【光學鍍膜機的清洗】設(shè)備使用一個星期后，因鍍料除鍍在工件表面外，亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍越厚，該層膜厚因組織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時，應(yīng)對工作室及襯板進行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可浸泡在氫氟酸水溶液里，氫氟酸和水的比例看需要浸泡時間長短以及不傷襯板為原則。 注：襯板必須烘干水份才能安裝，烘干前，襯板的水分盡量抹干，工作架等部件用砂紙清潔后，需要把真空室的所有灰塵清理干凈，此可用吸塵器吸干凈灰塵。*后安裝襯板時，真空室及襯板都需要用酒精控拭干凈。 因使用電子qiang及離子源輔助鍍膜，可能會造成清潔困難，可使用噴沙等方法來清潔。 光學鍍膜機的工作原理。河北大型光學鍍膜機廠家

【光學鍍膜之反射膜】反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜，功能是增加光學表面的反射率。 一般金屬都具有較大的消光系數(shù)。當光束由空氣入射到金屬表面時，進入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減，使得進入金屬內(nèi)部的光能相應(yīng)減少，而反射光能增加。消光系數(shù)越大，光振幅衰減越迅速，進入金屬內(nèi)部的光能越少，反射率越高。人們總是選擇消光系數(shù)較大，光學性質(zhì)較穩(wěn)定的金屬作為金屬膜材料。在紫外區(qū)常用的金屬薄材料是鋁，在可見光區(qū)常用鋁和銀，在紅外區(qū)常用金、銀和銅，此外，鉻和鉑也常作一些特種薄膜的膜料。由于鋁、銀、銅等材料在空氣中很容易氧化而降低性能，所以必須用電介質(zhì)膜加以保護。常用的保護膜材料有一氧化硅、氟化鎂、二氧化硅、三氧化二鋁等。 金屬反射膜的優(yōu)點是制備工藝簡單，工作的波長范圍寬;缺點是光損大，反射率不可能很高。為了使金屬反射膜的反射率進一步提高，可以在膜的外側(cè)加鍍幾層一定厚度的電介質(zhì)層，組成金屬電介質(zhì)反射膜。需要指出的是，金屬電介質(zhì)射膜增加了某一波長(或者某一波區(qū))的反射率，卻破壞了金屬膜中性反射的特點。 重慶電子光學鍍膜機關(guān)于光學鍍膜機，你知道多少？

【光學鍍膜法的應(yīng)用之化學鍍膜法和物理鍍膜法】 浸鍍法是唯yi可以同時制作雙面膜的方法。不過，后來的一些鏡片設(shè)計要求，不需要雙面膜。因此，必須將另一面清洗掉，增加了成本和環(huán)保的負擔。 噴鍍法則是把配置好的膜溶液裝在噴qiang上，噴在玻璃表面，并烘干和定型。玻璃載體可以是移動或旋轉(zhuǎn)，以增加膜的均勻性。可鍍雙面或單面。以此方法延生的還有一種甩膠法。將溶液滴至鏡片中心，利用鏡片高速旋轉(zhuǎn)的離心力，將溶液均勻的“拋”在表面上。以現(xiàn)在的觀點來看，化學鍍膜的好處，在于其設(shè)備投資低，因此它仍然是鍍有機膜的一種常用且成本低廉的方法。 化學鍍膜法具有價格低，操作容易等優(yōu)點，但也有相對污染較大，無法鍍多層膜的缺點。新一代的鍍膜技術(shù)改用物理方式，以真空蒸鍍、離子鍍等多種不同的形式進行。 物理鍍膜的過程是在真空條件下，利用氣體放電使工作氣體或被蒸發(fā)物質(zhì)(膜材)部分離化，在工作氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)的離子轟擊作用下，把蒸發(fā)物或其反應(yīng)物沉淀積在被鍍基片表面的過程。物理鍍膜的強度和均勻性普遍高于化學鍍膜，而且Z重要的是物理鍍膜可以進行多層鍍膜，而化學鍍膜受限于其工作原理基本只能實現(xiàn)單層鍍膜。

