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珠海數(shù)字溫度傳感器價(jià)格

來源: 發(fā)布時(shí)間:2023-10-12

    且所述硅片在空腔上方連接起來,將所述空腔封閉。對(duì)開設(shè)有溝槽的硅片進(jìn)行適當(dāng)?shù)臒崽幚?,?dāng)硅片被加熱到一定溫度時(shí),硅原子的振動(dòng)能較大,導(dǎo)致原子的移動(dòng)能加強(qiáng),硅原子會(huì)發(fā)生遷移。由于硅片上開設(shè)有溝槽,且溝槽側(cè)壁的間距較小,當(dāng)硅原子遷移運(yùn)動(dòng)達(dá)到一定程度時(shí),硅原子會(huì)進(jìn)入溝槽內(nèi),硅片內(nèi)部的溝槽會(huì)發(fā)生形變,溝槽上部被硅封閉,若干溝槽中間部位相互連通,形成一空腔(如圖b所示)。即空腔處于硅片的中間,空腔的上部和下部均具有硅結(jié)構(gòu),上下硅結(jié)構(gòu)被空腔隔離開。在一實(shí)施例中,熱退火的溫度可為℃。改變溝槽的間距,可以得到不同形態(tài)的空腔,且間距越大,所需的退火溫度就越高,但是退火的持續(xù)時(shí)間不超過min。在本實(shí)施例中,溝槽陣列中溝槽之間的間距大于內(nèi)部溝槽的間距,如此可以避免在空腔邊緣處形成缺口。同時(shí),熱退火需要在一隔離環(huán)境中進(jìn)行,如真空環(huán)境或者惰性氣體環(huán)境,保證在熱退火過程中硅不會(huì)與環(huán)境中的物質(zhì)發(fā)生化學(xué)反應(yīng)。在本實(shí)施例中。熱退火在氫氣環(huán)境中進(jìn)行。步驟s:氧化所述空腔上部的硅片得到氧化硅薄膜。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括:一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是:電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開發(fā)與銷售;國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。溫度傳感器按測(cè)量方式可分為接觸式和非接觸式兩大類。珠海數(shù)字溫度傳感器價(jià)格

    空腔上方為殘留的未氧化的硅以及在硅上生成的氧化硅薄膜,通過刻蝕工藝去除上方的氧化硅薄膜,保留空腔上方的硅,此時(shí)硅的厚度減小,繼續(xù)通過上述熱氧化、刻蝕和熱氧化的循環(huán)工藝逐漸減小空腔上方硅的厚度,直至后一次熱氧化后空腔上方的硅全部生成氧化硅薄膜,由此實(shí)現(xiàn)上層氧化硅薄膜與下層硅通過空腔隔離。此時(shí),溫度傳感器的基作完成。在一實(shí)施例中,在得到上述氧化硅薄膜后還可在氧化硅薄膜上形成氮化硅薄膜或者聚酰亞胺薄膜,由于氧化硅內(nèi)部存在較大的應(yīng)力,氧化硅薄膜容易斷裂。在氧化硅薄膜上面再淀積一層氮化硅薄膜或者聚酰亞胺薄膜,可以平衡氧化硅內(nèi)部應(yīng)力。使氧化硅薄膜結(jié)構(gòu)更加穩(wěn)定。步驟s:在所述氧化硅薄膜上形成測(cè)溫單元,所述測(cè)溫單元用于感測(cè)環(huán)境溫度。在溫度傳感器基作完成后,需要做基底上形成測(cè)溫單元,測(cè)溫單元是溫度傳感器的工作單元。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括:一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是:電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開發(fā)與銷售;國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營(yíng)推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR(凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國(guó)際品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于:汽車、通信、消費(fèi)電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。武漢通訊溫度傳感器哪個(gè)靠譜廣東溫度傳感器哪家較好,認(rèn)準(zhǔn)深圳美信美科技有限公司。

