微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥，步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve，-產(chǎn)品范圍：2.5“~10”-壓力控制-使用步進(jìn)電機(jī)Stepper Motor GV,- Product Range : 2.5” ~ 10”- Pressure Controlled- Using Stepper Motor，用步進(jìn)電機(jī)/控制器操作閥門-通過步進(jìn)電機(jī)/控制器精確控制閥門的壓力-根據(jù)產(chǎn)品的不同，控制器可以安裝在客戶需要的地方，微泰，步進(jìn)電機(jī)插板閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。微泰步進(jìn)電機(jī)插板閥Stepper Motor Gate Valve有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。閘閥的結(jié)構(gòu)緊湊，閥門剛性好，通道流暢，流阻數(shù)小，密封面采用不銹鋼和硬質(zhì)合金，使用壽命長。濺射閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

微泰，傳輸閥 (I-MOTION)、I型轉(zhuǎn)換閥、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥應(yīng)用于晶圓加工，半導(dǎo)體加工，可替代VAT閘閥。其特點(diǎn)是? 主體材料：鋁或不銹鋼? 緊湊型設(shè)計(jì)? 使用維修配件工具包易于維護(hù)? 應(yīng)用：半導(dǎo)體系統(tǒng)中小于 450mm 晶圓的傳輸和處理室隔離，傳輸閥 (I-MOTION)、輸送閥、轉(zhuǎn)移閥規(guī)格如下：閘門密封類型：傳輸閥 (I-MOTION)、右動轉(zhuǎn)換閥、驅(qū)動方式：氣動、法蘭尺寸（內(nèi)徑） 32×222/46×236/50×336/56×500 、連接方式：焊接波紋管、閘門密封 Viton O 形圈/硫化密封件、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、工作壓力范圍：1×10-10 mbar to 1200 mbar、開始時的壓差：≤ 30 mbar、開啟時壓差： ≤ 1200 mbar r、泄漏率不銹鋼：< 1×10 -9Mbar?/秒/鋁：< 1×10 -5  mbar ?/秒、維護(hù)前可用次數(shù)： ≥1,000,000次、閥體溫度≤ 200 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 200 °C、材料：閥體(不銹鋼304)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。定制閘閥AKT閘閥形體簡單，結(jié)構(gòu)長度短，制造工藝性好，適用范圍廣。

微泰半導(dǎo)體閘閥具有獨(dú)特的特點(diǎn)：其插板閥主滑閥采用球機(jī)構(gòu)方式，并且在量產(chǎn)工藝設(shè)備上經(jīng)過了性能驗(yàn)證。該閘閥由半永久性鋼球陶瓷和板簧組成，陶瓷與金屬接觸驅(qū)動時不會產(chǎn)生顆粒。目前已向中國臺灣的 Micron、UMC、AKT，新加坡的 Micron、Global Foundries，馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體，日本的 Micron、三星半導(dǎo)體等眾多設(shè)備廠批量供貨，且品質(zhì)得到認(rèn)可，同時也完成了對半導(dǎo)體 Utility 設(shè)備和批量生產(chǎn)設(shè)備的驗(yàn)證。與其他廠家閘閥的金屬與金屬接觸驅(qū)動會產(chǎn)生大量顆粒不同，微泰半導(dǎo)體閘閥采用鋼陶瓷球，在與金屬摩擦?xí)r不會損壞，且金屬與陶瓷球之間不會產(chǎn)生 Particle。半永久板簧（SUS 鋼板）的應(yīng)用確保了閥門驅(qū)動的同步性，同時還采用了固定球?qū)蚱骱弯撎沾伞Ｎ⑻┌雽?dǎo)體閘閥廣泛應(yīng)用于 Evaporation（蒸發(fā)）、Sputtering（濺射）、Diamond growth by MW-PACVD（通過 MW-PACVD 生長金剛石）、PECV、PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）、Coating（涂層）、Etch（蝕刻）、Diffusion（擴(kuò)散）、CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上，可替代 HVIA閘閥、VAT 閘閥。此外，該閘閥由上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰咎峁?。

