MEMS超表面對特性的調(diào)控：

1.超表面meta-surface對偏振的調(diào)控：在偏振方面，超表面可實現(xiàn)偏振轉換、旋光、矢量光束產(chǎn)生等功能。

2.超表面meta-surface對振幅的調(diào)控。超表面可以實現(xiàn)光的非對稱透過、消反射、增透射、磁鏡、類EIT效應等。

3.超表面meta-surface對頻率的調(diào)控。超表面的微結構在共振情況下可實現(xiàn)較強的局域場增 強，利用這些局域場增大效應，可以實現(xiàn)非線性信號或熒光信號的增強。在可見光波段，不同頻率的光對應不同的顏色，超表面的頻率選擇特性可以用于實現(xiàn)結構色。我們在自然界中看到的顏色從產(chǎn)生原理上可以分為兩大類，一類是由材料的反射、吸收、散射等特性決定的顏色，比如常見的顏料、塑料袋的顏色等；另一類是由物質的結構，而不是其所用材料來決定的顏色，即所謂的結構色，比如蝴蝶的顏色、某些魚類的顏色等。人們利用超表面，可以通過改變其結構單元的尺寸、形狀等幾何參數(shù)來實現(xiàn)對超表面的顏色的自由調(diào)控，可用于高像素成像、可視化生物傳感Bio-sensor等領域。 MEMS制作工藝柔性電子的常用材料是什么？河北有什么MEMS微納米加工

MEMS制作工藝-聲表面波器件的特點：

3.由于聲表面波器件是在單晶材料上用半導體平面工藝制作的，所以它具有很好的一致性和重復性，易于大量生產(chǎn)，而且當使用某些單晶材料或復合材料時，聲表面波器件具有極高的溫度穩(wěn)定性。

4.聲表面波器件的抗輻射能力強，動態(tài)范圍很大，可達100dB。這是因為它利用的是晶體表面的彈性波而不涉及電子的遷移過程

此外，在很多情況下，聲表面波器件的性能還遠遠超過了很好的電磁波器件所能達到的水平。比如用聲表面波可以作成時間-帶寬乘積大于五千的脈沖壓縮濾波器，在UHF頻段內(nèi)可以作成Q 值超過五萬的諧振腔，以及可以作成帶外抑制達70dB 、頻率達1 低Hz 的帶通濾波器 江蘇標準MEMS微納米加工MEMS微納米加工市場調(diào)研。

MEMS的采樣精度，速度，適用性都可以達到較高水平，同時由于其體積優(yōu)勢可直接植入人體，是醫(yī)療輔助設備中關鍵的組成部分。傳統(tǒng)大型醫(yī)療器械優(yōu)勢明顯，精度高，但價格昂貴，普及難度較大，且一般一臺設備只完成單一功能。相比之下，某些醫(yī)療目標可以通過MEMS技術，利用其體積小的優(yōu)勢，深入接觸測量目標，在達到一定的精度下，降低成本，完成多重功能的整合。以近期所了解的一些MEMS項目為例，通過MEMS生物傳感器對體內(nèi)某些指標進行測量，同時MEMS執(zhí)行器（actuator）可直接作用于病變組織進行更直接的醫(yī)療，同時系統(tǒng)可以通過MEMS能量收集器進行無線供電，多組單元可以通過MEMS通信器進行信息傳輸。個人認為，MEMS醫(yī)療前景廣闊，不過離成熟運用還有不短的距離，尤其考慮到技術難度，可靠性，人體安全等。

MEMS制作工藝柔性電子的領域：

隨著電子設備的發(fā)展，柔性電子設備越來越受到大家的重視，這種設備是指在存在一定范圍的形變（彎曲、折疊、扭轉、壓縮或拉伸）條件下仍可工作的電子設備。

柔性電子涵蓋有機電子、塑料電子、生物電子、納米電子、印刷電子等，包括RFID、柔性顯示、有機電致發(fā)光(OLED)顯示與照明、化學與生物傳感器、柔性光伏、柔性邏輯與存儲、柔性電池、可穿戴設備等多種應用。隨著其快速的發(fā)展，涉及到的領域也進一步擴展，目前已經(jīng)成為交叉學科中的研究熱點之一。 MEMS傳感器基本構成是什么？

MEMS制作工藝柔性電子的常用材料：

碳納米管（CNT）由于其高的本征載流子遷移率，導電性和機械靈活性而成為用于柔性電子學的有前途的材料，既作為場效應晶體管（FET）中的溝道材料又作為透明電極。管狀碳基納米結構可以被設想成石墨烯卷成一個無縫的圓柱體，它們獨特的性質使其成為理想的候選材料。因為它們具有高的固有載流子遷移率和電導率，機械靈活性以及低成本生產(chǎn)的潛力。另一方面，薄膜基碳納米管設備為實現(xiàn)商業(yè)化提供了一條實用途徑。 MEMS常見的產(chǎn)品-聲學傳感器。陜西MEMS微納米加工生物芯片

汽車上的MEMS傳感器有哪些？河北有什么MEMS微納米加工

MEMS制作工藝深硅刻蝕即ICP刻蝕工藝：硅等離子體刻蝕工藝的基本原理干法刻蝕是利用射頻電源使反應氣體生成反應活性高的離子和電子，對硅片進行物理轟擊及化學反應，以選擇性的去除我們需要去除的區(qū)域。被刻蝕的物質變成揮發(fā)性的氣體，經(jīng)抽氣系統(tǒng)抽離，然后按照設計圖形要求刻蝕出我們需要實現(xiàn)的深度。干法刻蝕可以實現(xiàn)各向異性，垂直方向的刻蝕速率遠大于側向的。其原理如圖所示，生成CF基的聚合物以進行側壁掩護，以實現(xiàn)各向異性刻蝕刻蝕過程一般來說包含物理濺射性刻蝕和化學反應性刻蝕。對于物理濺射性刻蝕就是利用輝光放電，將氣體解離成帶正電的離子，再利用偏壓將離子加速，濺擊在被蝕刻物的表面，而將被蝕刻物質原子擊出(各向異性)。對于化學反應性刻蝕則是產(chǎn)生化學活性極強的原(分)子團，此原(分)子團擴散至待刻蝕物質的表面，并與待刻蝕物質反應產(chǎn)生揮發(fā)性的反應生成物(各向同性)，并被真空設備抽離反應腔河北有什么MEMS微納米加工