所描述的實(shí)施例寶來利寶來利是本實(shí)用新型一部分實(shí)施例,而不是全部的實(shí)施例?;诒緦?shí)用新型中的實(shí)施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動(dòng)前提下所獲得的所有其他實(shí)施例,都屬于本實(shí)用新型保護(hù)的范圍。請(qǐng)參閱圖1-5,本實(shí)用新型提供一種技術(shù)方案:一種高分子等離子表面真空鍍膜設(shè)備,包括腔體1、基板2和坩堝3,腔體1內(nèi)壁底部的兩側(cè)分別固定連接有加熱器和冷凝器,坩堝3放置在加熱板14的頂部,腔體1左側(cè)的底部固定連接有抽風(fēng)機(jī)21,并且抽風(fēng)機(jī)21進(jìn)風(fēng)口的一端連通有風(fēng)管22,風(fēng)管22遠(yuǎn)離抽風(fēng)機(jī)21的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,腔體1左側(cè)的頂部固定連接有電機(jī)16,電機(jī)16通過導(dǎo)線與控制開關(guān)及外部電源連接,并且電機(jī)16輸出軸的一端固定連接有雙向螺紋桿17,雙向螺紋桿17表面的兩側(cè)且位于腔體1的內(nèi)部均螺紋連接有活動(dòng)塊18,兩個(gè)活動(dòng)塊18的底部均固定連接有限位板19,兩個(gè)限位板19相對(duì)的一側(cè)均開設(shè)有與基板2相適配的限位槽,并且兩個(gè)活動(dòng)塊18的頂部均通過第二滑軌20與腔體1內(nèi)壁的頂部滑動(dòng)連接,雙向螺紋桿17遠(yuǎn)離電機(jī)16的一端貫穿腔體1并延伸至腔體1的內(nèi)部,雙向螺紋桿17位于腔體1內(nèi)部的一端與腔體1內(nèi)壁的右側(cè)通過軸承轉(zhuǎn)動(dòng)連接,腔體1底部的四角均固定連接有支撐腿4。 寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,功能鍍膜,有需要可以咨詢!江蘇多弧離子鍍膜機(jī)真空鍍膜設(shè)備設(shè)備廠家
本實(shí)用新型涉及真空設(shè)備領(lǐng)域,尤其涉及一種真空反應(yīng)腔室和真空鍍膜設(shè)備。背景技術(shù):目前,真空設(shè)備,例如,pecvd(plasmaenhancedchemicalvaporde****ition,等離子體增強(qiáng)化學(xué)氣相沉積)和pvd(physicalvaporde****ition,物寶來利相沉積)設(shè)備已被廣泛應(yīng)用于各種產(chǎn)品的生產(chǎn)過程中,如光伏電池、半導(dǎo)體器件等等。真空設(shè)備中(如pecvd設(shè)備、pvd設(shè)備)的寶來利真空反應(yīng)室通常為單個(gè)反應(yīng)腔室,傳動(dòng)部件和升降部件等機(jī)械模塊部件以及濺射靶材等工藝模塊部件均設(shè)置于該單個(gè)反應(yīng)腔室內(nèi),這就造成反應(yīng)腔室內(nèi)的工藝環(huán)境不夠封閉,容易造成工藝環(huán)境污染。另外,設(shè)置單個(gè)反應(yīng)腔室時(shí),由于工藝反應(yīng)區(qū)域較大,容易造成工藝所需原料的浪費(fèi),同時(shí),還會(huì)造成工藝反應(yīng)過程中溫度波動(dòng)大,不可控因素較多,從而影響工藝過程。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:本實(shí)用新型的寶來利真空目的在于提供一種真空反應(yīng)腔室,以解決現(xiàn)有真空設(shè)備中由于只設(shè)置一個(gè)反應(yīng)腔室造成的工藝環(huán)境易被污染、工藝原料易被浪費(fèi)、環(huán)境溫度可控性低等問題。本實(shí)用新型的第二目的在于提供一種包含本實(shí)用新型真空反應(yīng)腔室的真空鍍膜設(shè)備。為達(dá)到上述目的,本實(shí)用新型采用的技術(shù)方案如下:一種真空反應(yīng)腔室,包括:用于提供真空環(huán)境的外腔體。 上海反射膜真空鍍膜設(shè)備規(guī)格寶來利飛機(jī)葉片真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來咨詢!