微泰，大閘閥、大型閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD（通過MW-PACVD生長金剛石）? PECV? PVD(Cluster,Roll to Roll)（集群、卷對卷）? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上?？商娲鶹AT閘閥。微泰大閘閥、大型閘閥其特點(diǎn)是*陶瓷球機(jī)構(gòu)產(chǎn)生的低顆粒*使用維修配件工具包易于維護(hù)*應(yīng)用:用于研發(fā)和工業(yè)的隔離閥。大閘閥、大型閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：氣動、法蘭尺寸（內(nèi)徑）：16? ~ 30?、 法蘭型：ISO、JIS、ASA 、饋通：Viton O-Rin、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：可調(diào)節(jié)、工作壓力范圍：1×10-8 mbar to 1000 mbar 、維護(hù)前可用次數(shù)：10,000 ~ 100,000次、開啟時壓差 ≤ 30 mba、泄漏率 < 1×10 -9  mbar ?/sec、閥體溫度≤ 150 °、機(jī)構(gòu)溫度≤ 80 °C、烤爐溫度≤ 150 °C、材料：閥體(不銹鋼304或316L)/驅(qū)動器(鋁6061陽極氧化)、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：6~ 8 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績，上海安宇泰環(huán)?？萍加邢薰?。 真空閘閥是真空系統(tǒng)中用于控制氣體進(jìn)出真空室的機(jī)械裝置。

微泰半導(dǎo)體閘閥具有諸多特點(diǎn)：其閥門驅(qū)動部分的所有滾子和軸承都經(jīng)過精心防護(hù)處理，形成屏蔽和保護(hù)環(huán)（Shield Blocker 和 Protection Ring），通過三重預(yù)防方式有效切斷粉末（Powder），從而延長閥門驅(qū)動及使用壽命。該閘閥采用的三重預(yù)防驅(qū)動方式中的 Shield 功能，能夠出色地防止氣體和粉末侵入閥體內(nèi)部，同時具備三重保護(hù)驅(qū)動保護(hù)環(huán)，可延長 GV 壽命的 Shield 方法，并已供應(yīng)給海外半導(dǎo)體 T 公司、M 公司和 I 公司的 Utility 設(shè)備。此外，擋板與閥體之間的距離小于 1mm，能夠強(qiáng)力阻擋內(nèi)部粉末和氣體的流入，屏蔽擋板采用 1.5t AL 材料制成，充分考慮了其復(fù)原力，并通過 Viton 粉末熱壓工藝制成。而三重保護(hù)保護(hù)環(huán)的主要功能則包括：AL 材料的重量減輕和保護(hù)環(huán)內(nèi)部照明的改善、保護(hù)環(huán)內(nèi)部流速的增加以及三元環(huán)的應(yīng)用確保了驅(qū)動性能的提升。真空閘閥的設(shè)計(jì)具有獨(dú)特的特征。它們具有堅(jiān)固的結(jié)構(gòu)，通常使用不銹鋼或鋁等材料來抵抗真空條件。定制閘閥AKT

真空閘閥對于隔離不同的真空室、控制工藝過程中的氣流以及在不影響真空環(huán)境的情況下促進(jìn)維護(hù)或維修很重要。濺射閘閥I型轉(zhuǎn)移閥

微泰半導(dǎo)體主加工設(shè)備腔內(nèi)精確壓力控制的閘閥Heating gate valve，加熱插板閥，加熱閘閥，加熱器的加熱溫度為180-200度（可通過控制器設(shè)置溫度）-規(guī)格：適用雙金屬（達(dá)到200度時，斷電后溫度下降后重新啟動），應(yīng)用于去除粉末/氣體設(shè)備。微泰，加熱閘閥應(yīng)用于? Evaporation（蒸發(fā)）? Sputtering（濺射）? Diamond growth by MW-PACVD? PECV? PVD? Coating（涂層）? Etch（蝕刻）? Diffusion（擴(kuò)散）?CVD（化學(xué)氣相沉積）等設(shè)備上。加熱閘閥規(guī)格如下：驅(qū)動方式：手動或氣動、法蘭尺寸：1.5英寸~ 12英寸、法蘭類型：ISO、JIS、ASA、CF、連接方式：焊接波紋管、閥門密封：氟橡膠O型圈/Kalrez O型環(huán)/EPDM、閥蓋密封：氟橡膠O型圈、響應(yīng)時間：≤ 2 sec、操作壓力范圍：1.5? ~ 6? : 1×10-10 mbar to 1400 mbar，8? ~ 12? : 1×10-10 mbar to 1200 mbar 、開始時的壓差：≤ 30 mbar、閘門的差動壓力：1.5? ~ 6? : ≤ 1400 mbar / 8? ~ 12 ≤ 1200 mbar、泄漏率：< 1×10 -10 Mbar/秒、維護(hù)前可用次數(shù)：200,000次、、安裝位置：任意、操作壓力(N2)：4 ~ 7 bar。有中國臺灣Micron、UMC、AKT、新加坡Micron,Global Foundries、馬來西亞的英菲尼亞半導(dǎo)體、日本Micron、三星半導(dǎo)體和其它的設(shè)備使用業(yè)績。濺射閘閥I型轉(zhuǎn)移閥