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轉(zhuǎn)移閘閥

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2024-06-28

微泰控制系統(tǒng)閥門是安裝在半導(dǎo)體CVD設(shè)備中的主要閥門。控制系統(tǒng)閥門起到調(diào)節(jié)腔內(nèi)壓力的作用,通過(guò)控制系統(tǒng)自動(dòng)調(diào)節(jié)閘板的開(kāi)啟和關(guān)閉。精確控制腔內(nèi)壓力的閥門分為三類:控制系統(tǒng)閘閥、蝶閥、多定位閘閥??刂葡到y(tǒng)和蝶閥使用步進(jìn)電機(jī)操作,而多定位閘閥使用氣動(dòng)控制操作。一、控制系統(tǒng)閘閥??刂葡到y(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動(dòng)方式操作,可以在高真空環(huán)境中實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制。如半導(dǎo)體等高真空工藝應(yīng)用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值,通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。二、蝶閥。該蝶閥具有緊湊的設(shè)計(jì)和堅(jiān)固的不銹鋼結(jié)構(gòu),通過(guò)閘板旋轉(zhuǎn)操作。蝶閥可以實(shí)現(xiàn)精確的壓力控制和低真空環(huán)境。例如半導(dǎo)體和工業(yè)過(guò)程。蝶閥通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)自動(dòng)控制到用戶指定的值,保持一致的真空壓力。三、多定位閘閥。多定位閘閥是一種利用壓縮空氣或氮?dú)饪刂崎l閥位置的閥門。它在閥門的頂部有一個(gè)內(nèi)置控制器,可以在本地和遠(yuǎn)程模式下操作。它還具有緊急關(guān)閉功能,以應(yīng)對(duì)泵停止或CDA壓縮干空氣丟失的情況。用真空閘閥時(shí),應(yīng)考慮與工藝氣體的兼容性、工作壓力范圍、循環(huán)速度和維護(hù)要求等因素。轉(zhuǎn)移閘閥

閘閥

微泰,鋁閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。期特點(diǎn)是*不論什么工藝的設(shè)備都可以使用*由半永久性陶瓷球和彈簧組成*應(yīng)用:隔離泵。鋁閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:手動(dòng)、法蘭尺寸:1.5英寸~ 10英寸、閥體:AL6061 (Anodizing)、機(jī)械裝置:AL6061 (Anodizing)、閥門:O型圈(VITON)、真空密封:O型圈(VITON)、響應(yīng)時(shí)間≤ 3 sec、驅(qū)動(dòng)器:氣缸、操作泄漏率< 1×10-10 mbar ?/sec、壓力范圍:< 1×10-10 mbar ?/sec、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、初次維護(hù)前可用次數(shù)100,000次、閥體溫度≤ 120 °執(zhí)行機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)??商娲鶹AT閥門。蝕刻閘閥蝶形控制閥控制系統(tǒng)閘閥是自動(dòng)控制到用戶指定的值,通過(guò)控制器和步進(jìn)電機(jī)保持一致的真空壓力。

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微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對(duì)卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。這節(jié)介紹加熱閘閥、加熱式閘閥護(hù)套、加熱器插入式閥門。帶加熱器閘閥,加熱器插入閘閥:產(chǎn)品范圍:2~12英寸?高壓/超高壓都可用?維護(hù)前可用次數(shù):20萬(wàn)次?響應(yīng)時(shí)間:0.2秒~3秒;客戶指定法蘭,加熱溫度:450℃;蝶形閥;蝶閥:產(chǎn)品范圍:DN40、DN50隔離?泄漏率:1.0E-9mbar·l/秒;有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),可替代HVA閘閥、VAT閘閥。上海安宇泰環(huán)保科技有限公司

微泰半導(dǎo)體閘閥的特點(diǎn):閥門驅(qū)動(dòng)部分的所有滾子和軸承都進(jìn)行了防護(hù)處理,形成屏蔽和保護(hù)環(huán)(Shield Blocker 和 Protection Ring)用三重預(yù)防方式切斷粉末(Powder),延長(zhǎng)閥門驅(qū)動(dòng)和使用壽命。三重預(yù)防驅(qū)動(dòng)方式的Shield功能可防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部,有三重保護(hù)驅(qū)動(dòng)保護(hù)環(huán),長(zhǎng)久延長(zhǎng)GV壽命的Shield方法-供應(yīng)給海外半導(dǎo)體T公司、M公司和I公司Utility設(shè)備。擋板與閥體的距離小于1mm,阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入,屏蔽擋板是采用1.5 t AL材料,考慮了復(fù)原力,并采用Viton粉末熱壓制成。三重保護(hù)保護(hù)環(huán)的主要功能說(shuō)明-AL材料的重量減輕和保護(hù)環(huán)內(nèi)部照明的改善-保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速的增加-三元環(huán)應(yīng)用確保驅(qū)動(dòng)性能。真空閘閥廣泛應(yīng)用于各種真空系統(tǒng)和工藝過(guò)程中,如半導(dǎo)體生產(chǎn)、電子設(shè)備制造、科研實(shí)驗(yàn)、航空航天等領(lǐng)域。

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微泰,三(多)位閘閥、三位閘閥、多位閘閥應(yīng)用于? 蒸發(fā)?濺射? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? 涂層? 蝕刻? 擴(kuò)散?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是*3個(gè)位置功能-閥門打開(kāi),閥門關(guān)閉,第3位置*設(shè)備可通過(guò)連接到閥門的9 Pin D-Sub來(lái)讀取閥門狀態(tài)*手動(dòng)和氣動(dòng)閥門組合*應(yīng)用:需要壓力控制的任何其他過(guò)程*應(yīng)用:需要壓力控制的地方。三位閘閥、多位閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:氣動(dòng)、法蘭尺寸:2.5英寸~ 12英寸、法蘭類型ISO, JIS, ASA, CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:Viton O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:2.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):200,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 60 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī)閘閥多應(yīng)用于石油、天然氣等輸送管線上,在半導(dǎo)體加工工程設(shè)備上也多用閘閥。HVA閘閥法蘭閘閥

微泰高壓閘閥的特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵。轉(zhuǎn)移閘閥

微泰,高壓閘閥應(yīng)用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過(guò)MW-PACVD生長(zhǎng)金剛石)? PECV? PVD? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴(kuò)散)?CVD(化學(xué)氣相沉積)等設(shè)備上。可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:隔離泵。高壓閘閥規(guī)格如下:驅(qū)動(dòng)方式:手動(dòng)或氣動(dòng)、法蘭尺寸:1.5英寸~ 14英寸、法蘭類型:CF、連接方式:焊接波紋管、閥門密封:氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封:氟橡膠O型圈、響應(yīng)時(shí)間:≤ 2 sec、操作壓力范圍:1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar,8? ~ 14? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開(kāi)始時(shí)的壓差:≤ 30 mbar、閘門的差動(dòng)壓力:1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 14? ≤ 1200 mbar、泄漏率:< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù):250,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料:閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動(dòng)器(鋁6061陽(yáng)極氧化)、安裝位置:任意、操作壓力(N2):4 ~ 7 bar。有中國(guó)臺(tái)灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來(lái)西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績(jī),上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。轉(zhuǎn)移閘閥