BPO膠/PI膠/BCB膠固化烘箱要求一、技術指標與基本配置：1、潔凈度：Class100級2、氧含量（配氧分析儀）：高溫狀態(tài)氧含量：≤10ppm+氣源氧含量;低溫狀態(tài)氧含量：≤20ppm+氣源氧含量3、使用溫度：RT～400℃，最高溫度：450℃4、控溫穩(wěn)定度：±1℃；5、溫度均勻度：150℃±1.5%，350℃±2%以內（空載測試）；6、腔體數(shù)量:2個,上下布置；單獨控溫7、爐膛材料：SUS304鏡面不銹鋼；加熱元件：不銹鋼加熱器；熱偶8、空爐升溫時間：1.5h；9、空爐降溫時間：375℃--80℃；降溫時間1.5-3.5小時(采用水冷及風冷)；10、智能控制系統(tǒng)：PCL+PC工控電腦真空泵在寒冬季節(jié)使用時，停車后，需將泵體下部放水螺塞擰開將介質放凈。防止凍裂。金華進口數(shù)顯真空烘箱價格

    充氮真空烘箱(N2VacuumOvens)適用范圍:適用于半導體、電子產品、五金制品、醫(yī)療衛(wèi)生、儀器儀表、工廠、高等院校、科研等部門作無氧化干燥、固化、焊接、退火等高溫處理。產品特點:1、迅速脫氧：該箱內膽采用不銹鋼制造，箱壁接縫全部采用氬弧焊焊接，密封性能較好，能快速脫氧；2、氮氣功能：可充入氮氣、氬氣等惰性氣體，實現(xiàn)氣氛、無氧、降溫之功能；3、高效率：穩(wěn)定和快速的升溫性能，有助于提高產品質量和效率；4、保溫節(jié)能：箱體與工作室之間填充高密度纖維棉作保溫材料，有效保溫節(jié)能；5、密封性好：箱門與工作室外框設有耐高溫無塵密封條和壓緊裝置,有效地保證了箱體的密封性能；6、置物架：工作室內設計可抽取的載物網板；7、美觀簡潔：設備外形美觀，操作簡便，控溫靈敏準確；8、寬泛的溫度范圍選擇。湖州進口數(shù)顯真空烘箱安全警報真空泵不能長時期工作。

    為獲得平坦而均勻的光刻膠涂層并使光刻膠與晶片之間有良好的黏附性，通常在涂膠前對晶片進行預處理。預處理第一步常是脫水烘烤，在真空或干燥氮氣的機臺中，以150～200℃烘烤。工藝目的是除去晶片表面吸附的水分，在此溫度下，晶片表面大約保留了一個單分子層的水。涂膠后，晶片須經過一次烘烤，稱之軟烘或前烘。工藝作用是除去膠中大部分溶劑并使膠的曝光特性固定。通常，軟烘時間越短或溫度越低會使得膠在顯影劑中的溶解速率增加且感光度更高，但對比度會有降低。實際上軟烘工藝需要通過優(yōu)化對比度而保持可接受感光度的試湊法用實驗確定，典型的軟烘溫度是90～100℃，時間從用熱板的30秒到用烘箱的30分鐘。在晶片顯影后，為了后面的高能工藝，如離子注入和等離子體刻蝕，也須對晶片進行高溫烘烤，稱之后烘或硬烘。這一工藝目的在于：減少駐波效應；激發(fā)化學增強光刻膠PAG產生的酸與光刻膠上的保護基團發(fā)生反應并移除基團使之能溶解于顯影液。

一般的電熱真空干燥箱都采用先加熱真空室壁面、再由壁面向工件進行輻射加熱的方式。在這種方式下，控溫儀表的溫度傳感器可以布置在真空室外壁。傳感器可以同時接受對流、傳導、和輻射熱。而處于真空室里的玻璃棒溫度計只能接受輻射熱，更由于玻璃棒黑度不可能達到1，相當一部分輻射熱被折射了，因此玻璃棒溫度計反映的溫度值就肯定低于儀表的溫度讀數(shù)。一般講，200℃工況時儀表的溫度讀數(shù)與玻璃棒溫度計的讀數(shù)兩者相差30℃以內是正常的。如果控溫儀表的溫度傳感器布置在真空室內，玻璃棒溫度計的溫度值與儀表的溫度讀數(shù)之間的差異可以適當縮小，但不可能消除，而真空室的密封可靠性增加了一個可能不可靠環(huán)節(jié)。如果從操作實用角度考慮不希望看到這個差異，可以采用控溫儀表特有的顯示修正功能解決。真空烘箱，是將干燥物料處于負壓條件下進行干燥的一種箱體式干燥設備。

維護保養(yǎng)：13、盡量控制真空泵的流量和揚程在標牌上注明的范圍內，以保證真空泵在高效率點運轉，才能獲得大的節(jié)能效果。14、真空泵在運行過程中，軸承溫度不能超過環(huán)境溫度35C，高溫度不得超過80C。15、如發(fā)現(xiàn)真空泵有異常聲音應立即停車檢查原因。16、真空泵要停止使用時，先關閉閘閥、壓力表，然后停止電機。17、真空泵在工作一個月內，經100小時更換潤滑油，以后每個500小時，換油一次。18、經常調整填料壓蓋，保證填料室內的滴漏情況正常（以成滴漏出為宜）。19、定期檢查軸套的磨損情況，磨損較大后應及時更換。20、真空泵在寒冬季節(jié)使用時，停車后，需將泵體下部放水螺塞擰開將介質放凈。防止凍裂。21、真空泵長期停用，需將泵全部拆開，擦干水分，將轉動部位及結合處涂以油脂裝好，妥善保管。工作室采用不銹鋼板(或拉絲板)制成，確保產品經久耐用。金華整體成型硅橡密封圈真空烘箱價格

將物料均勻放入真空干燥箱內樣品架上，推入干燥箱內；金華進口數(shù)顯真空烘箱價格

在CCD（電荷耦合器件）制造過程中，顆粒沾污對CCD的薄膜質量、光刻圖形完整性等有很大的影響，降低CCD的成品率。CCD制造過程中的顆粒來源主要有兩個方面：一個制造過程中工藝環(huán)境產生的顆粒；另一個是薄膜的淀積、光刻和離子注入等CCD工藝過程中產生的顆粒。工藝環(huán)境的顆粒可來源于墻體、設施、設備、材料和人員，工藝過程的顆粒來源于易產生粉塵的工藝，比如說LPCVD淀積多晶硅和氮化硅及刻蝕工藝等。無塵烘箱，即使在普通環(huán)境下使用，能夠確保烘箱內部等級達到Class 100，為CCD（電荷耦合器件）制造過程中烘烤提供潔凈環(huán)境，預防顆粒沾污金華進口數(shù)顯真空烘箱價格