3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、西門子EDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

  6、西門子EDI模塊進水前無保安濾器，或安裝時沒有徹底清洗管道和水箱，導(dǎo)致異物堵塞EDI通道，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水量嚴(yán)重下降，清洗無效。

  7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。

  8、電流電壓超出額定值或人為誤操作。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保各種型號出售。浙江供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊價格

如果電壓降低或是進水的總離子水平提高的話,那么系統(tǒng)中的樹脂會更多的和離子發(fā)生交換,相應(yīng)的工作區(qū)間就往出水側(cè)移動,直至達到新的平衡,或是穿透,這一過程中,出水電導(dǎo)會發(fā)生一定的變化,出水的弱電離子增加是**明顯的表現(xiàn)。如果電壓上升或是進水離子減少,則系統(tǒng)的工作區(qū)間會向進水側(cè)發(fā)生移動,表現(xiàn)為出水水質(zhì)變好,弱電離子的含量減少。所以判斷系統(tǒng)的平衡狀態(tài)可以通過出水水質(zhì)變化,弱電離子的漏出多少來實現(xiàn),并可以通過工作區(qū)間的移動來解釋。

     濃水流量的變化是另一個調(diào)節(jié)系統(tǒng)平衡的要素,特別是對于系統(tǒng)中的電流有直接影響。濃水的流量對去除弱電離子Ｓｉ也有一定關(guān)系。由于Ｓｉ在２５℃,ｐＨ值是６～８的水體中的溶解度是１２０ｍｇ／Ｌ。所以進水的濃縮倍率達到一定程度后,Ｓｉ在濃水中就會飽和,導(dǎo)致不能進行更深度的除硅,這也是確定濃水流量下限的條件之一。 浙江供應(yīng)美國IONPURE EDI模塊價格美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保值得信賴。

(1) 西門子EDI模塊，進水電導(dǎo)率的影響。

    在相同的操作電流下，隨著原水電導(dǎo)率的增加西門子EDI模塊對弱電解質(zhì)的去除率減小，出水的電導(dǎo)率也增加。如果原水電導(dǎo)率低則離子的含量也低，而低濃度離子使得在淡室中樹脂和膜的表面上形成的電動勢梯度也大，導(dǎo)致水的解離程度增強，極限電流增大，產(chǎn)生的H+和OH-的數(shù)量較多，使填充在淡室中的陰、陽離子交換樹脂的再生效果良好。

(2) 西門子EDI模塊，工作電壓-電流的影響。

    工作電流增大，產(chǎn)水水質(zhì)不斷變好。但如果在增至比較高點后再增加電流，由于水電離產(chǎn)生的H+和OH-離子量過多，除用于再生樹脂外，大量富余離子充當(dāng)載流離子導(dǎo)電，同時由于大量載流離子移動過程中發(fā)生積累和堵塞，甚至發(fā)生反擴散，結(jié)果使產(chǎn)水水質(zhì)下降。

3、超濾系統(tǒng)控制余氯等氧化劑不當(dāng)，進EDI氧化劑超量，導(dǎo)致EDI樹脂破碎，堵塞產(chǎn)水通道，水量下降。

  4、采用不當(dāng)?shù)那逑春拖?，直接?dǎo)致EDI樹脂破碎，進出水壓差增大，造成產(chǎn)水水質(zhì)和水量全部下降。

  5、IONPUREEDI模塊系統(tǒng)手動運行時，在缺水狀態(tài)下加電，直接導(dǎo)致膜片和樹脂的發(fā)熱碳化，清洗無效，無法使用。

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  7、出廠時產(chǎn)品不合格，使用一段時間不明原因的漏水。

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1、西門子（IONPURE）EDI模塊，設(shè)備具有連續(xù)運行性，不需要再生產(chǎn)。離子交換和再生產(chǎn)同步，無需停機再生，更不必有有酸堿儲運設(shè)備及計量設(shè)備等。

  2、西門子（IONPURE）EDI模塊，水質(zhì)更加的穩(wěn)定?；齑仓械臉渲傆幸粋€逐步失效的過程，所以它的水質(zhì)也從合格逐步的失效。而用EDI制水工藝離子交換和再生是同步的，其水質(zhì)非常的穩(wěn)定。

  3、西門子（IONPURE）EDI模塊，運行更加的環(huán)保，沒有酸液、堿液排放，可以節(jié)水節(jié)能合理會用全部的濃水。 美國IONPURE EDI模塊上海純超環(huán)保質(zhì)量服務(wù)。天津美國IONPURE EDI模塊型號

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離子進入濃水室后，由于陽離子無法穿過陰離子交換膜，因此其將被截留在濃水室，同樣，陰離子無法穿過陽離子交換膜，被截留在濃水室，這樣陰陽離子將隨濃水流被排出模塊；此外，由于進水中的離子被不斷地去除，那么淡水的純度將不斷提高，在由模塊出來的時候，其純度可以達到接近理論純水的水平。

     c.  水分子在電的作用下被不斷地離解為H+和OH-和OH- 將分別使得被消耗的陽/陰樹脂連續(xù)再生。

過程a和過程c是樹脂的消耗和再生的兩個相反過程，這兩者會在模塊內(nèi)部形成一個動態(tài)平衡。

淡水可從模塊底部進入淡水室，從頂部出來；淡水也可從模塊頂部進入模塊，則從模塊底部出來；極水的進水與淡水進水同為一水流，只是分別進入不同的室（極水室和濃水室），并從模塊頂部排出。

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