所述頂蓋遠(yuǎn)離所述鍍膜機(jī)一側(cè)設(shè)有動(dòng)觸點(diǎn);所述第二連接套內(nèi)側(cè)壁上設(shè)有靜觸點(diǎn),所述靜觸點(diǎn)位于所述寶來利真空凹槽與所述抽氣管之間;所述動(dòng)觸點(diǎn)與外部電源電性連接;所述靜觸點(diǎn)與氣缸電性連接。進(jìn)一步地,所述鍍膜機(jī)靠近所述出氣管的側(cè)壁上設(shè)有開關(guān)及換向器;所述開關(guān)分別與所述換向器及所述真空泵電性連接;所述換向器與所述電磁鐵電性連接。進(jìn)一步地,所述頂蓋側(cè)壁上設(shè)有凹孔。本實(shí)用新型的有益效果在于:通過設(shè)置電磁鐵與磁片,在進(jìn)行鍍膜機(jī)內(nèi)真空抽氣時(shí),按下開關(guān),電磁鐵通電產(chǎn)生與磁鐵相同的磁極,利用磁鐵的原理,配合負(fù)壓的作用,打開頂蓋,使得氣體從抽氣管排出,隨后反方向按下開關(guān),電磁鐵在換向器的作用下改變電流方向,磁極改變,與磁片的磁極相反,在彈簧的推動(dòng)下,頂蓋緊緊蓋在出氣管口上,密封性良好,防止鍍膜機(jī)內(nèi)真空環(huán)境發(fā)生變化,保證鍍膜過程的正常進(jìn)行。附圖說明為了更清楚地說明本實(shí)用新型實(shí)施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將結(jié)合附圖及實(shí)施例對(duì)本實(shí)用新型作進(jìn)一步說明,下面描述中的附圖真空鍍膜設(shè)備真空鍍膜設(shè)備是本實(shí)用新型的部分實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動(dòng)的前提下。
然后將基板2推入兩個(gè)限位板10之間的限位槽內(nèi),并關(guān)閉密封門5,打開抽風(fēng)機(jī)21,將腔體1內(nèi)的空氣抽出,通過控制面板使加熱器工作通過加熱板14加熱坩堝3進(jìn)行鍍膜,鍍膜完成后,使寶來利真空伸縮桿10工作,帶動(dòng)活動(dòng)板9運(yùn)動(dòng),使坩堝3運(yùn)動(dòng)至防護(hù)框7內(nèi),然后第二伸縮桿11工作,推動(dòng)寶來利真空密封蓋12和第二密封該13發(fā)生運(yùn)動(dòng),使防護(hù)框7密封,然后即可打開密封門5將基板取出或換面繼續(xù)覆膜。需要說明的是,在本文中,諸如寶來利真空和第二等之類的關(guān)系術(shù)語寶來利寶來利用來將一個(gè)實(shí)體或者操作與另一個(gè)實(shí)體或操作區(qū)分開來,而不一定要求或者暗示這些實(shí)體或操作之間存在任何這種實(shí)際的關(guān)系或者順序。而且,術(shù)語“包括”、“包含”或者其任何其他變體意在涵蓋非排他性的包含,從而使得包括一系列要素的過程、方法、物品或者設(shè)備不寶來利包括那些要素,而且還包括沒有明確列出的其他要素,或者是還包括為這種過程、方法、物品或者設(shè)備所固有的要素。盡管已經(jīng)示出和描述了本實(shí)用新型的實(shí)施例,對(duì)于本領(lǐng)域的普通技術(shù)人員而言,可以理解在不脫離本實(shí)用新型的原理和精神的情況下可以對(duì)這些實(shí)施例進(jìn)行多種變化、修改、替換和變型,本實(shí)用新型的范圍由所附權(quán)利要求及其等同物限定。 寶來利監(jiān)控探頭真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來咨詢!
在操作真空鍍膜機(jī)時(shí),確保安全是至關(guān)重要的。以下是一些在操作真空鍍膜機(jī)過程中需要注意的關(guān)鍵安全事項(xiàng):設(shè)備啟動(dòng)與關(guān)閉:在開啟真空鍍膜機(jī)之前,應(yīng)確保所有安全防護(hù)裝置完好無損且處于正常工作狀態(tài)。啟動(dòng)后,應(yīng)密切關(guān)注設(shè)備運(yùn)行狀態(tài),如有異常應(yīng)立即停機(jī)處理。操作結(jié)束后,務(wù)必按照規(guī)定的程序關(guān)閉真空鍍膜機(jī),包括切斷電源、水源等。真空環(huán)境操作:真空鍍膜機(jī)通常在真空環(huán)境下工作,因此操作時(shí)應(yīng)避免在設(shè)備運(yùn)行時(shí)打開或拆卸設(shè)備部件,以防止真空環(huán)境被破壞或有毒有害氣體泄漏。同時(shí),要確保真空室的密封性良好,防止外界雜質(zhì)進(jìn)入。高溫與高壓:鍍膜過程中可能會(huì)涉及高溫和高壓操作,因此操作人員必須嚴(yán)格遵守操作規(guī)程,不得隨意調(diào)整溫度和壓力。同時(shí),要保持與加熱元件和高壓部件的安全距離,防止?fàn)C傷和壓傷。寶來利真空鍍膜設(shè)備性能穩(wěn)定,膜層均勻耐磨,細(xì)膩有光澤,有需要可以來考察合作!江蘇ITO真空鍍膜設(shè)備供應(yīng)商家
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