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光學(xué)Helios標準光源標準光源

來源: 發(fā)布時間:2025-01-08

球體倍增因子對表面反射率極為敏感。選擇漫反射涂層或材料會對給定設(shè)計的輻射度產(chǎn)生很大影響(如圖3所示)。所示的兩種涂層都具有高反射率,在350至1350 nm范圍內(nèi)的反射率超過95%。因此,對于相同的積分球,人們可能預(yù)期不會有明顯的輻射度增加。然而,輻射度的相對增加大于反射率的相對增加,其系數(shù)等于球體倍增因子。雖然其中一種涂層在一定波長范圍內(nèi)比另一種提供2%到15%的反射率增加,但相同的積分球設(shè)計將導(dǎo)致輻射度增加40%至240%。較大的增加發(fā)生在1400納米以上的近紅外光譜區(qū)域。積分球為科學(xué)家提供了一個強大的工具,助力人類探索自然界的規(guī)律。光學(xué)Helios標準光源標準光源

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由于積分球較常用于穩(wěn)態(tài)條件下,隨著積分球涂層反射率的增加和開口端口面積比例的減小,產(chǎn)生穩(wěn)態(tài)輻射度的反射次數(shù)越多。因此,積分球設(shè)計應(yīng)嘗試優(yōu)化這兩個參數(shù),以獲得較佳的輻射通量空間積分。圖2是一個機器人成像系統(tǒng)的圖像,用于通過積分球參考端口映射空間均勻性。涂層,在為積分球選擇涂層時,必須考慮兩個因素:反射率和耐久性。例如,如果有足夠的光線,并且積分球?qū)⒃诳赡軐?dǎo)致積分球收集污垢或灰塵的環(huán)境中使用,則耐久性和可清洗的涂層是您的理想選擇。積分球內(nèi)部裝置,包括擋板、燈具和燈座,會吸收輻射源的部分能量,降低球體的空間均勻性。通過在所有可能的表面上使用高反射漫反射涂層,可以改善空間均勻性的降低。小型Helios標準光源測試在積分球中,空間被劃分為無數(shù)個同心球殼,每個球殼都承載著一段歷史。

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積分球(Integrating sphere)又稱為光通球、光度球,是一個中空的完整球殼。積分球多由金屬資料制成,內(nèi)壁涂白色高漫反射層(通常是氧化鎂或硫酸鋇),且球內(nèi)壁各點漫射均勻。也有積分球采用高反射高分子資料制成,例如Spectralon資料。光源在球壁上任意一點上發(fā)生的光照度是由屢次反射光發(fā)生的光照度疊加而成的。這樣,進入積分球的光經(jīng)過內(nèi)壁涂層屢次反射,在內(nèi)壁上構(gòu)成均勻照度。積分球常用于測驗光源的光通量、色溫、光效等參數(shù),也可用于丈量物體的反射率和透過率等。

LED積分球均勻光源,LED積分球均勻光源普遍應(yīng)用于相機校準、衛(wèi)星遙感校準測量、輻亮度/輻照度校準測量、夜視系統(tǒng)、安全攝像頭及高靈敏度成像儀、CMOS/CCD 光譜響應(yīng)測試校準測試等領(lǐng)域。LED積分球均勻光源提供了一種超均勻,高動態(tài)范圍,亮度色溫均可精致調(diào)節(jié)的面光源。該積分球光源具有獨有的高反射率漫反射材料,巧妙的積分球結(jié)構(gòu)設(shè)計。該積分球均勻光源提供了滿足國際相機性能測試標準,能夠?qū)I(yè)相機進行平場矯正,線性度校正,暗噪聲評估等。積分球還可以用于光學(xué)實驗中的光傳輸研究,通過觀察球內(nèi)的光分布,可以研究光的傳播規(guī)律。

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在光學(xué)領(lǐng)域,積分球堪稱神奇的存在。看似普通的球體,卻隱藏著無窮的奧秘。它的名字就預(yù)示著它的神奇功能——將光線“積分”起來。那么,這個神奇的積分球究竟是如何做到的呢?想象一下光線進入積分球后的情景,就像進入了一個迷宮。光線在積分球內(nèi)壁不斷反射,經(jīng)過精密的設(shè)計和計算,確保光線在多次反射后均勻地散布在球體內(nèi)。無論從哪個角度觀察,都能得到一致的光強分布。這就像小時候玩的彈珠游戲,彈珠在平滑的球體內(nèi)滾動,不斷反射,較終分散到各個角落。光線在積分球內(nèi)的行為與之類似,經(jīng)過不斷的反射和折射,達到均勻分布的效果。積分球是一種內(nèi)壁涂有白色漫反射材料的球體,用于光學(xué)實驗和照明設(shè)計。C光源積分球均勻光源

利用積分球,可以求解球體內(nèi)部的溫度場、流場等物理量分布。光學(xué)Helios標準光源標準光源

積分球配置的選擇:除了考慮積分球尺寸、內(nèi)部漫反射涂層以外,積分球配置也是選配積分球系統(tǒng)的關(guān)鍵且*具挑戰(zhàn)的參數(shù)之一。積分球開口數(shù)目和探測器開口數(shù)目多少?例如有的積分球設(shè)有18個開口端。是否內(nèi)部配置擋板,如果需要,擋板尺寸多大?擋板防止直接光源的光飽和或損壞探測器,必須盡可能小,以減少陰影。在高發(fā)散激光二極管測量中,可以消除擋板,并且探測器移動到靠近入口端口的位置,以消除頭一個光熱點,并較大限度地減少飽和或損壞光電二極管的可能性。光學(xué)Helios標準光源標準光源