微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥，鋁閘閥（AL Gate Valve）-產(chǎn)品范圍：1.5英寸~10英寸-12英寸可生產(chǎn)的產(chǎn)品尺寸，閥體材料：鋁、氣動、緊湊設計、重量輕。閘門，閥蓋密封：Viton O-Ring使用次數(shù)：100000次，易于維護，低顆粒（陶瓷球機構）。- Body Material : Aluminum  - Pneumatic - Compact Design- Light of weight - Gate, Bonnet Seal : Viton O-Ring - Cycles until first service : 100,000 - Easy Maintenance - Low Particle (Ceramic Ball Mechanism)，微泰半導體主加工設備腔內精確壓力控制的閘閥有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績，可替代HVA閘閥、VAT閘閥。高壓閘閥結構簡單，制造和維修比較方便。工作行程小，啟閉時間短。密封性好，密封面間磨擦力小，壽命較長。手動閘閥角控制閥

微泰半導體閘閥與其他類型閘閥相比，具有以下一些優(yōu)勢：1. 高精度控制：能更精確地調節(jié)流體流量。2. 適應半導體環(huán)境：對溫度、真空等條件有更好的適應性。3. 低顆粒產(chǎn)生：減少對晶圓等的污染。4. 長壽命和可靠性：確保穩(wěn)定運行，減少維護成本。5. 多功能應用：可適用于多種半導體工藝設備。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴散）、CVD（化學氣相沉積）等設備上，可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。超真空閘閥蝶形控制閥閘閥流動阻力小。閥體內部介質通道是直通的，介質成直線流動，流動阻力小。

微泰,傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥是安裝在半導體PVDCVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽。I型和L型轉移閥是用于半導體PVD CVD設備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它們的作用是將位于工藝模塊中的晶圓轉移到工藝室的溝槽，并極大限度地減少由于閘板打開和關閉造成的真空壓力變化，以維持腔室內的真空壓力。I型轉移閥由鋁或不銹鋼制成，用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。其特點是葉片在垂直方向上快速移動，以確保完美的腔室壓力維持。而L型轉移閥也由鋁或不銹鋼制造，其特點是設計緊湊，易于維護。L型轉移閥的閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動，以確保完美的腔室壓力維護。這兩種類型的轉移閥都具有高耐用性和長壽命的優(yōu)點，并且在閘門開啟和關閉過程中極大限度地減少了振動，對溫度變化也非常穩(wěn)定，以確保較長的使用壽命。如果您需要了解更多關于微泰傳輸閥、轉換閥、輸送閥、轉移閥的信息，請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。

微泰，加熱閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶹AT閘閥。其特點是*使用加熱套或內部加熱器加熱*加熱控制器*應用:去除粉末/氣體設備。加熱閘閥規(guī)格如下：驅動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機構溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設備使用業(yè)績。控制系統(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值，通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。

微泰，專門用閘閥應用于? Evaporation? Sputtering? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating? Etch? Diffusion（擴散）?CVD等設備上。可替代VAT閘閥。期特點是*使用維修配件工具包易于維護*將電磁閥和位置傳感器連接到15針D-Sub*鎖定功能*限位開關*?速度控制器&電磁閥（2Port+N2Port）用不銹鋼管連接（φ6）*應用:泵隔離,產(chǎn)品工藝水平要求高的地方。專門用閘閥規(guī)格如下：驅動方式：氣動、法蘭尺寸：4英寸~ 8英寸、法蘭類型：ISO, JIS, ASA, CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：Viton O型圈、響應時間：≤ 0.3 sec ~2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：4? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、初次維護前可用次數(shù)：200,000次、閥體溫度≤ 200 °、CTemperature for Actuator≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、Micron,Global Foundries、英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體業(yè)績。

閘閥的結構長度(系殼體兩連接端面之間的距離)較小。超高真空閘閥蝶閥

控制系統(tǒng)和蝶閥使用步進電機操作，而多定位閘閥使用氣動控制操作。手動閘閥角控制閥

微泰半導體閘閥的特點，首先介紹一下起三重保護的保護環(huán)機能，采用鋁質材料減少重量，并提高保護環(huán)的內部粗糙度，防止工程副產(chǎn)物堆積黏附。提升保護環(huán)內部流速設計，保護環(huán)逐步收窄，提升流速，防止粉塵黏附。采用三元系O型圈，保證保護環(huán)驅動穩(wěn)定（保證30萬次驅動）。微泰半導體閘閥應用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴散）?CVD（化學氣相沉積）等設備上?？商娲鶫VA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。手動閘閥角控制閥