銅通孔)連接至上面的互連層。在一些實(shí)施例中，底電極通孔和頂電極通孔可以包括金屬，諸如氮化鈦(tin)、氮化鉭(tan)、鈦(ti)、鉭(ta)等。在一些實(shí)施例中，互連層b從調(diào)節(jié)mtj器件正上方連續(xù)延伸至調(diào)節(jié)mtj器件正上方。調(diào)節(jié)mtj器件、調(diào)節(jié)mtj器件和工作mtj器件分別包括由介電遂穿阻擋層分隔開的自由層和固定層。自由層具有被配置為響應(yīng)于電信號(hào)(例如，電流)而改變的磁矩。固定層具有固定的磁取向，該磁取向被配置為用作參考磁方向和/或減少對(duì)自由層的磁沖擊。在一些實(shí)施例中，mtj中的一個(gè)或多個(gè)可以包括附加層。例如，在一些實(shí)施例中。mtj中的一個(gè)或多個(gè)可以包括位于底電極通孔和固定層之間的反鐵磁層。在其它實(shí)施例中，mtj中的一個(gè)或多個(gè)可以包括以各種方式布置的附加固定層(例如，附加固定層、附加固定層等)和/或附加自由層(例如，附加自由層、附加自由層等)以改進(jìn)mtj的性能。圖b示出了對(duì)應(yīng)于圖的存儲(chǔ)器陣列的集成芯片的一些可選實(shí)施例的截面圖。集成芯片包括布置在襯底上方的介電結(jié)構(gòu)。介電結(jié)構(gòu)圍繞存儲(chǔ)單元a,。存儲(chǔ)單元a,包括工作mtj器件和具有調(diào)節(jié)mtj器件和調(diào)節(jié)mtj器件的調(diào)節(jié)訪問裝置。介電結(jié)構(gòu)還圍繞多個(gè)導(dǎo)電互連層a至f。多個(gè)導(dǎo)電互連層a至f包括互連層a。買集成電路，認(rèn)準(zhǔn)深圳美信美科技有限公司。江蘇特大規(guī)模集成電路封裝

    的實(shí)施例總體涉及半導(dǎo)體領(lǐng)域，更具體地，涉及集成電路及其形成方法。背景技術(shù)：許多現(xiàn)代電子器件包含配置為存儲(chǔ)數(shù)據(jù)的電子存儲(chǔ)器。電子存儲(chǔ)器可以是易失性存儲(chǔ)器或非易失性存儲(chǔ)器。易失性存儲(chǔ)器在上電時(shí)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)，而非易失性存儲(chǔ)器能夠在斷開電源時(shí)存儲(chǔ)數(shù)據(jù)。磁阻式隨機(jī)存取存儲(chǔ)器(mram)是用于下一代非易失性存儲(chǔ)器技術(shù)的一種有前景的候選。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：根據(jù)的一個(gè)方面，提供了一種集成芯片，包括：工作磁隧道結(jié)(mtj)器件，連接至位線，其中，所述工作磁隧道結(jié)器件被配置為存儲(chǔ)數(shù)據(jù)狀態(tài)；以及調(diào)節(jié)訪問裝置，連接在所述工作磁隧道結(jié)器件和字線之間，其中，所述調(diào)節(jié)訪問裝置包括被配置為控制提供給所述工作磁隧道結(jié)器件的電流的一個(gè)或多個(gè)調(diào)節(jié)磁隧道結(jié)器件。根據(jù)的另一個(gè)方面，提供了一種集成電路，包括：互連層，布置在襯底上方的介電結(jié)構(gòu)內(nèi)，其中，所述互連層通過所述介電結(jié)構(gòu)與所述襯底分隔開；以及工作mtj器件，布置在所述互連層正上方并且被配置為存儲(chǔ)數(shù)據(jù)狀態(tài)，其中，所述工作mtj器件通過包括多個(gè)互連層且不延伸穿過所述襯底的連續(xù)導(dǎo)電路徑電連接在位線和字線之間。根據(jù)的又一個(gè)方面，提供了一種形成集成電路的方法。包括：在襯底上方形成互連層。沈陽(yáng)模擬集成電路IC這些年來，集成電路持續(xù)向更小的外型尺寸發(fā)展，使得每個(gè)芯片可以封裝更多的電路。

