以專門作為工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20。寶來利真空底板11、寶來利真空側(cè)壁12、第二底板21和第二側(cè)壁22均可由金屬材料組成，其中，第二底板21和第二側(cè)壁22則優(yōu)先選用熱傳導(dǎo)效果較好的金屬材料組成，例如可選不銹鋼或鋁合金等材料。除上述結(jié)構(gòu)形式外，外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20還可以共用一個(gè)底板，真空鍍膜設(shè)備用一圈隔離板對外腔體10進(jìn)行分割即可。但為了將內(nèi)反應(yīng)腔20的空間盡可能地縮小到所需范圍，且真空鍍膜設(shè)備大限度地降低非必要的空間，該實(shí)施方式中設(shè)置了寶來利真空底板11和第二底板21相互分離的設(shè)置結(jié)構(gòu)，以在垂直方向上縮小內(nèi)反應(yīng)腔20的空間。其中，寶來利真空底板11、寶來利真空側(cè)壁12和密封蓋板30三者相互密閉連接共同構(gòu)成了與外部大氣隔離的具有封閉結(jié)構(gòu)的外腔體10。而內(nèi)反應(yīng)腔20則位于該外腔體10之內(nèi)，但是第二側(cè)壁22與密封蓋板30之間并未形成封閉式接觸，兩者之間屬于分離式設(shè)計(jì)結(jié)構(gòu)。該結(jié)構(gòu)也就使得外腔體10與內(nèi)反應(yīng)腔20之間在仍屬于相互連通的結(jié)構(gòu)構(gòu)造，用該結(jié)構(gòu)可以將真空設(shè)備中的部分構(gòu)件分離，將工藝過程中非必要的機(jī)械結(jié)構(gòu)部件設(shè)置于外腔體10中，而與工藝反應(yīng)相關(guān)的結(jié)構(gòu)部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中。在工藝反應(yīng)過程中，由于工藝反應(yīng)區(qū)的壓力要大于外腔體10中的壓力。 真空鍍膜設(shè)備選擇丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司，有需要可以聯(lián)系我！刀具真空鍍膜設(shè)備規(guī)格

避免工藝污染，提供工藝質(zhì)量。由于設(shè)置雙腔室，作為工藝反應(yīng)區(qū)的內(nèi)反應(yīng)腔20相對較小，因此可以有效減少工藝原料的浪費(fèi)，降低原料的使用成本，提高原料的利用率。同時(shí)，由于工藝反應(yīng)區(qū)的減少，可以有效控制該區(qū)域內(nèi)的溫度，使該區(qū)域內(nèi)的工藝溫度更易于均勻化，進(jìn)而提高工藝質(zhì)量。需要說明的是，內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔體10內(nèi)，但內(nèi)反應(yīng)腔20和外腔體10處于可連通狀態(tài)，并非完全隔絕，當(dāng)對外腔體10進(jìn)行抽真空處理時(shí)，內(nèi)反應(yīng)腔20內(nèi)也同時(shí)進(jìn)行抽真空操作。外腔體10和內(nèi)反應(yīng)腔20處于相互連通的狀態(tài)，只是在外腔體10內(nèi)劃分出了一個(gè)立體空間以進(jìn)行工藝反應(yīng)。本實(shí)施方式中，參照圖2，所述外腔體10包括寶來利真空底板11和沿所述寶來利真空底板11周向設(shè)置的寶來利真空側(cè)壁12；所述內(nèi)反應(yīng)腔20包括第二底板21和沿所述第二底板21周向設(shè)置的第二側(cè)壁22；所述寶來利真空底板11與所述第二底板21相互分離設(shè)置，所述寶來利真空側(cè)壁12與所述第二側(cè)壁22相互分離設(shè)置；寶來利真空側(cè)壁12與蓋設(shè)于所述寶來利真空側(cè)壁12上的密封蓋板30密閉連接，所述第二側(cè)壁22與所述密封蓋板30相互分離設(shè)置。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于用第二底板21和第二側(cè)壁22在外腔體10中分割出一個(gè)更小的空間。 上海半透真空鍍膜設(shè)備規(guī)格品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備，請選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司，可鍍爐內(nèi)金，有需要來咨詢！

裝飾領(lǐng)域：在裝飾領(lǐng)域，真空鍍膜機(jī)被用于制造各種具有裝飾效果的金屬制品，如門窗、家具、飾品等。通過鍍膜技術(shù)，可以在這些制品表面形成具有特定顏色和光澤的薄膜，提高產(chǎn)品的美觀度和附加值。防腐領(lǐng)域：在防腐領(lǐng)域，真空鍍膜機(jī)被用于在各種材料表面形成防腐膜，以提高材料的耐腐蝕性能。這對于在惡劣環(huán)境下使用的設(shè)備、管道等具有重要的保護(hù)作用。在這些領(lǐng)域中，真空鍍膜機(jī)的主要作用是通過在材料表面形成具有特定性能的薄膜，改善材料的性能、提高產(chǎn)品的質(zhì)量和附加值。鍍膜技術(shù)的應(yīng)用范圍較多，對于推動相關(guān)產(chǎn)業(yè)的發(fā)展和提高產(chǎn)品質(zhì)量具有重要意義。

