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浙江瓶蓋真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)貨直發(fā)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-09-30

因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi),降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少,可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。附圖說(shuō)明此處的附圖被并入說(shuō)明書(shū)中并構(gòu)成本說(shuō)明書(shū)的一部分,示出了符合本實(shí)用新型的實(shí)施例,并與說(shuō)明書(shū)一起用于解釋本實(shí)用新型的原理。為了更清楚地說(shuō)明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對(duì)實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡(jiǎn)單地介紹,顯而易見(jiàn)地,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員而言,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)性的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。圖1為本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室的結(jié)構(gòu)示意圖;圖2為圖1所示結(jié)構(gòu)中的剖視結(jié)構(gòu)示意圖;圖3為設(shè)置于第二底板底部的溫控管的結(jié)構(gòu)示意圖。圖標(biāo):10-外腔體;11-寶來(lái)利真空底板;12-寶來(lái)利真空側(cè)壁;13-傳送裝置;20-內(nèi)反應(yīng)腔;21-第二底板;22-第二側(cè)壁;23-自動(dòng)門(mén);30-密封蓋板;40-溫控管;41-恒溫控制器。具體實(shí)施方式為使本實(shí)用新型實(shí)施例的目的、技術(shù)方案和***更加清楚,下面將結(jié)合本實(shí)用新型實(shí)施例中的附圖,對(duì)本實(shí)用新型實(shí)施例中的技術(shù)方案進(jìn)行清楚、完整地描述,顯然。 品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備,請(qǐng)選丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司,有需要可以來(lái)考察!浙江瓶蓋真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)貨直發(fā)

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如圖3所示,所述溫控裝置包括溫控管40,所述溫控管40連接位于外腔體10外的恒溫控制器41。溫控管40的引入口及引出口與外部的恒溫控制器41連接,恒溫控制器41可用于恒溫制冷也可用于恒溫加熱,保證內(nèi)反應(yīng)腔20中的溫度可以持續(xù)恒定,從而使工藝反應(yīng)區(qū)域內(nèi)的工藝環(huán)境溫度更穩(wěn)定。經(jīng)過(guò)在真空鍍膜設(shè)備上的實(shí)際應(yīng)用驗(yàn)證,該真空腔體對(duì)于工藝成膜質(zhì)量及鍍膜均勻性均有十分有效的改善和提升。其中,溫控管40包括加熱管和/或冷卻管。一般情況下,在工藝反應(yīng)過(guò)程中,通常需要升溫以完成相關(guān)的工藝反應(yīng),因此,溫控管40包括必要的加熱管,而冷卻管可以根據(jù)實(shí)際的工藝需要選選擇性地添加即可。例如,若在工藝反應(yīng)過(guò)程中,需要進(jìn)行快速降溫,此時(shí)可以設(shè)置冷卻管。所述加熱管非限制性地例如可以為電加熱管、水加熱管或油加熱管。冷卻管例如可以為水冷卻管或油冷卻管。為了增加溫控效果,第二側(cè)壁22和第二底板21處均設(shè)有溫控管40。其中,所述溫控管40纏繞于所述第二側(cè)壁22的外部,且所述溫控管40鋪設(shè)于所述第二底板21的底部。除上述纏繞方式外,還可以用埋設(shè)的方式鋪設(shè)加熱管,例如,所述第二底板21內(nèi)和所述第二側(cè)壁22內(nèi)均設(shè)有用于穿設(shè)溫控管40的通道,所述溫控管40埋設(shè)于所述通道內(nèi)。 浙江風(fēng)鏡真空鍍膜設(shè)備推薦貨源品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備膜層亮度高,請(qǐng)選丹陽(yáng)市寶來(lái)利真空機(jī)電有限公司,有需要可以來(lái)咨詢(xún)考察!

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其中X射線固化技術(shù)目前還處在實(shí)驗(yàn)室階段,實(shí)際生產(chǎn)中還沒(méi)有得到應(yīng)用。目前應(yīng)用**廣的是紫外光(UV)固化涂料。它是以光引發(fā)聚合,依靠紫外光的照射,使涂料產(chǎn)生自由基,引發(fā)材料中的不飽和雙鍵等官能團(tuán)在很短暫的時(shí)間內(nèi)產(chǎn)生聚合反應(yīng),從而形成交聯(lián)式三維網(wǎng)狀高聚物,達(dá)到快速固化的目的。由于紫外光固化涂料具有固化時(shí)間短,生產(chǎn)效率高,低能耗,無(wú)溶劑,污染小等諸多***,因此在**工作得到越來(lái)越重視的***,得到了越來(lái)越***的應(yīng)用。紫外光(UV)固化涂料用樹(shù)脂以聚氨酯丙烯酸酯、環(huán)氧丙烯酸酯、聚酯丙烯酸酯等為主。目前,用于電子、汽車(chē)燈反光罩等**產(chǎn)品的鍍膜涂料,其樹(shù)脂主要來(lái)自日本合成、沙多瑪、氰特化工等國(guó)外產(chǎn)品;采用國(guó)產(chǎn)樹(shù)脂生產(chǎn)的真空鍍膜涂料,目前主要應(yīng)用于包裝品、飾品、禮品等中低端產(chǎn)品。