    為了達(dá)到這個(gè)目標(biāo)，在過去的幾十年間，存儲(chǔ)單元組件的尺寸已經(jīng)不斷縮小。mtj器件超越其它存儲(chǔ)器類型的一個(gè)優(yōu)勢(shì)是mtj器件的mtj可以制成非常小的尺寸。然而，在mram單元中，驅(qū)動(dòng)晶體管(即，存取晶體管)用于在讀取和/或?qū)懭氩僮髌陂g選擇性地向相關(guān)的mtj器件提供電壓和/或電流。因?yàn)閙ram單元通常對(duì)寫入操作使用相對(duì)高的電壓和/或電流，所以驅(qū)動(dòng)晶體管的尺寸可能相對(duì)較大。雖然可以使mram單元的mtj具有小的尺寸，但是相對(duì)大尺寸的驅(qū)動(dòng)晶體管限制了存儲(chǔ)器陣列內(nèi)的小型ram單元可以縮小的程度。在一些實(shí)施例中，涉及集成芯片，該集成芯片包括具有多個(gè)存儲(chǔ)單元(例如，mram單元)的存儲(chǔ)器陣列，存儲(chǔ)單元不包括驅(qū)動(dòng)晶體管(即，不使用驅(qū)動(dòng)晶體管來對(duì)存儲(chǔ)單元提供電壓和/或電流)。而且，多個(gè)存儲(chǔ)單元分別包括調(diào)節(jié)訪問裝置，該調(diào)節(jié)訪問裝置被配置為選擇性地對(duì)存儲(chǔ)器陣列內(nèi)的工作mtj器件提供訪問。調(diào)節(jié)訪問裝置具有連接至工作mtj器件的一個(gè)或多個(gè)調(diào)節(jié)mtj器件。一個(gè)或多個(gè)調(diào)節(jié)mtj器件被配置為通過控制(即。調(diào)節(jié))提供給工作mtj器件的電流來選擇性地對(duì)工作mtj器件提供訪問。通過使用調(diào)節(jié)訪問裝置來選擇性地對(duì)存儲(chǔ)器陣列內(nèi)的工作mtj器件提供訪問，可以減小存儲(chǔ)器陣列內(nèi)的存儲(chǔ)單元(例如。

    由于需要多根鍵合線，鍵合工序周期長(zhǎng)，成本高，從而導(dǎo)致總體性價(jià)比不高。而為了解決高功率密度的問題，qfn封裝方式由于帶有較大散熱片常常在一些要求高功率密度的產(chǎn)品上得到廣泛的應(yīng)用；在qfn封裝內(nèi)部，鍵合線由金線，銅線，鋁線轉(zhuǎn)向具有大通流能力的鋁片，銅片，并由此減少了接觸電阻，降低了封裝的寄生參數(shù)。深圳市美信美科技有限公司于年月日成立。公司經(jīng)營(yíng)范圍包括：一般經(jīng)營(yíng)項(xiàng)目是：電子產(chǎn)品及其配件的技術(shù)開發(fā)與銷售；國(guó)內(nèi)貿(mào)易等。本公司主營(yíng)推廣銷售AD（亞德諾）,LINEAR（凌特）以及TI、MAXIM、NXP等國(guó)際有名品牌集成電路。產(chǎn)品廣泛應(yīng)用于：汽車、通信、消費(fèi)電子、工業(yè)控制、醫(yī)療器械、儀器儀表、安防監(jiān)控等領(lǐng)域。這是一種在小型化和高功率密度產(chǎn)品上比較成功的封裝結(jié)構(gòu)。同樣的，bga封裝也具有更小的體積、更好的散熱性能和電性能以及更短的電氣聯(lián)結(jié)路線從而在多引腳的cpu以及內(nèi)存芯片上得到廣泛應(yīng)用。本申請(qǐng)?jiān)诖嘶A(chǔ)上，提出了一種封裝結(jié)構(gòu)，該方法結(jié)合qfn和bga封裝的優(yōu)點(diǎn)，滿足大電流聯(lián)結(jié)，小封裝尺寸，多層結(jié)構(gòu)的聯(lián)結(jié)結(jié)構(gòu)，生產(chǎn)工藝簡(jiǎn)單，性價(jià)比高，具有較高的經(jīng)濟(jì)性。技術(shù)實(shí)現(xiàn)要素：依據(jù)本申請(qǐng)一方面本集成電路封裝結(jié)構(gòu)包括上基板。下基板，中間填充層。我國(guó)的集成電路產(chǎn)業(yè)起步較晚，因此發(fā)展集成電路顯得越來越重要。

