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陜西卷繞鍍膜機生產(chǎn)廠家

來源: 發(fā)布時間:2022-09-10

Q1:請問什么是PVD?A1:PVD是英文PhysicalVaporDeposition的縮寫,中文意思是“物***相沉積”,是指在真空條件下,用物理的方法使材料沉積在被鍍工件上的薄膜制備技術(shù)。Q2:請問什么是PVD鍍膜?什么是PVD鍍膜機?A2:PVD(物***相沉積)技術(shù)主要分為三類,真空蒸發(fā)鍍膜、真空濺射鍍膜和真空離子鍍膜。相對于PVD技術(shù)的三個分類,相應的真空鍍膜設(shè)備也就有真空蒸發(fā)鍍膜機、真空濺射鍍膜機和真空離子鍍膜機。近十多年來,真空離子鍍技術(shù)的發(fā)展是**快的,它已經(jīng)成為了當代**先進的表面處理方法之一。我們通常所說的PVD鍍膜,指的就是真空離子鍍膜;通常所說的PVD鍍膜機,指的也就是真空離子鍍膜機。Q3:請問PVD鍍膜的具體原理是什么?A3:離子鍍膜(PVD鍍膜)技術(shù),其原理是在真空條件下,采用低電壓、大電流的電弧放電技術(shù),利用氣體放電使靶材蒸發(fā)并使被蒸發(fā)物質(zhì)電離,在電場的作用下,使被蒸發(fā)物質(zhì)或其反應產(chǎn)物沉積在工件上。Q4:請問PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍(水電鍍)相比有何優(yōu)點?A4:PVD鍍膜與傳統(tǒng)的化學電鍍的相同點是,兩者都屬于表面處理的范疇,都是通過一定的方式使一種材料覆蓋在另一種材料的表面。兩者的不同點是:PVD鍍膜膜層與工件表面的結(jié)合力更大,膜層的硬度更高。卷繞鍍膜機在使用中,分別有哪些注意事項?陜西卷繞鍍膜機生產(chǎn)廠家

高頻感應蒸發(fā)源蒸鍍法高頻感應蒸發(fā)源是將裝有蒸發(fā)材料的石墨或陶瓷坩鍋放在水冷的高頻螺旋線圈**,使蒸發(fā)材料在高頻帶內(nèi)磁場的感應下產(chǎn)生強大的渦流損失和磁滯損失(對鐵磁體),致使蒸發(fā)材料升溫,直至氣化蒸發(fā)。膜材的體積越小,感應的頻率就越高。在鋼帶上連續(xù)真空鍍鋁的大型設(shè)備中,高頻感應加熱蒸鍍工藝已經(jīng)取得令人滿意的結(jié)果。高頻感應蒸發(fā)源的特點:1)蒸發(fā)速率大,可比電阻蒸發(fā)源大10倍左右;2)蒸發(fā)源的溫度均勻穩(wěn)定,不易產(chǎn)生飛濺現(xiàn)象;3)蒸發(fā)材料是金屬時,蒸發(fā)材料可產(chǎn)生熱量;4)蒸發(fā)源一次裝料,無需送料機構(gòu),溫度控制比較容易,操作比較簡單。它的缺點是:1)必須采用抗熱震性好,高溫化學性能穩(wěn)定的氮化硼坩鍋;2)蒸發(fā)裝置必須屏蔽,并需要較復雜和昂貴的高頻發(fā)生器;3)線圈附近的壓強是有定值的,超過這個定值,高頻場就會使殘余氣體電離,使功耗增大。激光束蒸發(fā)源蒸鍍法采用激光束蒸發(fā)源的蒸鍍技術(shù)是一種理想的薄膜制備方法。這是由于激光器可能安裝在真空室之外,這樣不但簡化了真空室內(nèi)部的空間布置,減少了加熱源的放氣,而且還可以完全避免了蒸發(fā)器對被鍍材料的污染,達到了膜層純潔的目的。此外,激光加熱可以達到極高的溫度。遼寧卷繞鍍膜機質(zhì)量保證上海卷繞鍍膜機哪家比較劃算?

