ＥＤＩ(Ｅｌｅｃｔｒｏ-ｄｅ-ｉｏｎｉｚａｔｉｏｎ)是一種將離子交換技術(shù)、離子交換膜技術(shù)和離子電遷移技術(shù)(電滲析技術(shù))相結(jié)合的純水制造技術(shù)。該技術(shù)利用離子交換能深度脫鹽來克服電滲析極化而脫鹽不徹底,又利用電滲析極化而發(fā)生水電離產(chǎn)生Ｈ和ＯＨ離子實現(xiàn)樹脂自再生來克服樹脂失效后通過化學(xué)藥劑再生的缺 陷,是20世紀80年代以來逐漸興起的新技術(shù)。經(jīng)過十幾年的發(fā)展, 美國ionpureLXM45ZEDI模塊技術(shù)已經(jīng)在北美及歐洲占據(jù)了相當部分的超純水市場。美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保服務(wù)放心可靠。石家莊正規(guī)美國IONPURE EDI模塊廠家供應(yīng)

美國西門子（IONPURE）EDI模塊在運行過程中，樹脂分為交換區(qū)和新生區(qū)，在運行過程中，雖然樹脂不斷進行離子交換，但電流連續(xù)不斷地使離子再生，從而形成了一種動態(tài)平衡；美國GEEDI模塊內(nèi)將始終保持一定空間的新生區(qū)；這樣，美國GEEDI模塊內(nèi)的樹脂也就不再需要化學(xué)藥品的再生，  且其產(chǎn)水品質(zhì)也得到了***的保證。

     美國西門子（IONPURE）EDI模塊由陰/陽離子交換膜，混床樹脂，淡/濃水室和陰/陽電極構(gòu)成。

     美國西門子（IONPURE）EDI模塊技術(shù)將電滲析和離子交換技術(shù)完美的結(jié)合在一起。 原裝美國IONPURE EDI模塊廠家報價美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保指導(dǎo)安裝。

美國ionpure LXM45ZEDI模塊裝置包括陰/陽離子交換膜、離子交換樹脂、直流電源等設(shè)備。其中陰離子交換膜只允許陰離子透過,不允許陽離子通過,而陽離子交換膜只允許陽離子透過,不允許陰離子通過。離子交換樹脂充夾在陰陽離子交換膜之間形成單個處理單元,并構(gòu)成淡水室。單元與單元之間用網(wǎng)狀物隔開,形成濃水室。在單元組兩端的直流電源陰陽電極形成電場。來水水流流經(jīng)淡水室,水中的陰 陽離子在電場作用下通過陰陽離子交換膜被***,進入濃水室。在離子交換膜之間充填的離子交換樹脂**地提高了離子被***的速度。同時,水分子在電場作用下產(chǎn)生氫離子和氫氧根離子,這些離子對離子交換樹脂進行連續(xù)再生,以使離子交換樹脂保持比較好狀態(tài)。

2．酸洗

   1）配制2.0%鹽酸溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，緩慢地加入70Kg37%濃鹽酸，邊加邊攪拌均勻（可啟動清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）檢查各閥門切換正常并無酸洗液泄漏后，啟動清洗泵運行30分鐘，運行流量和壓力為正常運行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運行時流量的一半。

   3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，并用RO水沖洗EDI系統(tǒng)出水至中性。

3．消毒

   清洗水箱中加入1200LRO產(chǎn)水，緩緩加入約10kg25%的H2O2溶液，配制0.2%的H2O2溶液，用清洗泵自循環(huán)10分鐘，使溶液混合均勻。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保歡迎來電。

(3) 西門子EDI模塊，濁度、污染指 數(shù)(SDI)的影響。

     EDI組件產(chǎn)水通道內(nèi)填充有離子交換樹脂，過高的濁度、污染指 數(shù)會使通道堵塞，造成系統(tǒng)壓差上升，產(chǎn)水量下降。

(4) 西門子EDI模塊，硬度的影響。

     如果西門子EDI模塊中進水的殘存硬度太高，會導(dǎo)致濃縮水通道的膜表面結(jié)垢，濃水流量下降，產(chǎn)水電阻率下降;影響產(chǎn)水水質(zhì)，嚴重時會堵塞組件濃水和極水流道，導(dǎo)致組件因內(nèi)部發(fā)熱而毀壞。

(5) 西門子EDI模塊，TOC(總有機碳)的影響。

     進水中如果有機物含量過高，會造成樹脂和選擇透過性膜的有機污染，導(dǎo)致系統(tǒng)運行電壓上升，產(chǎn)水水質(zhì)下降。同時也容易在濃縮水通道形成有機膠體，堵塞通道。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量服務(wù)。石家莊正規(guī)美國IONPURE EDI模塊廠家供應(yīng)

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過程在通常情況下都以相同流速進行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說明書配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）。總體來說，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進水(至少為 2 L (0.5 gal))

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