    內(nèi)的調(diào)節(jié)mtj器件。然而，電流i的兩倍小于切換電流isw，使得沒有將數(shù)據(jù)狀態(tài)寫入至存儲(chǔ)單元a,和第三存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件。圖c示出了示出從工作mtj器件讀取數(shù)據(jù)狀態(tài)的讀取操作的示意圖的一些實(shí)施例。如示意圖所示，通過將非零偏置電壓v(例如，v)施加至字線wl，對(duì)存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件實(shí)施讀取操作。非零偏置電壓v將使得讀取電流ir通過存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件。通過工作mtj器件的讀取電流ir具有取決于工作mtj器件的電阻狀態(tài)的值。例如，工作mtj器件處于低電阻狀態(tài)(例如，存儲(chǔ)邏輯“”)時(shí)的讀取電流ir將大于工作mtj器件處于高電阻狀態(tài)(例如，存儲(chǔ)邏輯“”)的讀取電流ir。在一些實(shí)施例中，位線解碼器可以包括多路復(fù)用器，多路復(fù)用器被配置為確定存儲(chǔ)器陣列的期望輸出。多路復(fù)用器被配置為將來自存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件的讀取電流ir選擇性地提供給感測(cè)放大器，感測(cè)放大器被配置為比較ir與由電流源產(chǎn)生的參考電流iref，以確定存儲(chǔ)在存儲(chǔ)單元a,內(nèi)的工作mtj器件中的數(shù)據(jù)狀態(tài)。圖a示出了對(duì)應(yīng)于圖的存儲(chǔ)器陣列的集成芯片的一些實(shí)施例的截面圖。集成芯片包括布置在襯底上方的介電結(jié)構(gòu)。介電結(jié)構(gòu)圍繞存儲(chǔ)單元a,和存儲(chǔ)單元b,，存儲(chǔ)單元b,鄰近于存儲(chǔ)單元a,橫向定位。穩(wěn)定靠譜的集成電路供應(yīng)，認(rèn)準(zhǔn)深圳美信美科技現(xiàn)貨商。上海圓形集成電路封裝

極大規(guī)模集成電路：邏輯門10,001~1M個(gè)或 晶體管100,001~10M個(gè)。江蘇特大規(guī)模集成電路封裝

    介電結(jié)構(gòu)還圍繞多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c。在一些實(shí)施例中，介電結(jié)構(gòu)可以包括多個(gè)堆疊的ild層。在各個(gè)實(shí)施例中，多個(gè)堆疊的ild層可以包括氧化硅、氟摻雜的氧化硅、碳摻雜的氧化硅等的一種或多種。在各個(gè)實(shí)施例中，多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c可以包括銅、鋁、鎢、碳納米管等。存儲(chǔ)單元a,和存儲(chǔ)單元b,分別包括調(diào)節(jié)訪問裝置和工作mtj器件。調(diào)節(jié)訪問裝置連接至限定多條字線wl至wl的互連層a。多條字線wl至wl中的兩個(gè)連接至圖的存儲(chǔ)器陣列的一行內(nèi)的相應(yīng)存儲(chǔ)單元。例如，字線wl至wl可以連接至行中的存儲(chǔ)單元a,，并且字線wl至wl可以連接至行中的存儲(chǔ)單元b,。在一些實(shí)施例中，多條字線wl至wl可以與襯底分隔開非零距離d?；ミB層b布置在調(diào)節(jié)訪問裝置和工作mtj器件之間。工作mtj器件進(jìn)一步連接至限定位線bl的第三互連層c。位線bl連接至布置在存儲(chǔ)器陣列的一列內(nèi)的存儲(chǔ)單元內(nèi)的工作mtj器件。例如，位線bl連接至圖的存儲(chǔ)器陣列的列內(nèi)的工作mtj器件。在一些實(shí)施例中，工作mtj器件通過包括多個(gè)導(dǎo)電互連層a至c并且不延伸穿過襯底的連續(xù)導(dǎo)電路徑連接在位線blz(z＝,)和字線wlx(x＝,)之間。在一些實(shí)施例中，工作mtj器件不位于被配置為控制對(duì)工作mtj器件的訪問的存取晶體管器件正上方。在一些實(shí)施例中。江蘇特大規(guī)模集成電路封裝