離子鍍蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子碰撞電離后以離子沉積在固體表面,稱為離子鍍。這種技術(shù)是D.麥托克斯于1963年提出的。離子鍍是真空蒸發(fā)與陰極濺射技術(shù)的結(jié)合。一種離子鍍系統(tǒng)如圖4[離子鍍系統(tǒng)示意圖],將基片臺作為陰極,外殼作陽極,充入惰性氣體(如氬)以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源蒸發(fā)的分子通過等離子區(qū)時發(fā)生電離。正離子被基片臺負電壓加速打到基片表面。未電離的中性原子(約占蒸發(fā)料的95%)也沉積在基片或真空室壁表面。電場對離化的蒸氣分子的加速作用(離子能量約幾百~幾千電子伏)和氬離子對基片的濺射清洗作用,使膜層附著強度**提高。離子鍍工藝綜合了蒸發(fā)(高沉積速率)與濺射(良好的膜層附著力)工藝的特點,并有很好的繞射性,可為形狀復雜的工件鍍膜。光學鍍膜材料(純度:)高純氧化物一氧化硅、SiO,二氧化鉿、HfO2,二硼化鉿,氯氧化鉿,二氧化鋯、ZrO2,二氧化鈦、TiO2,一氧化鈦、TiO,二氧化硅、SiO2,三氧化二鈦、Ti2O3,五氧化三鈦、Ti3O5,五氧化二鉭、Ta2O5,五氧化二鈮、Nb2O5,三氧化二鋁、Al2O3,三氧化二鈧、Sc2O3,三氧化二銦、In2O3,二鈦酸鐠、Pr(TiO3)2,二氧化鈰、CeO2,氧化鎂、MgO,三氧化鎢、WO3,氧化釤、Sm2O3,氧化釹、Nd2O3。

真空鍍膜技術(shù)是氣相物理沉積的方法之一,也叫真空電鍍.是在真空條件下,用蒸發(fā)器加熱鍍膜材料使之升華,蒸發(fā)粒子流直接射向基體,在基體表面沉積形成固體薄膜.真空鍍膜的應用***,如真空鍍鋁,在塑料等基體上進行真空鍍,再經(jīng)過不同顏色的染色處理,可以應用于家具、工藝品、燈飾、鐘表、玩具、汽車燈具、反光鏡及柔軟包裝材料等產(chǎn)品制造中,裝飾效果十分出色.真空鍍膜技術(shù)基本原理真空鍍膜過程簡單來說就是電子在電場的作用下加速飛向基片的過程中與氬原子發(fā)生碰撞,電離出大量的氬離子和電子,電子飛向基片.氬離子在電場的作用下加速轟擊靶材,濺射出大量的靶材原子,呈中性的靶原子(或分子)沉積在基片上成膜.但在實際輝光放電直流濺射系統(tǒng)中,自持放電很難在低于.事實上,真空鍍膜中二次電子在加速飛向基片的過程中受到磁場洛侖磁力的影響,被束縛在靠近靶面的等離子體區(qū)域內(nèi),該區(qū)域內(nèi)等離子體密度很高,二次電子在磁場的作用下圍繞靶面作圓周運動,該電子的運動路徑很長,在運動過程中不斷的與氬原子發(fā)生碰撞電離出大量的氬離子轟擊靶材,經(jīng)過多次碰撞后電子的能量逐漸降低,擺脫磁力線的束縛,遠離靶材,Z終沉積在基片上.真空鍍膜就是以磁場束縛而延長電子的運動路徑,改變電子的運動方向。卷繞鍍膜機在安裝時有什么注意事項?