電磁鐵122頂出磁片223,頂蓋22離開(kāi)出氣管11口,空氣及粉塵從出氣管11排出,當(dāng)頂蓋22的動(dòng)觸點(diǎn)224與靜觸點(diǎn)123接觸時(shí),氣缸53通電,伸出伸縮軸,利用空氣壓力將擠壓管52中的水噴出,粉塵遇水沉降落入沉降管51底部,鍍膜機(jī)1內(nèi)達(dá)到相應(yīng)的真空度時(shí),反方向按下開(kāi)關(guān)13,電磁鐵122在換向器的作用下電流改變,磁極改變,產(chǎn)生與磁片223相反的磁極,電磁鐵122與磁片223相吸,此時(shí)真空泵4斷電,動(dòng)、靜觸點(diǎn)斷開(kāi),氣缸53斷電,頂蓋22緊緊地蓋在出氣管11口上。上述實(shí)施例中,開(kāi)關(guān)13為雙向開(kāi)關(guān),往一方向按下時(shí),真空泵4與電磁鐵122均通電,往另一方向按下時(shí),真空泵4斷電,電磁鐵122在換向器的作用下電流方向發(fā)生改變,產(chǎn)生相反的磁極。在進(jìn)一步的實(shí)施例中,結(jié)合圖2可得,寶來(lái)利真空連接套12遠(yuǎn)離鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有寶來(lái)利真空安裝位121;寶來(lái)利真空安裝位121位于出氣管11兩側(cè);寶來(lái)利真空安裝位121內(nèi)固定有電磁鐵122;頂蓋22靠近鍍膜機(jī)1一側(cè)設(shè)有第二安裝位222;第二安裝位222與寶來(lái)利真空安裝位121位置相對(duì)應(yīng);第二安裝位222內(nèi)固定有磁片223;電磁鐵122與磁片223分別通過(guò)膠水固定在寶來(lái)利真空安裝位121以及第二安裝位222中;利用磁鐵“同極相斥、異極相吸”的原理,控制頂蓋22的關(guān)閉和打開(kāi)。 寶來(lái)利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,鎳鉻,有需要可以咨詢(xún)!

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避免工藝污染,提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室,作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔20相對(duì)較小,因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi),降低原料的使用成本,提高原料的利用率。同時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少,可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度,使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化,進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。需要說(shuō)明的是,內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔體10內(nèi),但內(nèi)反應(yīng)腔20和外腔體10處于可連通狀態(tài),并非完全隔絕,當(dāng)對(duì)外腔體10進(jìn)行抽真空處理時(shí),內(nèi)反應(yīng)腔20內(nèi)也同時(shí)進(jìn)行抽真空操作。外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20處于相互連通的狀態(tài),只是在外腔體10內(nèi)劃分出了一個(gè)立體空間以進(jìn)行工藝反應(yīng)。本實(shí)施方式中,參照?qǐng)D2,所述外腔體10包括寶來(lái)利真空底板11和沿所述寶來(lái)利真空底板11周向設(shè)置的寶來(lái)利真空側(cè)壁12;所述內(nèi)反應(yīng)腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向設(shè)置的第二側(cè)壁22;所述寶來(lái)利真空底板11與所述第二底板21相互分離設(shè)置,所述寶來(lái)利真空側(cè)壁12與所述第二側(cè)壁22相互分離設(shè)置;寶來(lái)利真空側(cè)壁12與蓋設(shè)于所述寶來(lái)利真空側(cè)壁12上的密封蓋板30密閉連接,所述第二側(cè)壁22與所述密封蓋板30相互分離設(shè)置。該結(jié)構(gòu)中,相當(dāng)于用第二底板21和第二側(cè)壁22在外腔體10中分割出一個(gè)更小的空間。 寶來(lái)利晶圓真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來(lái)咨詢(xún)!浙江濾光片真空鍍膜設(shè)備廠商

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本實(shí)用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù):目前,真空設(shè)備,例如,pecvd(plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)和pvd(physicalvaporde****ition,物寶來(lái)利相沉積)設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過(guò)程中,如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來(lái)利真空反應(yīng)室通常為單個(gè)反應(yīng)腔室,傳動(dòng)部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個(gè)反應(yīng)腔室內(nèi),這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉,容易造成工藝環(huán)境污染。另外,設(shè)置單個(gè)反應(yīng)腔室時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大,容易造成工藝所需原料的浪費(fèi),同時(shí),還會(huì)造成工藝反應(yīng)過(guò)程中溫度波動(dòng)大,不可控因素較多,從而影響工藝過(guò)程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的寶來(lái)利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室,以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問(wèn)題。本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種包含本實(shí)用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:一種真空反應(yīng)腔室,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體。 浙江瓶蓋真空鍍膜設(shè)備現(xiàn)貨直發(fā)