質譜儀又稱質譜計。分離和檢測不同同位素的儀器。即根據(jù)帶電粒子在電磁場中能夠偏轉的原理，按物質原子、分子或分子碎片的質量差異進行分離和檢測物質組成的一類儀器。質譜儀按應用范圍分為同位素質譜儀、無機質譜儀和有機質譜儀。按分辨本領分為高分辨、中分辨和低分辨質譜儀；按工作原理分為靜態(tài)儀器和動態(tài)儀器。質譜儀能用高能電子流等轟擊樣品分子，使該分子失去電子變?yōu)閹д姾傻姆肿与x子和碎片離子。這些不同離子具有不同的質量，質量不同的離子在磁場的作用下到達檢測器的時間不同，其結果為質譜圖。原理公式：q/m=E/B1B2r質譜分析是先將物質離子化,按離子的質荷比分離,然后測量各種離子譜峰的強度而實現(xiàn)分析目的一種分析方法上海禹重實業(yè)有限公司致力于提供質譜儀，竭誠為您服務。無錫iCap RQ質譜儀維修

等離子體質譜儀ICPMS等離子體質譜儀ICPMS是一種用于化學、農學、食品科學技術領域的分析儀器，于2016年6月28日啟用。a采樣錐口口徑要求≥1.0mm，截取錐口口徑要求≥0.8mm，超級截取錐≥1.0mm,能過濾掉未電離物質和中性物質。 能完全消除二次放電。 b采用90度偏轉系統(tǒng)有效分離中性離子與光子；離子偏轉器具有“自動聚焦”功能。離子傳輸偏轉透鏡、碰撞反應池和四極桿質量分析器徹底免維護（自儀器安裝調試完二十年內， 清洗維護以及更換） 5動態(tài)反應池 a四極桿裝置作為質量過濾器。 b帶寬可調，通過調節(jié)RPq參數(shù)過濾不同范圍的離子。嘉定熱電質譜儀色譜柱質譜儀就選上海禹重實業(yè)有限公司，服務值得放心。

原子發(fā)射光譜法原子發(fā)射光譜法（英語：AtomicEmissionSpectroscopy，縮寫AES），是一種利用受激發(fā)氣態(tài)原子或離子所發(fā)射的特征光譜來測定待測物質中元素組成和含量的方法。為光學分析中較早誕生的分析方法之一，其雛形在1860年代即已形成。一般步驟待測物質在激發(fā)光源中蒸發(fā)、解離、電離并被激發(fā)，產生光輻射；產生的復合光通過分光色散成光譜；檢測光譜線的波長和強度，進行分析。[1]應用ICP-AES的應用實例包括測定葡萄酒中的金屬，食物中的砷，以及與蛋白質結合的微量元素。ICP-OES廣泛應用于選礦工程過程，以提供各種物流等級的數(shù)據(jù)，用于質量平衡的構建

使用質譜儀的注意事項：1、質譜儀的真空度不能過低，過低會引起額外的分子、離子反應，使質譜解析更復雜，還會引起分析系統(tǒng)內電極之間放電。2、質譜儀本身及帶有磁場，并且對外界的雌場較為敏感，故維修時不能接觸磁場，也不可移動3、質譜儀對環(huán)境有較高的要求，所以室內必須有空調，并且保持室內通風。4、為了保證機械運行正常，質譜儀的載氣純度需達99.99%以上。理論上液質聯(lián)用禁止使用任何不揮發(fā)性的緩沖鹽。如果需要，盡量使用諸如乙酸氨等揮發(fā)性鹽，濃度不要超過20mmol/L。對于不揮發(fā)性的緩沖鹽，如果你的儀器有吹掃捕集的話也可使用，但一定要小心。萬不得已也不要用，首先有不揮發(fā)鹽是得不到好的離子流的，其次鹽留在質譜中很難除掉，除非停機清洗，不然一直會影響其他樣品的分析。上海禹重實業(yè)有限公司是一家專業(yè)提供質譜儀的公司，歡迎新老客戶來電！

氣質和液質系統(tǒng)對比除了采用的分離手段不同（氣相和液相）外主要的區(qū)別在于真空系統(tǒng)和電離方式。氣質的真空系統(tǒng)比較簡單，只要一個小的機械泵和一個分子渦輪泵就可以了。液質的機械泵要比氣質大，需要兩個分子渦輪泵。氣質的電離方式有電子電離(EI)和化學電離(CI)。液質的電離方式有電噴霧電離(ESI)、大氣壓化學電離(APCI)和大氣壓光電離(APPI)。5、APCI和ESI的不同點（1）離子產生的方式不同。APCI利用電暈放電離子化，氣相離子化。ESI利用離子蒸發(fā)，液相離子化。（2）能被分析的化合物類型不同。APCI適合弱極性，小分子化合物，且具有一定的揮發(fā)性；ESI極性化合物和生物大分子。（3）流速不同。ESI一般流速較小，約0.001到0.25mL/min，APCI相對較大，約0.2到2mL/min。（4）多電荷。APCI不能生成一系列多電荷離子，所以不適合分析大分子；ESI能生成一系列多電荷離子，特別適用于蛋白，多肽類等生物分子。上海禹重實業(yè)有限公司致力于提供質譜儀，有想法可以來我司咨詢。衢州iCap RQ質譜儀配件

質譜儀，就選上海禹重實業(yè)有限公司，用戶的信賴之選，歡迎您的來電哦！無錫iCap RQ質譜儀維修

電感耦合等離子體ICP源的用途主要有四種：用于等離子體光譜診斷：通過分析ICP源的光譜來分析等離子體原子組分，參見電感耦合等離子體原子發(fā)射光譜（ICP-AES）；電感耦合等離子質譜分析技術：作為質譜分析的離子源，分析組分（ICP-MS）；用于反應離子刻蝕：通過ICP源產生低溫等離子體，刻蝕材料表面，改變材料的物理與化學性質(ICP-RIE)；氣相沉積薄膜技術（rf-ICP）。是利用通過高頻電感耦合產生等離子體放電的光源來進行原子發(fā)射光譜分析的方法。它是一種火焰溫度范圍為6000至10000K的火焰技術。該發(fā)射強度表示樣品中元素的濃度。為一種新型激發(fā)光源，性能優(yōu)異，應用 。無錫iCap RQ質譜儀維修