(1)進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

   在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加IONPUREEDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2)工作電壓-電流的影響。

  工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保廠家直供。四川銷(xiāo)售美國(guó)IONPURE EDI模塊貨源充足

美國(guó)Ionpure EDI模塊工作主要有三個(gè)過(guò)程：

a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

離子進(jìn)入濃水室后，由于陽(yáng)離子無(wú)法穿過(guò)陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無(wú)法穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽(yáng)離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進(jìn)水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來(lái)的時(shí)候，其純度可以達(dá)到接近理論純水的水平。 四川美國(guó)IONPURE EDI模塊貨源充足美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專(zhuān)業(yè)銷(xiāo)售。

美國(guó)IONPUREIP-LXM30Z模塊不需要化學(xué)再生,可連續(xù)運(yùn)行,進(jìn)而不需要傳統(tǒng)水處理工藝的混合離子交換設(shè)備再生所需的酸堿液,以及再生所排放的廢水。其主要特點(diǎn)如下:

美國(guó)ionpure IP-LXM30Z模塊的凈水基本過(guò)程

  ·連續(xù)運(yùn)行,產(chǎn)品水水質(zhì)穩(wěn)定

  ·容易實(shí)現(xiàn)全自動(dòng)控制

  ·無(wú)須用酸堿再生

  ·不會(huì)因再生而停機(jī)

  ·節(jié)省了再生用水及再生污水處理設(shè)施

  ·產(chǎn)水率高(可達(dá)95%)

  ·無(wú)須酸堿儲(chǔ)備和酸堿稀釋運(yùn)送設(shè)施

  ·占地面積小

  ·使用安全可靠,避免工人接觸酸堿

  ·降低運(yùn)行及維護(hù)成本

  ·設(shè)備單元模塊化,可靈活的組合各種流量的凈水設(shè)施

  ·安裝簡(jiǎn)單、費(fèi)用低廉

 ·設(shè)備初投資大

美國(guó)Ionpure EDI模塊在運(yùn)行過(guò)程中，樹(shù)脂分為交換區(qū)和新生區(qū)，在運(yùn)行過(guò)程中，雖然樹(shù)脂不斷進(jìn)行離子交換，但電流連續(xù)不斷地使離子再生，從而形成了一種動(dòng)態(tài)平衡；美國(guó)Ionpure EDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū)；這樣，美國(guó) Ionpure EDI模塊內(nèi)的樹(shù)脂也就不再需要化學(xué)藥品的再生，   且其產(chǎn)水品質(zhì)也得到了***的保證。

美國(guó)Ionpure EDI模塊由陰/陽(yáng)離子交換膜，混床樹(shù)脂，淡/濃水室和陰/陽(yáng)電極構(gòu)成。

美國(guó)Ionpure EDI模塊技術(shù)將電滲析和離子交換技術(shù)完美的結(jié)合在一起。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保免費(fèi)咨詢(xún)。

美國(guó)IONPURE IP-LXM30ZEDI模塊設(shè)備進(jìn)水指標(biāo)要求

◎通常為單級(jí)反滲透或二級(jí)反滲透的滲透水

◎TEA（總可交換陰離子，以CaCO3計(jì)）：<25ppm。

◎電導(dǎo)率：<40μS/cm

◎PH：6.0～9.0。當(dāng)總硬度低于0.1ppm時(shí)，EDI比較好工作的pH范圍為8.0～9.0。

◎溫度： 5～35℃。

◎進(jìn)水壓力：<4bar（60psi）。

◎硬度：（以CaCO3計(jì)）：<1.0ppm。

◎有機(jī)物（TOC）：<0.5ppm。

◎氧化劑：Cl2<0.05ppm，O3<0.02ppm。

◎變價(jià)金屬： Fe<0.01ppm，Mn<0.02ppm。

◎H2S：<0.01ppm。

◎二氧化硅：<0.5ppm。

◎色度：<5APHA。

◎二氧化碳的總量：<10ppm

◎ SDI15min：<1.0。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保量大從優(yōu)。四川直銷(xiāo)美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家好

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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