【光學薄膜制備技術(shù)之物理qi相學沉積(PVD)】 物理qi相沉積法，簡單地說是在真空環(huán)境中加熱薄膜材料使其成為蒸汽，蒸汽再凝結(jié)到溫度相對低的基片上形成薄膜。根據(jù)膜料汽化方式的不同，又分為熱蒸發(fā)、濺射、離子鍍及離子輔助鍍技術(shù)。 1) 熱蒸發(fā)：光學薄膜器件主要采用真空環(huán)境下的熱蒸發(fā)方法制造，此方法簡單、經(jīng)濟、操作方便。 2) 濺射：指用高速正離子轟擊膜料(靶)表面，通過動量傳遞，使其分子或原子獲得足夠的動能而從靶表面逸出(濺射)，在被鍍件表面凝聚成膜。其膜層附著力強，純度高，可同時濺射多種不同成分的合金膜或化合物。 3) 離子鍍：兼有熱蒸發(fā)的高成膜速率和濺射高能離子轟擊獲得致密膜層的雙優(yōu)效果，離子鍍膜層附著力強、致密。離子鍍常見類型:蒸發(fā)源和離化方式。 4) 離子輔助鍍：在熱蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中增設(shè)離子發(fā)生器—離子源，產(chǎn)生離子束，在熱蒸發(fā)進行的同時，用離子束轟擊正在生長的膜層，形成致密均勻結(jié)構(gòu)(聚集密度接近于1)，使膜層的穩(wěn)定性提高，達到改善膜層光學和機械性能。 光學鍍膜機詳細鍍膜方法。

【光學薄膜的研究新進展之金剛石薄膜及類金剛石薄膜】金剛石被認為是自然界中*硬的物質(zhì)。在自然界中，碳以3種同位素異型體的形式存在，非晶態(tài)的炭黑、六方片狀結(jié)構(gòu)的石墨和立方體的金剛石。金剛石薄膜具有高硬度、高密度、熱導率高、全波段透光率高、高絕緣、抗輻射、化學惰性強和耐高溫、彈性模量大，摩擦系數(shù)jin為0.05。金剛石薄膜的高熱導率、高摩擦系數(shù)和良好的透光性也使其常作為導彈的整流罩材料。 類金剛石(diamond-likecarbon，DLC)薄膜是碳的一種非晶態(tài)，它含有大量的sp3鍵，硬度超過金剛石硬度20%的絕緣硬質(zhì)無定形碳膜，被稱為類金剛石膜，類金剛石膜具有高硬度、高電阻率、熱傳導率高、化學惰性強、良好的光學性能等，同時又具有自身獨特摩擦學特性的非晶碳膜。隨著人們研究的深入，人們發(fā)現(xiàn)類金剛石膜具有很大的研究價值和廣fan的應(yīng)用前景，引起學術(shù)界極大興趣。美國已經(jīng)將類金剛石薄膜材料作為國家21世紀的戰(zhàn)略材料之一。 光學鍍膜機廠家qian十。重慶電子光學鍍膜機

光學鍍膜機的主要應(yīng)用。河北大型光學鍍膜機廠家

【光學鍍膜的理論】 　　鍍膜控制穿過光學干涉機制的反射光和透射光。當兩個光束沿著同步路徑傳輸及其相位匹配時，波峰值的空間位置也匹配并將結(jié)合創(chuàng)建較大的總振幅。當光束為反相位(180°位移)時，其疊加會導致在所有峰值的消減效應(yīng)，導致結(jié)合的振幅降低。這些效應(yīng)被分別稱為建設(shè)性和破壞性的干涉。 　　光的波長和入射角通常是指定的，折射率和層厚度則可以有所不同以優(yōu)化性能。上述的任何更改將會影響鍍膜內(nèi)光線的路徑長度，并將在光透射時改變相位值。這種效應(yīng)可簡單地通過單層增透膜例子說明。 　　當光傳輸穿過系統(tǒng)時，在鍍膜任一側(cè)的兩個接口指數(shù)更改處將出現(xiàn)反射。為了使反射Z小化，當兩個反射部分在diyi界面處結(jié)合時，我們希望它們之間具有180°相位差。這個相位差異直接對應(yīng)于aλ/2位移的正弦波，它可通過將層的光學厚度設(shè)置為λ/4獲得Z佳實現(xiàn)。 　　必須考慮到的Z后一個參數(shù)是膜層的入射角。如果光的入射角改變，則每層的內(nèi)角和光程長度都將受到影響;這將影響反射光束的相位變化量。使用非一般入射時，S偏振光和P偏振光將從每個界面互相反射，這將導致兩個偏振光具有不同的光學性能。偏振分光計就是基于這一原理設(shè)計的。 河北大型光學鍍膜機廠家