1. 高效節(jié)能!新一代真空鍍膜設(shè)備助力工業(yè)升級 2. 創(chuàng)新科技!真空鍍膜設(shè)備打造超硬防護膜 3. 環(huán)保無污染!真空鍍膜設(shè)備助您輕松邁向綠色生產(chǎn) 4. ***精密!真空鍍膜設(shè)備實現(xiàn)微米級涂層控制 5. 輕松應(yīng)對高溫!真空鍍膜設(shè)備提供耐熱涂層解決方案 6. 美輪美奐!真空鍍膜設(shè)備助您創(chuàng)造獨特的表面效果 7. 拒絕腐蝕!真空鍍膜設(shè)備打造抗酸堿涂層 8. 高穩(wěn)定性!真空鍍膜設(shè)備實現(xiàn)持久涂層保護 9. 多功能應(yīng)用!真空鍍膜設(shè)備適用于金屬、玻璃等多種材料 10. ***保證!真空鍍膜設(shè)備助您打造精細工藝產(chǎn)品品質(zhì)新材料真空鍍膜設(shè)備,請選丹陽市寶來利真空機電有限公司,有需要可以來咨詢考察!浙江手機后蓋真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)廠家
以及位于所述外腔體內(nèi)的用于進行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔;所述內(nèi)反應(yīng)腔的側(cè)壁上設(shè)有自動門,所述自動門連接自動門控制器,工件自所述外腔體經(jīng)所述自動門進入所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進一步地,所述外腔體包括寶來利真空底板和沿所述寶來利真空底板周向設(shè)置的寶來利真空側(cè)壁;所述內(nèi)反應(yīng)腔包括第二底板和沿所述第二底板周向設(shè)置的第二側(cè)壁;所述寶來利真空底板與所述第二底板相互分離設(shè)置,所述寶來利真空側(cè)壁與所述第二側(cè)壁相互分離設(shè)置;所述寶來利真空側(cè)壁與蓋設(shè)于所述寶來利真空側(cè)壁上的密封蓋板密閉連接,所述第二側(cè)壁與所述密封蓋板相互分離設(shè)置。進一步地,所述自動門設(shè)置于所述第二側(cè)壁上,所述外腔體內(nèi)設(shè)有傳送裝置,所述工件自所述傳送裝置經(jīng)所述自動門傳遞至所述內(nèi)反應(yīng)腔中。進一步地,所述第二底板和/或所述第二側(cè)壁上設(shè)有用于對所述內(nèi)反應(yīng)腔進行控溫的溫控裝置。進一步地,所述溫控裝置包括溫控管,所述溫控管連接位于外腔體外的恒溫控制器。進一步地,所述溫控管包括加熱管和/或冷卻管。進一步地,所述加熱管包括電加熱管、水加熱管或油加熱管;所述冷卻管包括水冷卻管或油冷卻管。進一步地,所述溫控管纏繞于所述第二側(cè)壁的外部,且所述溫控管鋪設(shè)于所述第二底板的底部。 上海1500真空鍍膜設(shè)備工廠直銷磁控濺射原理鍍制,用于在已預(yù)處理好的玻璃、陶瓷等制品表面PVD鍍反映膜,從而獲得光亮、美觀。
所描述的實施例寶來利寶來利是本實用新型一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本實用新型中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本實用新型保護的范圍。請參閱圖1-5,本實用新型提供一種技術(shù)方案:一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,包括腔體1、基板2和坩堝3,腔體1內(nèi)壁底部的兩側(cè)分別固定連接有加熱器和冷凝器,坩堝3放置在加熱板14的頂部,腔體1左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機21,并且抽風(fēng)機21進風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管22,風(fēng)管22遠離抽風(fēng)機21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,腔體1左側(cè)的頂部固定連接有電機16,電機16通過導(dǎo)線與控制開關(guān)及外部電源連接,并且電機16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17,雙向螺紋桿17表面的兩側(cè)且位于腔體1的內(nèi)部均螺紋連接有活動塊18,兩個活動塊18的底部均固定連接有限位板19,兩個限位板19相對的一側(cè)均開設(shè)有與基板2相適配的限位槽,并且兩個活動塊18的頂部均通過第二滑軌20與腔體1內(nèi)壁的頂部滑動連接,雙向螺紋桿17遠離電機16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,雙向螺紋桿17位于腔體1內(nèi)部的一端與腔體1內(nèi)壁的右側(cè)通過軸承轉(zhuǎn)動連接,腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。
本實用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù):目前,真空設(shè)備,例如,pecvd(plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,等離子體增強化學(xué)氣相沉積)和pvd(physicalvaporde****ition,物寶來利相沉積)設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中,如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來利真空反應(yīng)室通常為單個反應(yīng)腔室,傳動部件和升降部件等機械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個反應(yīng)腔室內(nèi),這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉,容易造成工藝環(huán)境污染。另外,設(shè)置單個反應(yīng)腔室時,由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大,容易造成工藝所需原料的浪費,同時,還會造成工藝反應(yīng)過程中溫度波動大,不可控因素較多,從而影響工藝過程。技術(shù)實現(xiàn)要素:本實用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室,以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實用新型的第二目的在于提供一種包含本實用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達到上述目的,本實用新型采用的技術(shù)方案如下:一種真空反應(yīng)腔室,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體。 品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備,請選丹陽市寶來利真空機電有限公司,可鍍爐內(nèi)金,有需要來咨詢!
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