西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊是專門(mén)為工作應(yīng)用而設(shè)計(jì)的。西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊可以極其可靠地生產(chǎn)出質(zhì)量穩(wěn)定的高純水，而不會(huì)由于再生而中斷運(yùn)行。膜堆可以應(yīng)用于電力、HP/CPI、電子、食品和飲料行業(yè)以及實(shí)驗(yàn)室中。

   西門(mén)子LX-Z系列EDI模塊運(yùn)行環(huán)境：應(yīng)安裝在室內(nèi)，避免陽(yáng)光直射，室內(nèi)比較高環(huán)境溫度是45℃（95oF）。

                             典型膜堆性能

                              操作參數(shù)

回收率

90-95%

比較大允許進(jìn)水壓力

7bar(100psi)

比較高允許進(jìn)水溫度

45℃(113?F)

名義流量時(shí)的壓降范圍

1.4-2.1bar(20-30psi)

                               產(chǎn)水水質(zhì)

產(chǎn)水電阻率

>16M?.cm (見(jiàn)下面說(shuō)明)

說(shuō)明:實(shí)際性能可以用Ionpure的IP-Pro設(shè)計(jì)軟件確定

硅(SiO2)去除率

90-99%，取決于進(jìn)水條件 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保推薦咨詢。四川進(jìn)口美國(guó)IONPURE EDI模塊哪家專業(yè)

3、原水水質(zhì)的優(yōu)劣程度，純凈水產(chǎn)量的大小直接影響RO膜的使用壽命，為保證RO膜正常工作，需要對(duì)RO膜進(jìn)行定期維護(hù)，此項(xiàng)工作必須由專業(yè)人員或在專業(yè)人員的授意下完成，非專業(yè)人員或未征得專業(yè)人員授意不得擅自清洗、拆卸、對(duì)RO膜進(jìn)行隨意處理。如若非經(jīng)本廠專業(yè)人員授意，隨意拆卸高、增壓泵，斷水保護(hù)，反滲透系統(tǒng)等主機(jī)主要部件，造成損壞的，本廠概不負(fù)責(zé)。

 4、設(shè)備閑置時(shí)，必須斷水?dāng)嚯?，放凈設(shè)備內(nèi)所有積水，設(shè)備不得在高溫與零下溫度的環(huán)境內(nèi)放置。

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a.  淡水進(jìn)入淡水室后，淡水中的離子與混床樹(shù)脂發(fā)生交換，從而從水中脫離；

b.  被交換的離子受電性吸引作用，陽(yáng)離子穿過(guò)陽(yáng)離子交換膜向陰極遷移，陰離子穿過(guò)陰離子交換膜向陽(yáng)極遷移，并進(jìn)入濃水室從而從淡水中去除。

過(guò)程a和過(guò)程c是樹(shù)脂的消耗和再生的兩個(gè)相反過(guò)程，這兩者會(huì)在模塊內(nèi)部形成一個(gè)動(dòng)態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進(jìn)入淡水室，從頂部出來(lái)；淡水也可從模塊頂部進(jìn)入模塊，則從模塊底部出來(lái)；極水的進(jìn)水與淡水進(jìn)水同為一水流，只是分別進(jìn)入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

啟動(dòng)清洗泵運(yùn)行50分鐘，運(yùn)行流量和壓力為正常運(yùn)行狀態(tài)，最小流量可以為EDI正常運(yùn)行時(shí)流量的一半。檢查清洗過(guò)程管道無(wú)泄漏。

   排掉清洗水箱內(nèi)消毒液，并用RO水沖洗EDI出水至電導(dǎo)率降至100μs/cm以下。

4．堿洗

   1）配制5%NaCL+1.2%NaOH溶液：將1200LRO水沖入清洗水箱中，加入60KgNaCL和14.4KgNaOH，并攪拌均勻使其完全溶解（可啟動(dòng)清洗泵循環(huán)攪拌）。

   2）啟動(dòng)清洗泵，流量大約45T/h,壓力大約為0.2MPa,循環(huán)50分鐘，停止清洗泵。

   3）沖洗排掉清洗水箱內(nèi)清洗液，用RO水沖洗EDI，如清洗后封存，不要沖太徹底。 購(gòu)買(mǎi)美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保售后服務(wù)。

(1) 西門(mén)子EDI模塊，進(jìn)水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門(mén)子EDI模塊對(duì)弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹(shù)脂和膜的表面上形成的電動(dòng)勢(shì)梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強(qiáng)，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽(yáng)離子交換樹(shù)脂的再生效果良好。

(2) 西門(mén)子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點(diǎn)后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過(guò)多，除用于再生樹(shù)脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時(shí)由于大量載流離子移動(dòng)過(guò)程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴(kuò)散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。 美國(guó)IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保專業(yè)人員給出建議。天津口碑好美國(guó)IONPURE EDI模塊報(bào)價(jià)

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EDI電除鹽模塊清洗及消毒模式

  ?直通逆流（低及高pH值都可）再循環(huán)（氧化劑）

  ?可選清洗模式: 再循環(huán),或直通,順流(低及高 pH值都可)

步驟

  注意: 以下列出的流速為直通情況。再循環(huán)清洗及消毒過(guò)程在通常情況下都以相同流速進(jìn)行。

  ?步驟 1. 氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 2.

  a) 低pH值: 鹽酸HCl 1.8%, 6 L (1.6 gal), 0.1 - 0.2 L/min (0.026 - 0.053 gpm)

或

  b) 高pH值: 氫氧化鈉NaOH 1%, 7 L (1.8 gal), 0.12 - 0.23 L/min (0.03 – 0.06 gpm)

或

  c) 氧化劑: 醋酸 CH3COOOH 0.04% +過(guò)氧化氫H2O2 0.2%, 1 L (0.26 gal)

  ?按照說(shuō)明書(shū)配制用于商業(yè)濃度的RO消毒溶液（閱讀上面所提的清洗化學(xué)品規(guī)范要求）?？傮w來(lái)說(shuō)，濃水為已用水按1：100的比例稀釋過(guò)。

  ? (*按照步驟 2a或 2b 步驟 2c后不要求.)

  氯化鈉 NaCl 2%, 5 L (1.3 gal), 0.25 - 0.50 L/min(0.07 - 0.13 gpm)

  ?步驟 4.水沖洗: 將RO產(chǎn)水水質(zhì)的水引入濃水管線環(huán)中直到產(chǎn)水電導(dǎo)率>0.02 MO或等 同于進(jìn)水(至少為 2 L (0.5 gal))

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