什么是電鑄工藝？可以理解為：電鑄工藝屬現(xiàn)代技術(shù)，其原理與電鍍相同。在鑄液中，陰模為鑄件，表面活化處理后有導(dǎo)電層，接通電流，在電場(chǎng)中電泳使金屬逐漸沉積在陰模的鑄件上，達(dá)到一定厚度即可取出。然后打磨焊接，進(jìn)行表面處理，即成為一件漂亮的電鑄首飾。還可以這樣理解：電鑄是在芯模表面電沉積金屬，然后使兩者分離來(lái)制取零件的工藝。其基本原理與電鍍相同，其區(qū)別在于電鍍層要與基材牢固結(jié)合，而電鑄層要與基材(芯模)分離；電鍍層的厚度一般只有幾微米到幾十微米，而電鑄層有零點(diǎn)幾毫米到幾毫米。電鑄具有能準(zhǔn)確的復(fù)制出芯模的表面形貌的優(yōu)點(diǎn)。江蘇保護(hù)電鑄擺件

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非導(dǎo)體的電鑄原型是樹脂或玻璃的場(chǎng)合，由于原型是非導(dǎo)體，在電鑄前進(jìn)行表面的導(dǎo)電化是必要的。這種導(dǎo)電化，有濕法的化學(xué)鍍和干法的真空鍍等，鍍層有銀、銅、鎳等金屬膜?；瘜W(xué)鍍方法有利用不同金屬的電位差的置換法和利用還原劑的還原法，但多半是利用還原劑法。真空鍍是在真空條件下使放電離子向陰極耙電極沖擊而將金屬濺射到被鍍件上去的方法。非導(dǎo)體表面導(dǎo)電化后，就可以根據(jù)工藝流程進(jìn)行電鑄。如果以這種所得到的電鑄模做原型，可以再在上面電鑄出相反形狀的電鑄模，即在陰模上電鑄出陽(yáng)模，在陽(yáng)模上電鑄出陰模。以往在非導(dǎo)體上電鑄要經(jīng)歷低溫度、低濃度、低電流密度（2A/dm2）的前面層膜的電鍍，現(xiàn)在隨著電源和電鑄槽的改良以及電鑄流程的電子化、表面金屬化的改良，現(xiàn)在已經(jīng)不需要進(jìn)行初次的電鍍就時(shí)接進(jìn)入電鑄流程。

電鑄發(fā)展歷史：電鑄早期是在1841年由俄國(guó)對(duì)石蠟或石膏進(jìn)行導(dǎo)電化處理后制作工藝品銅電鑄的模具而開始的。但在在工業(yè)上的廣泛應(yīng)用是在1950~1960年左右。早期（19世紀(jì)）的電鑄是以銅電鑄為主。限于在印刷胎版的復(fù)制和雕像和浮雕等工藝品的制作。中間階段（20世紀(jì)初）鐵的電鑄漸漸取代銅成為主流，應(yīng)用也擴(kuò)大到橡膠和塑料模具的制作。到后期（20世紀(jì)后半期）鎳取代鐵而成為電鑄的主流。應(yīng)用也擴(kuò)大到錄音原盤、波導(dǎo)管、鑄造和注塑模、、金屬薄膜、、印制線路板、工藝美術(shù)品等諸多方面?，F(xiàn)在，銅、鎳、金、鉑、銀等都可以做為電鑄加工的材料，在半導(dǎo)體、CD（MD）或DVD等的磁信息記錄、光電子、微電子、DNA增幅等超精細(xì)加工中，都已經(jīng)有了應(yīng)用?，F(xiàn)在電鑄已經(jīng)作為微電子技術(shù)時(shí)代的重要加工手段。電鑄擺件有良好的發(fā)展前景。

電鑄加工的主要技術(shù)和經(jīng)濟(jì)特征如下：與制品的形狀大小無(wú)關(guān)，只要有電鑄槽就可以制作；電沉積物的物理、化學(xué)性質(zhì)可以在較寬的范圍變化；可以復(fù)制50~100nm的精度的造型；可以制作中空制品和合金制品；對(duì)大量復(fù)制產(chǎn)品，與其它方法比在高精度和制作成本方面有優(yōu)勢(shì)；生產(chǎn)的效率提高，對(duì)環(huán)境保護(hù)有利。電鑄從宏觀復(fù)制到現(xiàn)在的納米級(jí)復(fù)制，所使用的還是以160年前開發(fā)的技術(shù)為基礎(chǔ)的技術(shù)。但是在工藝流程和設(shè)備方面已經(jīng)有了很大進(jìn)步，所以未來(lái)還是有很大發(fā)展前景的。電鑄擺件首飾模具如何制作？江蘇保護(hù)電鑄擺件

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