    圖為與圖對(duì)應(yīng)的溫度傳感器俯視圖;圖為另一實(shí)施例中溫度傳感器側(cè)視圖;圖為與圖對(duì)應(yīng)的溫度傳感器俯視圖。具體實(shí)施方式為了便于理解,下面將參照相關(guān)附圖對(duì)進(jìn)行更的描述。附圖中給出了的實(shí)施例。但是,可以以許多不同的形式來實(shí)現(xiàn),并不限于本文所描述的實(shí)施例。相反地。提供這些實(shí)施例的目的是使對(duì)的公開內(nèi)容更加透徹。除非另有定義。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括:一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是:電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開發(fā)與銷售;國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營(yíng)推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR。凌特)以及TI、MAXIM、NXP等國(guó)際品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于:汽車、通信、消費(fèi)電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。本公司一直秉承優(yōu)勢(shì)服務(wù),誠(chéng)信合作的原則,以現(xiàn)代化管理以及優(yōu)勢(shì)的渠道價(jià)格、良好的信譽(yù)與廣大客戶建立了長(zhǎng)期友好的合作關(guān)系,為廣大廠商和市場(chǎng)客戶提供優(yōu)勢(shì)的產(chǎn)品服務(wù)。本文所使用的所有的技術(shù)和科學(xué)術(shù)語與屬于的技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員通常理解的含義相同。本文中在的說明書中所使用的術(shù)語只是為了描述具體的實(shí)施例的目的,不是旨在于限制。本文所使用的術(shù)語“及/或”包括一個(gè)或多個(gè)相關(guān)的所列項(xiàng)目的任意的和所有的組合。

    并在鈍化層上對(duì)應(yīng)所述溫度傳感器引出輸出端子處設(shè)有通孔。因上述熱電阻傳感器中上層有金屬結(jié)構(gòu)如金屬鋁和金屬鉑,對(duì)于直接暴露在空氣中時(shí)容易氧化的金屬層,其上還形成一層鈍化層,可對(duì)金屬層進(jìn)行保護(hù)。同時(shí),需要在對(duì)應(yīng)溫度傳感器引出端子處開設(shè)通孔,通過通孔可引出輸出端子。在本實(shí)施例中,是在兩端的金屬鋁上方的鈍化層開設(shè)通孔。鈍化層可為氧化硅層或氮化硅層,也可為疊設(shè)的氧化硅層和氮化硅層。在一實(shí)施例中,測(cè)溫單元為一熱電偶傳感結(jié)構(gòu),其具體形成過程為:步驟s:在所述氧化硅薄膜上淀積一層多晶硅層,所述多晶硅層包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條。如圖和圖所示,在氧化硅薄膜上淀積一層多晶硅層,該多晶硅層包括并排且間隔設(shè)置的n型多晶硅條和p型多晶硅條。n型多晶硅可為在多晶硅內(nèi)部摻雜ⅴ族元素形成導(dǎo)電類型為n型的多晶硅,且其內(nèi)部摻雜均勻。p型多晶硅可為在多晶硅內(nèi)部摻雜ⅲ族元素形成導(dǎo)電類型為p型的多晶硅,且其內(nèi)部摻雜均勻。n型多晶硅條和p型多晶硅條形狀相同,在本方案中,n型多晶硅條和p型多晶硅條為長(zhǎng)條型,多晶硅條平行設(shè)置,具有相同的間距。步驟s:在多晶硅層上淀積第三金屬層,第三金屬層包括位于相鄰多晶硅條之間的金屬結(jié)構(gòu)。溫度傳感器的工作過程都是分別和一個(gè)電阻串聯(lián)后,對(duì)+5V電壓進(jìn)行分壓,分壓后的電壓送入CPU內(nèi)部。

