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池州光催化氧化

來源: 發(fā)布時間:2021-08-30

光催化氧化技術(shù)是在設(shè)備中添加納米級活性材料,在紫外光線的作用下,產(chǎn)生更為強烈的催化降解功能。納米活性材料光生空穴的氧化電位以標(biāo)準(zhǔn)氫電位為3.0V,比臭氧的2.07V和氯氣的1.36V高許多,具有很強的氧化性。在光照射下,活性材料能吸收相當(dāng)于帶隙能量以下的光能,使其表面發(fā)生激勵而產(chǎn)生電子(e-)和空穴(h+),這些電子和空穴具有極強的還原和氧化能力,能與水或容存的氧反應(yīng),迅速產(chǎn)生氧化能力極強的·O2-(超級陰氧離子)和·OH(氫氧根自由基)。OH具有很高的氧化電位,是一種氧化基團,能氧化大多數(shù)的有機污染物中的電子,使原本不吸收光的物質(zhì)直接氧化分解。大多數(shù)揮發(fā)性的有機化合物在這種紫外光能和納米活性化氧化的共同作用下,能在2-3秒時間內(nèi)被充分降解,對揮發(fā)性有機廢氣污染物具有較高的去除效率。光化學(xué)反應(yīng)需要分子吸收特定波長的電磁輻射。池州光催化氧化

納米光催化從根本改善和需求使用復(fù)合材料,光催化氧化設(shè)備廠家通過增大納米TiO2光催化設(shè)備的比外表積,改善去除反響條件,增強活性,加大影響規(guī)模。挑選適宜的復(fù)合材料促進納米TiO2光催化設(shè)備活性不斷進步。試驗結(jié)果表明,還可進行其他處理改善納米光催化技能,例如:對納米TiO2光催化設(shè)備進行鹵酸處理,以構(gòu)成鹵酸自由基;經(jīng)過某些特定異性基團對納米TiO2光催化設(shè)備的固定,吸附揮發(fā)性有機污染物的特異性,結(jié)果表明,分散等方法可到達降解作用?;茨瞎獯呋趸S光催化氧化技術(shù)適合處理高濃度、氣量大、穩(wěn)定性強的且能吸收光子的有毒有害氣體的廢氣處理。

光催化氧化技術(shù)是在光化學(xué)氧化技術(shù)的基礎(chǔ)上發(fā)展起來的。光化學(xué)氧化技術(shù)是在可見光或紫外光作用下使有機污染物氧化降解的反應(yīng)過程。但由于反應(yīng)條件所限,光化學(xué)氧化降解往往不夠徹底,易產(chǎn)生多種芳香族有機中間體,成為光化學(xué)氧化需要克服的問題,而通過和光催化氧化劑的結(jié)合,可以**提高光化學(xué)氧的效率。根據(jù)光催化氧化劑使用的不同,可以分為均相光催化氧化和非均相光催化氧化。均相光催化降解是以Fe2+或Fe3+及H2O2為介質(zhì),通過光助 - 芬頓反應(yīng)產(chǎn)生羥基自由基使污染物得到降解。紫外光線可以提高氧化反應(yīng)的效果,是一種有效的催化劑。紫外/臭氧(UV/03)組合是通過加速臭氧分解速率,提高羥基自由基的生成速度,并促使有機物形成大量活化分子,來提高難降解有機污染物的處理效率。

紫外光催化氧化設(shè)備試驗結(jié)果表明運用真空紫外線(UV)后,在同等條件下可以進步光催化處理功率7%左右。在進行光催化反響過程中,因為UV 光源自身就能去除少數(shù)的家苯。而且UV 的能量更高所以其催化效果更好,一起因為光解發(fā)生的羥自由基與光催化的協(xié)同效果,也進步了光催化法去除家苯的功率。蘇州光催化氧化設(shè)備試驗光源選用一盞10W 真空紫外線(UV)燈,反響器進口家苯濃度為200mg/m3,流量為0.6L/min,停留時間為25s,負載P25 UV光催化設(shè)備的玻璃珠為光催化反響器的填料。每距離15min從反響器出口采樣,分別在相對濕度15% 、30%、45% 、60%、70%下測定家苯的去除率。光化學(xué)及光催化氧化法是研究較多的一項高級氧化技術(shù)。

光催化劑的種類:在世界上,可以用作光催化劑的材料有很多,包括二氧化鈦(TiO2),氧化鋅(ZnO),氧化錫(SnO2),二氧化鋯(ZrO2),硫化鎘(CdS)等多種氧化物和硫化物的半導(dǎo)體,其中二氧化鈦(Titanium Dioxide)具有氧化能力較強,化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定并且無毒的優(yōu)點,所以二氧化鈦成為推舉的納米光觸媒材料。并且二氧化鈦具有抗光腐蝕性能,且二氧化鈦的光匹配性能好,從而較為適合光解水。在早期,也曾經(jīng)出現(xiàn)較多使用硫化鎘(CdS)和氧化鋅(ZnO)作為光催化劑,但是由于這硫化鎘和氧化鋅的化學(xué)性質(zhì)并不穩(wěn)定,在光催化的同時有可能發(fā)生光溶解,并且溶出的有害金屬離子具有一定的生物毒性,而且ZnO在部分溶解后生成的Zn(OH)2有可能覆蓋在ZnO顆粒表面,使氧化鋅部分失活。故發(fā)達國家目前已經(jīng)很少將它們用作為民用光催化材料,只有部分工業(yè)光催化領(lǐng)域還在使用。紫外光催化氧化設(shè)備在低光強下速率與光強成線性關(guān)系。黃山光催化氧化公司有哪些

光催化氧化設(shè)備采用光解原理,采取了隔爆處理,消除了安全隱患、防火、防爆、防腐蝕性能高。池州光催化氧化

UV光解廢氣凈化設(shè)備其構(gòu)造由微波發(fā)生器、離子臭氧發(fā)生器、控制箱、中效過濾、二氧化鈦光觸媒、外箱體組成。
UV光解廢氣凈化設(shè)備采用的大功率   紫外線放電管,屬低壓**放電管,發(fā)出的紫外線波長主要為170nm及184.9nm(目前正在   150nm到184.9nm波長系列產(chǎn)品),光子能量分別為742 KJ/mol和647 KJ/mol。要裂解切斷污染物質(zhì)分子的分子鍵,就要使用發(fā)出比污染物質(zhì)分子的結(jié)合能強的光子能。大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)的分子結(jié)合能比170nm及184.9nm波長紫外線的光子能量低,所以,本UV   光解凈化器能分解除碳,鈣,金屬外的大多數(shù)化學(xué)物質(zhì)。
UV光解廢氣凈化設(shè)備工作原理:
利用   的   高臭氧UV紫外線光束照射氣體及空氣中的氧分子,裂解氣體的分子鍵,并分解空氣中的氧分子產(chǎn)生游離氧,即活性氧,從而達到凈化氣體的效果。凈化能力可達99%。UV+O2→O-+O*(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。游離狀態(tài)的污染物分子與臭氧氧化結(jié)合成小分子或低害的化合物,如CO2、H2O等。
UV光解凈化器反應(yīng)工程式:
1、UV + 高分子物→低分子物
2、UV + 空氣( O2) →O3
3、低分子物+ O3→ CO2+ H2O +N2
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