EDI超純水設(shè)備在電滲析的歷程，產(chǎn)業(yè)劃時(shí)代的發(fā)展： ?EDI技術(shù)概況填充床電滲析又稱電脫離子法(Electrodeionization)，簡(jiǎn)稱EDI，它利用電滲析過(guò)程中的極化現(xiàn)象對(duì)離子交換填充床進(jìn)行電化學(xué)再生，集中了電滲析和離子交換法的優(yōu)點(diǎn)，克服了兩者的弊端。?EDI技術(shù)結(jié)合了兩種成熟的水處理技術(shù)—電滲析技術(shù)和離子交換技術(shù)，我國(guó)稱此為填充床電滲析或電去離子技術(shù)。它主要替代傳統(tǒng)的離子交換混床來(lái)生產(chǎn)高純水，這種技術(shù)國(guó)外已在電子、電力、化工等行業(yè)制備高純水方面得到推廣應(yīng)用?？梢灶A(yù)期，這種水處理產(chǎn)品將成為本世紀(jì)制備高純水工程中的主流設(shè)備。這種技術(shù)及相關(guān)技術(shù)的應(yīng)用將會(huì)使原有的水處理技術(shù)產(chǎn)生某些根本性的變革，從而取得更良好的環(huán)保和經(jīng)濟(jì)效益。超純水設(shè)備整體采用VPVC及不銹鋼材質(zhì)制造，質(zhì)量可靠，耐腐蝕能力強(qiáng)，完形美觀、大方。遼寧定制超純水設(shè)備工藝

超純水設(shè)備典型工藝流程：（根據(jù)不同企業(yè)及要求定制）預(yù)處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－粗混合床－精混合床－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純化水箱－純水泵－紫外線殺菌器－拋光混床－μm精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)（≥18MΩ.CM）預(yù)處理－一級(jí)反滲透－加藥機(jī)（PH調(diào)節(jié)）－中間水箱－第二級(jí)反滲透－純水箱－純水泵－EDI裝置－紫外線殺菌器－μm精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)（≥17MΩ.CM）預(yù)處理－反滲透－中間水箱－水泵－EDI裝置－純水箱－純水泵－紫外線殺菌器－μm精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）處理系統(tǒng)－反滲透系統(tǒng)－中間水箱－純水泵－粗混合床－精混合床－紫外線殺菌器－精密過(guò)濾器－用水點(diǎn)（≥15MΩ.CM）超純水設(shè)備應(yīng)用領(lǐng)域：醫(yī)療制藥、飲用純水，廢水處理、物質(zhì)回收與濃縮，海水、苦咸水淡化、飲用純凈水等領(lǐng)域，電路、電子、光學(xué)、化工、石油、表面處理等行業(yè)用超純水。湖南實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備價(jià)格EDI超純水設(shè)備，可連續(xù)運(yùn)行，產(chǎn)品產(chǎn)水水質(zhì)穩(wěn)定（可達(dá)95%）。

化工行業(yè)所使用的超純水設(shè)備特點(diǎn)及工藝與傳統(tǒng)工藝相比具有運(yùn)行成本低的優(yōu)點(diǎn)（離子交換器的再生周期延長(zhǎng)）超純水傳統(tǒng)的制備工藝通常是采用離子交換樹(shù)脂進(jìn)行制取，但采用離子交換樹(shù)脂通常需要經(jīng)常性的進(jìn)行樹(shù)脂再生，即耗費(fèi)物力又浪費(fèi)人工，我們公司經(jīng)過(guò)多年實(shí)踐，同時(shí)結(jié)合新的的膜分離技術(shù)，常采用反滲透加離子交換系統(tǒng)（或EDI）相結(jié)合用來(lái)制備超純水，該工，運(yùn)行可靠。與工藝相比具有造價(jià)低，耗材易得的優(yōu)點(diǎn)。反滲透工藝技術(shù)先進(jìn)，可靠。4.應(yīng)用領(lǐng)域·化工材料的生產(chǎn)和加工過(guò)程所用的溶劑及清洗過(guò)程·超純材料和超純化學(xué)試劑·實(shí)驗(yàn)室和中試車間·電子半導(dǎo)體、集成電路板上用到的化工材·石英、硅材料生產(chǎn)、加工、提純·高純墨水、傳真打印機(jī)中的噴墨、納米墨水。歡迎來(lái)東莞市裕隆環(huán)保科技有限公司洽談合作。

