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北京uv真空鍍膜設(shè)備

來源: 發(fā)布時(shí)間:2021-12-04

【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之其他情況】: 分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測(cè)試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對(duì)于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯(cuò)誤中斷)造成的分光不良,一般都可以通過后續(xù)努力補(bǔ)救。后續(xù)方法正確,補(bǔ)救成功率比較高。 中斷的原因形式之其他情況: 對(duì)于用錯(cuò)程序,錯(cuò)誤操作(預(yù)熔未關(guān)閉擋板等)人為中斷需要補(bǔ)救的;以及反光膜、濾光膜鍍后需要補(bǔ)救的情況處理方案: 模擬:將實(shí)測(cè)分光數(shù)據(jù)輸入計(jì)算機(jī)膜系設(shè)計(jì)程序的優(yōu)化目標(biāo)值。通過計(jì)算機(jī)模擬(一般是Zui后一層的膜厚確認(rèn)),找到與實(shí)現(xiàn)測(cè)試值結(jié)果相應(yīng)的膜系數(shù)據(jù)。 優(yōu)化:根據(jù)模擬得到的膜系數(shù)據(jù),輸入產(chǎn)品要求的優(yōu)化目標(biāo)值,通過加層、優(yōu)化后續(xù)膜層的方法,重新優(yōu)化設(shè)計(jì)一個(gè)補(bǔ)救膜系。 試鍍:確認(rèn)、完善補(bǔ)救膜系效果 補(bǔ)救鍍:完成補(bǔ)救工作 真空鍍膜設(shè)備公司排名。北京uv真空鍍膜設(shè)備

【真空鍍膜設(shè)備的分類】: 這個(gè)問題如果在十年之前,其實(shí)是很容易回答的,就是兩個(gè)大類,物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備?,F(xiàn)在這樣回答也是沒錯(cuò)的,但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了,所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類: 傳統(tǒng)光學(xué)器件(鏡片,濾光片)所用的鍍膜設(shè)備:?jiǎn)吻惑w或多腔體蒸發(fā)式鍍膜設(shè)備,濺射式鍍膜設(shè)備。 新材料領(lǐng)域的柔性設(shè)備:卷對(duì)卷柔性鍍膜設(shè)備。 光通訊行業(yè):離子束濺射鍍膜設(shè)備。 半導(dǎo)體及相似工藝:化學(xué)氣相沉積設(shè)備。 功能膜:多弧離子鍍?cè)O(shè)備,濺射設(shè)備,蒸發(fā)設(shè)備 玻璃工藝:濺射式連續(xù)線 其余的就得歸到“工藝定制設(shè)備”這個(gè)范圍里面了,例如車燈鍍膜設(shè)備,太陽能的共蒸發(fā)設(shè)備,光纖鍍膜設(shè)備,太陽能管設(shè)備等等 山西高真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備升級(jí)改造。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之單片膜色不均勻】: 原因:主要是由于基片凹凸嚴(yán)重,與傘片曲率差異較大,基片上部、或下部法線與蒸發(fā)源構(gòu)成的蒸發(fā)角差異較大。造成一片鏡片上各部位接受膜料的條件差異大,形成的膜厚差異大。另外鏡片被鏡圈(碟片)邊緣部遮擋、鏡圈(碟片)臟在蒸鍍時(shí)污染鏡片等也會(huì)造成膜色差異問題。 改善對(duì)策:改善鏡片邊緣的蒸發(fā)角 1. 條件許可,用行星夾具 2. 選用傘片平坦(R大)的機(jī)臺(tái) 3. 根據(jù)傘片孔位分布,基片形狀,制作專門的鋸齒形修正板。 4. 如果有可能,把蒸發(fā)源往真空室中間移動(dòng),也可改善單片的膜色均勻性。 5. 改善鏡圈(碟片),防止遮擋。 6. 注意旋轉(zhuǎn)傘架的相應(yīng)部位對(duì)邊緣鏡片的部分遮擋 7. 清潔鏡圈(碟片) 8. 改善膜料蒸發(fā)狀況。