耐磨性和耐腐蝕性更好,膜層的性能也更穩(wěn)定;PVD鍍膜可以鍍的膜層的種類更為***,可以鍍出的各種膜層的顏色也更多更漂亮;PVD鍍膜不會產(chǎn)生有毒或有污染的物質(zhì)。Q5:請問PVD鍍膜能否代替化學電鍍?A5:在現(xiàn)階段,PVD鍍膜是不能取代化學電鍍的,并且除了在不銹鋼材料表面可直接進行PVD鍍膜外,在很多其他材料(如鋅合金、銅、鐵等)的工件上進行PVD鍍膜前,都需要先對它們進行化學電鍍Cr(鉻)。PVD鍍膜主要應用在一些比較***的五金制品上,對那些價格較低的五金制品通常也只是進行化學電鍍而不做PVD鍍膜。Q6:請問采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層有什么特點?A6:采用PVD鍍膜技術(shù)鍍出的膜層,具有高硬度、高耐磨性(低摩擦系數(shù))、很好的耐腐蝕性和化學穩(wěn)定性等特點,膜層的壽命更長;同時膜層能夠大幅度提高工件的外觀裝飾性能。Q7:請問PVD能在鍍在什么基材上?A7:PVD膜層能直接鍍在不銹鋼以及硬質(zhì)合金上,對鋅合金、銅、鐵等壓鑄件應先進行化學電鍍鉻,然后才適合鍍PVD。Q8:請問PVD鍍膜能夠鍍出的膜層種類有那些?A8:PVD鍍膜技術(shù)是一種能夠真正獲得微米級鍍層且無污染的環(huán)保型表面處理方法,它能夠制備各種單一金屬膜(如鋁、鈦、鋯、鉻等)、氮化物膜。江蘇卷繞鍍膜機廠商?特定卷繞鍍膜機共同合作

卷繞鍍膜機有哪些特征?陜西卷繞鍍膜機生產(chǎn)廠家

凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍膜又可以分為下列幾種:電阻蒸發(fā)源蒸鍍法采用鉭,鉬,鎢等高熔點金屬,做成適當形狀的蒸發(fā)源,其上裝入待蒸發(fā)材料,讓氣流通過,對蒸發(fā)材料進行直接加熱蒸發(fā),或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁,氧化鈹?shù)熔徨佒羞M行間接加熱蒸發(fā),這就是電阻加熱蒸發(fā)法。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機結(jié)構(gòu)簡單,造價便宜,使用可靠,可用于熔點不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜,尤其適用于對鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中,迄今為止,在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點是:加熱所能達到的**高溫度有限,加熱器的壽命也較短。近年來,為了提高加熱器的壽命,國內(nèi)外已采用壽命較長的氮化硼合成的導電陶瓷材料作為加熱器。據(jù)日本**報道,可采用20%~30%的氮化硼和能與其相熔的耐火材料所組成的材料來制作坩鍋,并在表面涂上一層含62%~82%的鋯,其余為鋯硅合金材料。電子束蒸發(fā)源蒸鍍法將蒸發(fā)材料放入水冷鋼坩鍋中,直接利用電子束加熱,使蒸發(fā)材料氣化蒸發(fā)后凝結(jié)在基板表面成膜,是真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)中的一種重要的加熱方法和發(fā)展方向。電子束蒸發(fā)克服了一般電阻加熱蒸發(fā)的許多缺點。陜西卷繞鍍膜機生產(chǎn)廠家

無錫光潤真空科技有限公司(簡稱“光潤真空”)是從事真空鍍膜設(shè)備研發(fā)、設(shè)計、銷售、制造、服務于一體的綜合性科技公司。

光潤真空技術(shù)團隊具有20多年真空鍍膜設(shè)備研制和工藝開發(fā)的經(jīng)驗,公司開發(fā)的GRJR系列、GRDR系列卷繞鍍膜設(shè)備等在國內(nèi)處于**水平。公司產(chǎn)品覆蓋磁控濺射卷繞鍍膜設(shè)備、電子束蒸發(fā)卷繞鍍膜設(shè)備、蒸發(fā)鍍膜**設(shè)備、磁控濺射真空鍍膜**設(shè)備、多弧離子真空鍍膜**設(shè)備等。

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