EDI超純水設(shè)備消耗性耗材易得的優(yōu)點(diǎn)。反滲透工藝技術(shù)當(dāng)先，安全可靠。 應(yīng)用領(lǐng)域： 半導(dǎo)體材料、器件、印刷電路板和集成電路。 電解電容器生產(chǎn)鋁箔及工作件的清洗。 電子管生產(chǎn)、電子管陰極涂敷碳酸鹽配液。 顯像管和陰極射線管生產(chǎn)、配料用純水。 黑白顯像管熒光屏生產(chǎn)、玻殼清洗、沉淀、濕潤(rùn)、洗膜、管頸清洗用純水。 液晶顯示器的生產(chǎn)、屏面需用純水清洗和用純水配液。 晶體管生產(chǎn)中主要用于清洗硅片，另有少量用于藥液配制。 集成電路生產(chǎn)中高純水清洗硅片。 LCD液晶顯示屏、PDP等離子顯示屏。 高質(zhì)量顯像管、螢光粉生產(chǎn)。 半導(dǎo)體材料、材料生產(chǎn)、加工、清洗。 超純材料和超純化學(xué)試劑、超純化工材料。 實(shí)驗(yàn)室和中試車間。 汽車、家電表面拋光處理。 光電產(chǎn)品、其他高科技精微產(chǎn)品。反滲透超純水設(shè)備產(chǎn)水18.2兆歐。可滿足不同產(chǎn)水需求。

實(shí)驗(yàn)室超純水設(shè)備簡(jiǎn)介 生產(chǎn)半導(dǎo)體、集成電路芯片及封裝、液晶顯示、高精度線路板、光電器件、各種電子器件等電子工業(yè)用超純水系統(tǒng)。水質(zhì)可達(dá)18.2兆歐，符合電子行業(yè)生產(chǎn)所需超純水水質(zhì)要求。我公司曾為國(guó)外很多電子工業(yè)廠家制作工業(yè)超純水設(shè)備。小型去離子水設(shè)備可用自來(lái)水直接制取高純水，且運(yùn)行周期長(zhǎng)，不必頻繁維護(hù)及更換各種備件，運(yùn)行極其安靜。一些企業(yè)用水量不大的情況,我公司專門為這些客戶定制了一系列小型去離子水設(shè)備,出水量較小,可滿足于化驗(yàn)用水,小計(jì)量清洗用水的要求,出水水質(zhì)可根據(jù)客戶的要求,進(jìn)行設(shè)備的工藝配置!電滲析用超純水設(shè)備整體設(shè)計(jì)全自動(dòng)控制系統(tǒng)，操作簡(jiǎn)單、精確，維護(hù)非常方便。浙江專業(yè)生產(chǎn)超純水設(shè)備提供

EDI反滲透超純水設(shè)備可以滿足各種產(chǎn)水要求。遼寧定制超純水設(shè)備工藝

超純水設(shè)備工藝流程RO+EDI系列由配備，輔助裝置并且結(jié)合RO和EDI的集成，解決方案構(gòu)成構(gòu)成超純水設(shè)備。特別是第三種工藝則是**的工藝，此工藝具有設(shè)備出水好，可穩(wěn)定達(dá)到17兆歐以上。經(jīng)過(guò)設(shè)計(jì)超純水設(shè)備提供一系列的標(biāo)準(zhǔn)選項(xiàng)和定制功能，電阻率為16至18兆歐，TDS不足50ppb，二氧化硅含量不足10ppb并且鈉含量不足3ppb的超純水。電阻率在15兆歐內(nèi)：原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透設(shè)備→中間水箱→中間水泵→離子交換器→純化水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)電阻率在17兆歐以上：原水箱→原水泵→多介質(zhì)過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾器→軟水器→精密過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透設(shè)備→pH調(diào)節(jié)→中間水箱→二級(jí)反滲透裝置(反滲透膜表面帶正電荷)→純水箱→純水泵→紫外線殺菌器→微孔過(guò)濾器→用水點(diǎn)電阻率在17兆歐以上：原水箱→原水泵→絮凝加藥裝置→石英過(guò)濾器→活性炭過(guò)濾→軟化器→精密過(guò)濾器→一級(jí)高壓泵→一級(jí)反滲透裝置→中間水箱→pH調(diào)節(jié)→二級(jí)高壓泵→二級(jí)反滲透裝置→RO水箱→EDI增壓泵→UV殺菌裝置→EDI裝置→超純水水箱→超純水增壓泵→拋光混床→微孔過(guò)濾→用水點(diǎn)選用不同工藝的超純水設(shè)備。遼寧定制超純水設(shè)備工藝

東莞市裕隆環(huán)?？萍加邢薰疚挥跂|城區(qū)牛山新村新圍。公司業(yè)務(wù)分為反滲透設(shè)備，超濾設(shè)備，超純水設(shè)備，中水回用設(shè)備等，目前不斷進(jìn)行創(chuàng)新和服務(wù)改進(jìn)，為客戶提供良好的產(chǎn)品和服務(wù)。公司從事環(huán)保多年，有著創(chuàng)新的設(shè)計(jì)、強(qiáng)大的技術(shù)，還有一批專業(yè)化的隊(duì)伍，確保為客戶提供良好的產(chǎn)品及服務(wù)。裕隆環(huán)?？萍紤{借創(chuàng)新的產(chǎn)品、專業(yè)的服務(wù)、眾多的成功案例積累起來(lái)的聲譽(yù)和口碑，讓企業(yè)發(fā)展再上新高。