本實(shí)用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域，尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù)：目前，真空設(shè)備，例如，pecvd（plasmaenhancedchemicalvaporde****ition，等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積）和pvd（physicalvaporde****ition，物寶來利相沉積）設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中，如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來利真空反應(yīng)室通常為單個(gè)反應(yīng)腔室，傳動部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個(gè)反應(yīng)腔室內(nèi)，這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉，容易造成工藝環(huán)境污染。另外，設(shè)置單個(gè)反應(yīng)腔室時(shí)，由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大，容易造成工藝所需原料的浪費(fèi)，同時(shí)，還會造成工藝反應(yīng)過程中溫度波動大，不可控因素較多，從而影響工藝過程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：本實(shí)用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室，以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種包含本實(shí)用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達(dá)到上述目的，本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下：一種真空反應(yīng)腔室，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體。 真空蒸發(fā)鍍膜裝置，是在真空室中利用電阻加熱，江金屬鍍料熔融、汽化，讓金屬分子沉積在基片上。

所述頂蓋遠(yuǎn)離所述鍍膜機(jī)一側(cè)設(shè)有動觸點(diǎn)；所述第二連接套內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點(diǎn)，所述靜觸點(diǎn)位于所述寶來利真空凹槽與所述抽氣管之間；所述動觸點(diǎn)與外部電源電性連接；所述靜觸點(diǎn)與氣缸電性連接。進(jìn)一步地，所述鍍膜機(jī)靠近所述出氣管的側(cè)壁上設(shè)有開關(guān)及換向器；所述開關(guān)分別與所述換向器及所述真空泵電性連接；所述換向器與所述電磁鐵電性連接。進(jìn)一步地，所述頂蓋側(cè)壁上設(shè)有凹孔。本實(shí)用新型的有益效果在于：通過設(shè)置電磁鐵與磁片，在進(jìn)行鍍膜機(jī)內(nèi)真空抽氣時(shí)，按下開關(guān)，電磁鐵通電產(chǎn)生與磁鐵相同的磁極，利用磁鐵的原理，配合負(fù)壓的作用，打開頂蓋，使得氣體從抽氣管排出，隨后反方向按下開關(guān)，電磁鐵在換向器的作用下改變電流方向，磁極改變，與磁片的磁極相反，在彈簧的推動下，頂蓋緊緊蓋在出氣管口上，密封性良好，防止鍍膜機(jī)內(nèi)真空環(huán)境發(fā)生變化，保證鍍膜過程的正常進(jìn)行。附圖說明為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案，下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明，下面描述中的附圖真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備是本實(shí)用新型的部分實(shí)施例，對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講，在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下。 品質(zhì)真空鍍膜設(shè)備膜層附著力好，請選丹陽市寶來利真空機(jī)電有限公司，有需要可以來咨詢考察！車載面板真空鍍膜設(shè)備生產(chǎn)企業(yè)

寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定，膜層均勻耐磨，硬質(zhì)鍍膜，有需要可以咨詢！刀具真空鍍膜設(shè)備規(guī)格

所描述的實(shí)施例是本實(shí)用新型的一部分實(shí)施例，而不是全部的實(shí)施例。基于本實(shí)用新型中的實(shí)施例，本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動的前提下所獲得的所有其他實(shí)施例，都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。本實(shí)用新型一種實(shí)施方式的真空反應(yīng)腔室，其結(jié)構(gòu)如圖1和圖2所示，包括：用于提供真空環(huán)境的外腔體10，以及位于所述外腔體10內(nèi)的用于進(jìn)行工藝反應(yīng)的內(nèi)反應(yīng)腔20；所述內(nèi)反應(yīng)腔20的側(cè)壁上設(shè)有自動門23，所述自動門23連接自動門控制器，工件自所述外腔體10經(jīng)所述自動門23進(jìn)入所述內(nèi)反應(yīng)腔20中。本實(shí)施方式提供的真空反應(yīng)腔室，外腔室和內(nèi)反應(yīng)腔20為嵌套結(jié)構(gòu)，其內(nèi)反應(yīng)腔20位于外腔室內(nèi)。該結(jié)構(gòu)中，相當(dāng)于設(shè)置了兩個(gè)腔室，其中外腔體10用于隔絕大氣，提供真空環(huán)境，而內(nèi)反應(yīng)腔20中的區(qū)域?yàn)楣に嚪磻?yīng)區(qū)，形成相對封閉的工藝環(huán)境，相關(guān)工藝反應(yīng)在內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行。由于采用雙腔室結(jié)構(gòu)，可以將工藝模塊部件設(shè)置于內(nèi)反應(yīng)腔20中，而與工藝反應(yīng)無直接關(guān)系的機(jī)械模塊部件則被設(shè)置于外腔室中。經(jīng)抽真空處理后，位于外腔體10中的工件再經(jīng)自動門23進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中進(jìn)行工藝反應(yīng)，可以有效避免設(shè)備雜質(zhì)和工件雜質(zhì)進(jìn)入內(nèi)反應(yīng)腔20中。該結(jié)構(gòu)可以避免工藝環(huán)境外的污染源進(jìn)入工藝反應(yīng)區(qū)域。 刀具真空鍍膜設(shè)備規(guī)格