【真空鍍膜設(shè)備之低溫泵】: 低溫泵:低溫泵分為注入式液氦低溫泵和閉路循環(huán)氣氦制冷機(jī)低溫泵兩種。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,工作方式為氣體捕集。極限真空&6~&9Torr。 用低溫介質(zhì)將抽氣面冷卻到20K 以下,抽氣面就能大量冷凝沸點(diǎn)溫度比該抽氣面溫度高的氣體,產(chǎn)生很大的抽氣作用。這種用低溫表面將氣體冷凝而達(dá)到抽氣目的的泵叫做低溫泵,或稱冷凝泵。低溫泵可以獲得抽氣速率Zui大、極限壓力Zui低的清潔真空,guang泛應(yīng)用于半導(dǎo)體和集成電路的研究和生產(chǎn),以及分子束研究、真空鍍膜設(shè)備、真空表面分析儀器、離子注入機(jī)和空間模擬裝置等方面。 真空鍍膜設(shè)備真空四個(gè)階段。

【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對(duì)策之膜臟】: 顧名思義,膜層有臟。一般的膜臟發(fā)生在膜內(nèi)或膜外。臟也可以包括:灰塵點(diǎn)、白霧、油斑、指紋印、口水點(diǎn)等。 改善對(duì)策:檢討過程,杜絕臟污染。 1. 送交洗凈或擦拭的鏡片不要有過多的不良附著物。 2. 加強(qiáng)鍍前鏡片的洗凈率或擦凈率。 3. 改善上傘后待鍍膜鏡片的擺放環(huán)境,防止污染。 4. 養(yǎng)成上傘作業(yè)員的良好習(xí)慣,防止鏡片污染。 5. 加快真空室護(hù)板更換周期。 6. 充氣管道清潔,防止氣體充入時(shí)污染。 7. 初始排期防渦流(湍流),初始充氣防過充。 8. 鏡片擺放環(huán)境和搬運(yùn)過程中避免油污、水汽。 9. 工作環(huán)境改造成潔凈車間。 10. 將鍍膜機(jī)作業(yè)面板和主機(jī)隔開,減少主機(jī)產(chǎn)生的有害物質(zhì)污染鏡片。真空鍍膜設(shè)備哪個(gè)牌子的好?四川真空鍍膜設(shè)備jiage

真空鍍膜設(shè)備的工作原理。北京uv真空鍍膜設(shè)備

【真空鍍膜設(shè)備之真空的測(cè)量】: 真空計(jì): A、熱偶規(guī)、皮拉尼規(guī)、對(duì)流規(guī): 用來測(cè)粗真空的真空計(jì),從大氣到1E&5Torr,精度一般在10%,皮拉尼規(guī)精度高的可到5%, 反應(yīng)較慢,受溫度變化的影響較大。 B、離子規(guī): 用來測(cè)高真空或超高真空的真空計(jì),熱燈絲的離子規(guī)測(cè)量范圍一般從1E&4到1E&9Torr,特殊的有些甚至可以低到&10甚至&11Torr,精度在10%~20%,燈絲在工作時(shí)遇到大氣會(huì)燒毀;冷陰極的離子規(guī)一般可以測(cè)到1E&11Torr,精度在20%~50%,特別是超高真空下測(cè)量精度很差,需要高壓電源,探頭內(nèi)有磁鐵,使用時(shí)不能用于某些無磁的場(chǎng)合。 C、電容式壓力計(jì): 探頭Zui大壓力從25000Torr到0.1Torr,動(dòng)態(tài)范圍大約104范圍,比如,1Torr量程的Zui低是5E&4Torr,通常精度在讀數(shù)的0.25%,可以高到0.15%。 D、寬量程真空計(jì): 皮拉尼規(guī)和熱燈絲離子規(guī)的組合,兩個(gè)規(guī)可以自動(dòng)切換,在低真空時(shí)切換到皮拉尼規(guī),高真空時(shí)可切換到離子規(guī)。北京uv真空鍍膜設(shè)備

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