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江蘇光學(xué)真空鍍膜機(jī)廠商

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-02-03

    高真空多層精密光學(xué)鍍膜機(jī)BLL-800F型常規(guī)配置;真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP300WAU1001EH1200高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng)ZUI高溫度:0到400℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器(選擇:紅外線燈管)基片架盤型號(hào):球面型(選擇:平面型,公自轉(zhuǎn),多行星型,可調(diào)角度行星盤)轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)鍍膜沉積控制系統(tǒng):晶控美國(guó)產(chǎn)IC-6,XTC-3S/M,INFICON310。石英晶體感應(yīng)器:1,2,6頭光控控制國(guó)產(chǎn)光控(或進(jìn)口光控)離子源:霍兒源(或考夫曼,RF源)電子束源:10KW180°或270°電子槍深冷系統(tǒng):真空室麥斯納阱擴(kuò)散泵冷阱全程自動(dòng)控制鍍膜以達(dá)到產(chǎn)品ZUI終所需要求。 真空鍍膜機(jī)可以提高產(chǎn)品的附加值和市場(chǎng)競(jìng)爭(zhēng)力。江蘇光學(xué)真空鍍膜機(jī)廠商

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光學(xué)真空鍍膜機(jī)的日常維護(hù)保養(yǎng)注意事項(xiàng);

維護(hù)和保養(yǎng)1保持設(shè)備所需正常工作環(huán)境,溫度不應(yīng)高于40℃,相對(duì)濕度不得大于80%,冷卻水進(jìn)水溫度不得高于25℃,水壓不得低于0.20MPa,進(jìn)出水不得低于0.1MPa給氣壓力0.5~0.6MPa。水氣壓力不夠鍍膜機(jī)會(huì)自動(dòng)停止工作。2電控柜、主機(jī),電子Q電源柜都應(yīng)25MM銅線良好接地,以保護(hù)操作者人身安全。3要每班經(jīng)常清潔真空室,避免鍍膜材料沉積污染影響正常生產(chǎn)。4保護(hù)套板勤更換清洗,保持真空室內(nèi)清潔。5高低壓接線柱,碘鎢燈接線部位,電子QQ頭應(yīng)避免鍍膜材料沉積。6經(jīng)常檢查轉(zhuǎn)動(dòng)是否正常,及時(shí)拆下清洗軸承,避免不轉(zhuǎn)。7鍍膜機(jī)在正常工作時(shí),決不允許斷水、停氣、停電。(觸摸屏有報(bào)警顯示)如突然停電,要關(guān)閉各電氣開(kāi)關(guān),強(qiáng)制通水冷卻各個(gè)泵,避免真空泵過(guò)熱。8分子泵經(jīng)較長(zhǎng)時(shí)間(4~6個(gè)月)使用或其他原因造成泵油散熱效果下降,致高真空抽速明顯下降時(shí),則需換油。9機(jī)械泵定期檢查和換油,第1次使用1個(gè)月后換油,第2次使用3個(gè)月后換油,第3次使用6個(gè)月后換油,以后定期加油。10羅茨泵定期檢查和加油。11非專業(yè)人員不要打開(kāi)主機(jī)座電控柜q電源蓋板,以防觸電!12各配套產(chǎn)品請(qǐng)仔細(xì)閱讀各自的使用說(shuō)明書(shū)。 安徽光學(xué)真空鍍膜機(jī)廠家直銷光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種高精度的設(shè)備,用于在光學(xué)元件表面上制備高質(zhì)量的薄膜。

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真空鍍膜機(jī)是一種用于在物體表面形成薄膜涂層的設(shè)備,通常在真空環(huán)境中進(jìn)行。它主要通過(guò)將工作室內(nèi)的空氣抽取,創(chuàng)造一個(gè)真空環(huán)境,然后使用不同種類的薄膜材料,如金屬或化合物,將薄膜沉積到物體表面。以下是真空鍍膜機(jī)的基本工作原理:1.真空環(huán)境的創(chuàng)建:首先,真空鍍膜機(jī)通過(guò)使用真空泵將工作室內(nèi)的空氣抽取,創(chuàng)造一個(gè)高度真空的環(huán)境。這樣可以減少氣體分子的干擾,確保薄膜沉積的均勻性。2.薄膜材料的選擇:根據(jù)所需的涂層特性和應(yīng)用,選擇適當(dāng)?shù)谋∧げ牧稀_@些材料通常是金屬(如鋁、鉻)或化合物(如氮化硅、氧化鋅)。3.薄膜的沉積:薄膜材料可以通過(guò)兩種主要的方法進(jìn)行沉積:蒸發(fā)和濺射?!ふ舭l(fā):薄膜材料被加熱至其熔點(diǎn)以上,然后蒸發(fā)并沉積在物體表面。這通常涉及加熱薄膜材料的源(靶材)以產(chǎn)生蒸氣?!R射:使用電子束或離子束等方法將薄膜材料從靶材上濺射到物體表面。這是一種更為精確控制涂層厚度和均勻性的方法。4.控制和監(jiān)測(cè):在沉積過(guò)程中需要對(duì)真空度、沉積速率以及其他參數(shù)進(jìn)行精密的控制和監(jiān)測(cè),以確保所得到的薄膜具有預(yù)期的性質(zhì)和質(zhì)量。5.結(jié)束過(guò)程:一旦涂層達(dá)到所需的厚度和性質(zhì),真空鍍膜機(jī)停止工作,物體被取出。

