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超真空閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-25

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的特點(diǎn):其插板閥主滑閥采用球機(jī)構(gòu)方式,并且在量產(chǎn)工藝設(shè)備上經(jīng)過(guò)了性能驗(yàn)證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成,陶瓷與金屬接觸驅(qū)動(dòng)時(shí)不會(huì)產(chǎn)生顆粒。目前已向中國(guó)臺(tái)灣的 Micron、UMC、AKT,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體,日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨,且品質(zhì)得到認(rèn)可,同時(shí)也完成了對(duì)半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅(qū)動(dòng)會(huì)產(chǎn)生大量顆粒不同,微泰半導(dǎo)體閘閥采用鋼陶瓷球,在與金屬摩擦?xí)r不會(huì)損壞,且金屬與陶瓷球之間不會(huì)產(chǎn)生 Particle。半永久板簧(SUS 鋼板)的應(yīng)用確保了閥門驅(qū)動(dòng)的同步性,同時(shí)還采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾?。微泰半?dǎo)體閘閥廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外,該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。閘閥(gate valve)是一個(gè)啟閉件閘板,閘板的運(yùn)動(dòng)方向與流體方向相垂直,閘閥只能作全開和全關(guān)。超真空閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

閘閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值,通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。微泰半導(dǎo)體閘閥被廣泛應(yīng)用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò) MW-PACVD 生長(zhǎng)金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴(kuò)散)、CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。擴(kuò)散閘閥微泰,高壓閘閥能應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD。

超真空閘閥I型轉(zhuǎn)移閥,閘閥

微泰,蝶閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。微泰蝶閥其特點(diǎn)是? 主體材料:鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 高性能集成控制器? 使用維修零件套件輕松維護(hù)? 應(yīng)用:半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程的壓力控制。蝶閥規(guī)格如下:法蘭尺寸(內(nèi)徑):DN40、DN50、饋通:旋轉(zhuǎn)饋通、閥門密封:FKM(VITON)、執(zhí)行器:步進(jìn)電機(jī)、壓力范圍:1×10-8 mbar to 1200 mbar 、開啟壓差:≤ 30 mbar、開啟壓差≤30mbar、氦泄漏率1X10 -9Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):250,000次、閥體溫度≤ 150 °、控制器≤ 35 °C、材料:閥體STS304/機(jī)制STS304、安裝位置:任意、接口:RS232、RS485、Devicenet、Profibus、EtherCat。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰尽?/p>

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn):已向中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備,設(shè)備廠批量供貨,已得到品質(zhì)認(rèn)可,已完成對(duì)半導(dǎo)體Utility設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。1,采用陶瓷球機(jī)構(gòu),抗沖擊和震動(dòng),保證使用25萬(wàn)次,檢修方便,較低維護(hù)成本。2,無(wú)Particle(顆粒)產(chǎn)生,采用陶瓷球無(wú)腐蝕和顆粒產(chǎn)。3,屏蔽保護(hù):屏蔽式保護(hù)功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于1mm,可防止粉末侵入閥內(nèi),壽命為半永久性。4,保護(hù)環(huán):Protecrion Ring通過(guò)流速上升設(shè)計(jì)防止粉末凝固,并通過(guò)打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導(dǎo)體閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰???刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作,而多定位閘閥使用氣動(dòng)控制操作。

超真空閘閥I型轉(zhuǎn)移閥,閘閥

微泰,多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上??商娲鶹AT閘閥。微泰多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥其特點(diǎn)是?操作模式:本地和遠(yuǎn)程?緊急情況:自動(dòng)關(guān)閉?慢速泵送功能。多位閘閥,多位置閘閥,多定位閘閥規(guī)格如下:材料:閥體 STS304, 機(jī)制 STS304、法蘭尺寸(內(nèi)徑) 4英寸~10英寸、閘門密封 FKM(VITON)、開/關(guān)振動(dòng) 無(wú)振動(dòng)、He泄漏率1X10-9 mbar.l/sec、閘門壓差 ≤1.4 bar、分子流動(dòng)電導(dǎo)(ISO100)1891 l/s、閥座 1X10-10 mbar?L/秒、泄漏率閥體 1X10-10 mbar?L/Sec、壓力范圍 1X10-10mbar 至 1.4 bar、閘門上任一方向的壓差≤1.4 bar、安裝位置:任意。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。 高壓閘閥只許介質(zhì)單向流動(dòng),安裝時(shí)有方向性。它的結(jié)構(gòu)長(zhǎng)度大于閘閥,同時(shí)流體阻力大。超真空閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

微泰,高壓閘閥應(yīng)用于? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。超真空閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

半導(dǎo)體真空插板閥是一種用于半導(dǎo)體制造過(guò)程中的真空系統(tǒng)的閥門,主要作用是控制氣體的流動(dòng),以維持真空環(huán)境的穩(wěn)定。微泰半導(dǎo)體真空腔體用閘閥(插板閥)其特點(diǎn)包括:1. 高密封性:采用特殊的密封結(jié)構(gòu),能夠有效地防止氣體泄漏,保證真空系統(tǒng)的密封性。2. 耐腐蝕性:材料具有良好的耐腐蝕性,能夠在半導(dǎo)體制造過(guò)程中的化學(xué)物質(zhì)環(huán)境中穩(wěn)定工作。3. 高精度:能夠精確地控制氣體的流量,滿足半導(dǎo)體制造工藝對(duì)精度的要求。4. 快速響應(yīng):可以快速地開啟和關(guān)閉,以適應(yīng)半導(dǎo)體制造過(guò)程中的快速氣體控制需求。5. 可靠性高:設(shè)計(jì)和制造過(guò)程嚴(yán)格,保證了其在長(zhǎng)期使用中的可靠性和穩(wěn)定性。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。超真空閘閥I型轉(zhuǎn)移閥