    涉及溫度傳感器領(lǐng)域,特別是涉及一種溫度傳感器制備方法及溫度傳感器。背景技術(shù):溫度傳感器包括測(cè)溫單元和承載該測(cè)溫單元的基底。溫度傳感器通常以導(dǎo)熱率低的材料做基底,如在二氧化硅上淀積測(cè)溫材料形成溫度傳感器。在工藝制程中,通過氧化硅片以在硅片表面生產(chǎn)一層二氧化硅,其中,二氧化硅的導(dǎo)熱率較低,但是硅的導(dǎo)熱率較高,為避免通過基底下部的硅導(dǎo)熱,通常還需通過深槽刻蝕的方式對(duì)氧化硅層背面的硅進(jìn)行刻蝕,如通過氫氧化鉀的刻蝕液進(jìn)行濕法刻蝕,也可用深反應(yīng)離子刻蝕(deepreactiveionetching)工藝進(jìn)行干法刻蝕。無論是濕法刻蝕還是干法刻蝕,其工藝時(shí)間都會(huì)較長(zhǎng)且成本較高。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素:基于此,有必要針對(duì)傳統(tǒng)技術(shù)中溫度傳感器以二氧化硅為基底時(shí)獲取基底的工藝時(shí)間較長(zhǎng)且成本較高的問題,提出了一種新的溫度傳感器制備方法。一種溫度傳感器制備方法,包括:在硅片形成若干溝槽;熱退火使所述若干溝槽變形后相互連通形成一空腔,且所述硅片在所述空腔上方連接起來,將所述空腔封閉;氧化所述空腔上部的硅片得到氧化硅薄膜;在所述氧化硅薄膜上形成測(cè)溫單元,所述測(cè)溫單元用于感測(cè)環(huán)境溫度。上述溫度傳感器制備方法,先通過刻蝕在硅片上形成若干溝槽。變速器油溫傳感器汽車系統(tǒng)中也是十分常見的。重慶NTC溫度傳感器哪個(gè)靠譜

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    n型多晶硅條和p型多晶硅條形狀相同,在本方案中,n型多晶硅條和p型多晶硅條為長(zhǎng)條型,多晶硅條平行設(shè)置,具有相同的間距。在多晶硅層上淀積有第三金屬層,第三金屬層包括金屬結(jié)構(gòu)和第二金屬結(jié)構(gòu)。金屬結(jié)構(gòu)位于相鄰多晶硅條之間,該多晶硅條通過金屬結(jié)構(gòu)連接,金屬結(jié)構(gòu)具體為位于相鄰多晶硅條端部位置,所有n型多晶硅條和p型多晶硅條通過該金屬結(jié)構(gòu)形成一串聯(lián)結(jié)構(gòu),因此,當(dāng)具有m個(gè)多晶硅條時(shí)。需要m-個(gè)金屬結(jié)構(gòu)使多晶硅條串聯(lián)起來。一個(gè)n型多晶硅條與一個(gè)p型多晶硅條串聯(lián)形成一個(gè)塞貝克(seebeck)結(jié)構(gòu),在本方案中,是多個(gè)塞貝克結(jié)構(gòu)串聯(lián)形成一個(gè)測(cè)溫單元,因此。m需為偶數(shù)。第二金屬結(jié)構(gòu)淀積于多晶硅層外側(cè)的兩端,以便于引出溫度傳感器的輸出端子。在本實(shí)施例中,第三金屬層為金屬鋁層。上述熱電偶傳感結(jié)構(gòu),利用兩不同類型的半導(dǎo)體兩端的溫度不同時(shí),會(huì)在半導(dǎo)體內(nèi)部產(chǎn)生溫差電動(dòng)勢(shì),不同類型的半導(dǎo)體其溫差電動(dòng)勢(shì)不同。將兩種半導(dǎo)體兩端連接形成閉合回路時(shí),在回路中有電流產(chǎn)生。深圳市美信美科技有限公司于2020年04月17日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括:一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是:電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開發(fā)與銷售;國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營(yíng)推廣銷售AD(亞德諾),LINEAR。珠海數(shù)字溫度傳感器價(jià)格

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