    光學(xué)真空鍍膜機(jī)是一種高科技的設(shè)備,它可以在真空環(huán)境下對(duì)各種材料進(jìn)行鍍膜處理,使其表面具有各種特殊的光學(xué)性能。這種設(shè)備廣泛應(yīng)用于光學(xué)、電子、通訊、航空航天等領(lǐng)域,是現(xiàn)代工業(yè)中不可或缺的一部分。我們公司的光學(xué)真空鍍膜機(jī)采用了先進(jìn)的技術(shù),具有以下特點(diǎn):1.高效率:我們的設(shè)備可以在短時(shí)間內(nèi)完成大量的鍍膜工作,提高了生產(chǎn)效率。2.高精度:我們的設(shè)備可以精確控制鍍膜的厚度和均勻性,保證了鍍膜的質(zhì)量和穩(wěn)定性。3.多功能:我們的設(shè)備可以進(jìn)行多種類型的鍍膜,包括金屬、非金屬、光學(xué)膜等,滿足了不同客戶的需求。4.易操作:我們的設(shè)備采用了人性化的設(shè)計(jì),操作簡(jiǎn)單方便,不需要專業(yè)技術(shù)人員即可上手操作。5.環(huán)保節(jié)能:我們的設(shè)備采用了先進(jìn)的真空技術(shù),不會(huì)產(chǎn)生有害物質(zhì),同時(shí)也節(jié)約了能源。我們的光學(xué)真空鍍膜機(jī)已經(jīng)通過(guò)了多項(xiàng)國(guó)際認(rèn)證,包括CE、ISO等,具有可靠性。我們的設(shè)備已經(jīng)廣泛應(yīng)用于國(guó)內(nèi)外的光學(xué)、電子、通訊、航空航天等領(lǐng)域,并得到了客戶的一致好評(píng)。如果您需要一款高效率、多功能的光學(xué)真空鍍膜機(jī),我們的產(chǎn)品將是您的理想選擇。我們將竭誠(chéng)為您提供的產(chǎn)品和服務(wù),讓您的生產(chǎn)更加高效、穩(wěn)定和可靠。如果您有任何疑問(wèn)或需求,請(qǐng)隨時(shí)聯(lián)系我們。 真空鍍膜機(jī)的鍍膜速度快,生產(chǎn)效率高。

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多弧離子真空鍍膜機(jī)BLL-1350PVD型常規(guī)配置;

真空系統(tǒng)真空泵:2X-70SV300E2M275增壓泵:ZJP600WAU2001EH2600高真空泵:分子泵低溫泵擴(kuò)散泵真空室加熱系統(tǒng):最高溫度:0到200℃型號(hào):不銹鋼管裝加熱器基片架盤型號(hào):12軸公轉(zhuǎn)或公自轉(zhuǎn),轉(zhuǎn)速:0到30轉(zhuǎn)數(shù)/分軟啟,軟停,可調(diào)速電器控制系統(tǒng):PC和PLC控制VAC系統(tǒng):進(jìn)口復(fù)合真空計(jì)MFC系統(tǒng):進(jìn)口質(zhì)量流量控制器;進(jìn)口電磁閥APC系統(tǒng)偏壓電源:直流脈沖電源濺射電源:直流脈沖電源電源;中頻電源弧源:多弧,平面,孿生,柱靶深冷系統(tǒng):DW-3全程自動(dòng)控制鍍膜,保障生產(chǎn)產(chǎn)品的一致性,重復(fù)性,穩(wěn)定性。 光學(xué)真空鍍膜機(jī)的鍍膜層具有高透過(guò)率、低反射率、高耐磨性等特點(diǎn)。福建手機(jī)鍍膜機(jī)制造

磁控濺射真空鍍膜機(jī)采用磁控濺射技術(shù),可以在真空環(huán)境下進(jìn)行鍍膜。江蘇光學(xué)真空鍍膜機(jī)廠商

真空鍍膜的厚度可以通過(guò)以下幾種方式來(lái)控制:1.時(shí)間控制法:通過(guò)控制鍍膜時(shí)間來(lái)控制膜層的厚度,一般適用于單層膜的制備。2.監(jiān)測(cè)法:通過(guò)在真空室內(nèi)安裝監(jiān)測(cè)儀器,如晶體振蕩器、光學(xué)膜厚計(jì)等,實(shí)時(shí)監(jiān)測(cè)膜層厚度,從而控制鍍膜時(shí)間和速率,適用于多層膜的制備。3.電子束控制法:通過(guò)控制電子束的功率和掃描速度來(lái)控制膜層的厚度,適用于高精度、高質(zhì)量的膜層制備。4.磁控濺射控制法:通過(guò)控制磁場(chǎng)和濺射功率來(lái)控制膜層的厚度,適用于制備金屬、合金等材料的膜層。以上方法可以單獨(dú)或結(jié)合使用,根據(jù)不同的材料和工藝要求選擇合適的控制方法。江蘇光學(xué)真空鍍膜機(jī)廠商