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大型閘閥閘板閥

來源: 發(fā)布時間:2024-09-21

微泰半導體閘閥與其他類型閘閥相比,具有以下一些優(yōu)勢:1. 高精度控制:能更精確地調(diào)節(jié)流體流量。2. 適應半導體環(huán)境:對溫度、真空等條件有更好的適應性。3. 低顆粒產(chǎn)生:減少對晶圓等的污染。4. 長壽命和可靠性:確保穩(wěn)定運行,減少維護成本。5. 多功能應用:可適用于多種半導體工藝設(shè)備。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁=饘俨牧细邏洪l閥主要有:碳鋼閥門、合金鋼閥門、不銹鋼閥門、鑄鐵閥門、鈦合金閥門、銅合金閥門等。大型閘閥閘板閥

閘閥

微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有氣動多位置閘閥(氣動多定位閘閥、多定位插板閥、Pneumatic Multi Position)、氣動(鎖定)閘閥和手動(鎖定)閘閥,蝶閥,Butterfly Valve,步進電機插板閥Stepper Motor Gate Valve,加熱插板閥(加熱閘閥Heating gate valve),鋁閘閥(AL Gate Valve),三重防護閘閥,應用于? Evaporation(蒸發(fā))? Sputtering(濺射)? Diamond growth by MW-PACVD(通過MW-PACVD生長金剛石)? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)? Coating(涂層)? Etch(蝕刻)? Diffusion(擴散)?CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。轉(zhuǎn)移閘閥閘閥多應用于石油、天然氣等輸送管線上,在半導體加工工程設(shè)備上也多用閘閥。

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微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,控制系統(tǒng)閘閥,控制閘閥、控制系統(tǒng)插板閥、控制系統(tǒng)閘閥具有可隔離的閘閥,以滑動方式操作,可以在高真空環(huán)境中實現(xiàn)精確的壓力控制。如半導體等高真空工藝應用??刂葡到y(tǒng)閘閥是自動控制到用戶指定的值,通過控制器和步進電機保持一致的真空壓力。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。該閘閥由上海安宇泰環(huán)保科技有限公司提供。

微泰半導體閘閥具有諸多特點:首先,它已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT 等,新加坡的 Micron、Global Foundries,馬來西亞的英菲尼亞半導體,日本的 Micron、三星半導體等眾多設(shè)備廠批量供貨,且品質(zhì)得到認可,同時完成了對半導體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗證。其次,該閘閥采用陶瓷球機構(gòu),具有良好的抗沖擊和震動性能,保證可使用 25 萬次,且檢修方便,維護成本較低。它無 Particle 產(chǎn)生,采用陶瓷球不會有腐蝕和顆粒產(chǎn)生。此外,它還具有屏蔽保護功能,閘閥閥體與擋板之間的距離小于 1mm,能有效防止粉末侵入閥內(nèi),壽命為半永久性。其保護環(huán)設(shè)計也很獨特,Protecrion Ring 通過流速上升設(shè)計防止粉末凝固,并通過打磨(研磨)工藝防止粉末堆積。微泰半導體閘閥被廣泛應用于 Evaporation(蒸發(fā))、Sputtering(濺射)、Diamond growth by MW-PACVD(通過 MW-PACVD 生長金剛石)、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)(集群、卷對卷)、Coating(涂層)、Etch(蝕刻)、Diffusion(擴散)、CVD(化學氣相沉積)等設(shè)備上,可替代 HVA 閘閥、VA T閘閥。該閘閥由上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰咎峁?。閘閥(gate valve)是一個啟閉件閘板,閘板的運動方向與流體方向相垂直,閘閥只能作全開和全關(guān)。

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微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,這里介紹一下閥門控制器-主控制器(Valve Controller Introduction)1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸-本地控制器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸 -遙控器1英寸和2英寸 / 3英寸和4英寸。1,開放/關(guān)閉速度LCD顯示;2,當閥門或泵錯誤時,燈點亮:3,自動關(guān)閉功能-防止泵跳閘中的逆流;4,有閥門開關(guān)位置的信號輸出信號;5,鎖定功能-本地/遙控器在解鎖后進行快速操作;6,無噪音,功耗低;7,歷史管理-打開/關(guān)閉/泵關(guān)閉等;8,UPS功能(1秒),微泰半導體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥,有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導體、日本Micron、三星半導體和其它的設(shè)備使用業(yè)績,可替代HVA閘閥、VAT閘閥。為特定的真空系統(tǒng)和工藝選擇適當尺寸和類型的真空閘閥對于確保高效運行和可靠的真空完整性至關(guān)重要。韓國進口閘閥插板閥

真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進出真空室的機械裝置。大型閘閥閘板閥

微泰,傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥是安裝在半導體PVDCVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它充當將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽。I型和L型轉(zhuǎn)移閥是用于半導體PVD CVD設(shè)備工藝模塊和工藝室之間的閥門系統(tǒng)。它們的作用是將位于工藝模塊中的晶圓轉(zhuǎn)移到工藝室的溝槽,并極大限度地減少由于閘板打開和關(guān)閉造成的真空壓力變化,以維持腔室內(nèi)的真空壓力。I型轉(zhuǎn)移閥由鋁或不銹鋼制成,用于傳輸晶圓小于450毫米的半導體系統(tǒng)和隔離工藝室。其特點是葉片在垂直方向上快速移動,以確保完美的腔室壓力維持。而L型轉(zhuǎn)移閥也由鋁或不銹鋼制造,其特點是設(shè)計緊湊,易于維護。L型轉(zhuǎn)移閥的閘門在兩個階段從垂直到水平方向移動,以確保完美的腔室壓力維護。這兩種類型的轉(zhuǎn)移閥都具有高耐用性和長壽命的優(yōu)點,并且在閘門開啟和關(guān)閉過程中極大限度地減少了振動,對溫度變化也非常穩(wěn)定,以確保較長的使用壽命。如果您需要了解更多關(guān)于微泰傳輸閥、轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥的信息,請聯(lián)系上海安宇泰環(huán)??萍加邢薰?。大型閘閥閘板閥