǎn)葉片泵:油泵,極限真空可達(dá)10&3Torr,抽速1~650CFM 隔膜泵:干泵,極限真空1Torr左右,抽速<10CFM 往復(fù)式活塞泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速6~32CFM 渦旋式真空泵:干泵,極限真空10&2Torr,抽速12~25CFM 螺旋泵:干泵,極限真空10&3Torr,抽速30~318CFM 真空鍍膜設(shè)備抽真空步驟。河南小型真空鍍膜設(shè)備
錦成國(guó)泰真空鍍膜設(shè)備怎么樣?北京pvd真空鍍膜設(shè)備公司
【真空蒸鍍的歷史】:1857年Michael FaradayZui早提出基本原理,而后、1930年代由于油擴(kuò)散式真空泵實(shí)用化、蒸鍍主要用于制作鏡片防反射膜。第二次世界大戰(zhàn)時(shí),其他的光學(xué)機(jī)器對(duì)材料的需求提高,真空蒸鍍也因此快速發(fā)展。 【真空蒸鍍的原理】:在真空狀態(tài)下,加熱蒸發(fā)容器中的靶材,使其原子或分子逸出,沉積在目標(biāo)物體表面,形成固態(tài)薄膜。依蒸鍍材料、基板的種類(lèi)可分為:抵抗加熱、電子束、高周波 誘導(dǎo)、雷射等加熱方式。蒸鍍材料有鋁、亞鉛、金、銀、白金、鎳等金屬材料與可產(chǎn)生光學(xué)特性薄膜的材料,主要有使用SiO2、TiO2、ZrO2、MgF2 等氧化物與氟化物。蒸鍍除金屬外,樹(shù)脂與玻璃也可以使用、近年來(lái)連紙也變成可蒸鍍。 【蒸發(fā)鍍膜的優(yōu)缺點(diǎn)】: 優(yōu)點(diǎn):設(shè)備簡(jiǎn)單、容易操作;成膜的速率快,效率高。 缺點(diǎn):薄膜的厚度均勻性不易控制,蒸發(fā)容器有污染的隱患,工藝重復(fù)性不好,附著力不高。 北京pvd真空鍍膜設(shè)備公司