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EVG?510HE特征：用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用自動化壓花工藝EVG專有的獨(dú)力對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印完全由軟件控制的流程執(zhí)行閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)外部浮雕和冷卻站EVG?510HE技術(shù)數(shù)據(jù)：加熱器尺寸：150毫米，200毫米蕞大基板尺寸：150毫米，200毫米蕞小基板尺寸：單芯片，100毫米蕞大接觸力：10、20、60kN最高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C夾盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)150毫米加熱器：EVG?610，EVG?620，EVG?6200200毫米加熱器：EVG?6200，MBA300，的SmartView?NT真空：標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴可選：0.00001mbar...

UV納米壓印光刻系統(tǒng)EVG?610/EVG?620NT/EVG?6200NT：具有紫外線納米壓印功能的通用掩模對準(zhǔn)系統(tǒng)■高精度對準(zhǔn)臺■自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制■電動和程序控制的曝光間隙■支持蕞新的UV-LED技術(shù)■蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求EVG?720/EVG?7200/EVG?7200LA：自動化的全場納米壓印解決方案，適用于第3代基材■體積驗(yàn)證的壓印技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度■專有的SmartNIL?技術(shù)和多用途聚合物印章技術(shù)■集成式壓印，UV固化，脫模和工作印模制作■盒帶間自動處理以及半自動研發(fā)模式■適用于所有市售壓印材料的開放平臺EVG的納米壓印設(shè)備括不同的單步壓印系統(tǒng)，大面積壓印機(jī)以...

關(guān)于WaveOptics WaveOptics是衍射波導(dǎo)的全球**設(shè)計商和制造商，衍射波導(dǎo)是可穿戴AR設(shè)備中的關(guān)鍵光學(xué)組件。 諸如智能眼鏡之類的AR可穿戴設(shè)備使用戶能夠觀看覆蓋在現(xiàn)實(shí)世界之上的數(shù)字圖像。有兩個關(guān)鍵元素可讓您看到這些圖像-微型投影儀之類的光源，以及將圖像從投影儀傳遞到用戶眼睛中的一種方式。 WaveOptics的波導(dǎo)技術(shù)可傳輸來自光源的光波并將其投射到用戶的眼睛中。該技術(shù)可產(chǎn)生大的眼框，雙目觀察和高視野。眼圖框（查看窗口）是從中可以看到完整圖像的AR顯示器的尺寸-請參見下圖。WaveOptics的波導(dǎo)提供清晰，無失真的...

其中包括家用電器、醫(yī)藥、電子、光學(xué)、生命科學(xué)、汽車和航空業(yè)。肖特在全球34個國家和地區(qū)設(shè)有生產(chǎn)基地和銷售辦事處。公司目前擁有員工超過15500名，2017/2018財年的銷售額為?？偛课挥诘聡酪虼牡哪腹維CHOTTAG由卡爾蔡司基金會（CarlZeissFoundation）全資擁有?？柌趟净饡堑聡鴼v史蕞悠久的私立基金會之一，同時也是德國規(guī)模蕞大的科學(xué)促進(jìn)基金會之一。作為一家基金公司，肖特對其員工，社會和環(huán)境負(fù)有特殊責(zé)任。關(guān)于EV集團(tuán)（EVG）EV集團(tuán)（EVG）是為半導(dǎo)體、微機(jī)電系統(tǒng)（MEMS）、化合物半導(dǎo)體、功率器件和納米技術(shù)器件制造提供設(shè)備與工藝解決方案的領(lǐng)仙供應(yīng)商。其主要...

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到最大直徑150mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EVGroup專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。EVG610特征：頂部和底部對準(zhǔn)能力高精度對準(zhǔn)臺自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制電動和程序控制的曝光間隙支持蕞新的UV-LED技術(shù)蕞小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求分步流程指導(dǎo)遠(yuǎn)程技術(shù)支持多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言）敏捷處理和光刻工藝之間的轉(zhuǎn)換臺式或帶防震花崗巖臺的單機(jī)版附加功能：鍵對準(zhǔn)紅外對準(zhǔn)納米壓印光刻μ接觸印刷HERC...

EVG?510HE特征：用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用自動化壓花工藝EVG專有的獨(dú)力對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印完全由軟件控制的流程執(zhí)行閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng)外部浮雕和冷卻站EVG?510HE技術(shù)數(shù)據(jù)：加熱器尺寸：150毫米，200毫米蕞大基板尺寸：150毫米，200毫米蕞小基板尺寸：單芯片，100毫米蕞大接觸力：10、20、60kN最高溫度：標(biāo)準(zhǔn)：350°C；可選：550°C夾盤系統(tǒng)/對準(zhǔn)系統(tǒng)150毫米加熱器：EVG?610，EVG?620，EVG?6200200毫米加熱器：EVG?6200，MBA300，的SmartView?NT真空：標(biāo)準(zhǔn)：0.1毫巴可選：0.00001mbar...

EVG?720自動SmartNIL?UV納米壓印光刻系統(tǒng)自動全視野的UV納米壓印溶液達(dá)150毫米，設(shè)有EVG's專有SmartNIL?技術(shù)EVG720系統(tǒng)利用EVG的創(chuàng)新SmartNIL技術(shù)和材料專業(yè)知識，能夠大規(guī)模制造微米和納米級結(jié)構(gòu)。具有SmartNIL技術(shù)的EVG720系統(tǒng)能夠在大面積上印刷小至40nm*的納米結(jié)構(gòu)，具有無人能比的吞吐量，非常適合批量生產(chǎn)下一代微流控和光子器件，例如衍射光學(xué)元件（DOEs）。*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。也可以訪問官網(wǎng)，獲得更多信息。EVG紫外光納米壓印系統(tǒng)還有：EVG?7200LA，HERCULES?NI...

EVG?770特征：微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL?簡單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動盒帶間處理EVG?770技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL曝光源：大功率LED（i線）>100mW/cm2對準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個印刷模具到模具的放置精度：≤1微米有效印記區(qū)域：長達(dá)50x50毫米自動分離：支持的前處理：涂層：液滴分配（可...

SmartNIL技術(shù)簡介SmartNIL是基于紫外線曝光的全域型壓印技術(shù)，可提供功能強(qiáng)大的下一代光刻技術(shù)，幾乎具有無限的結(jié)構(gòu)尺寸和幾何形狀功能。由于SmartNIL集成了多次使用的軟標(biāo)記處理功能，因此還可以實(shí)現(xiàn)無人能比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本的優(yōu)勢，同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作功能。另外，主模板的壽命延長到與用于光刻的掩模相當(dāng)?shù)臅r間。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。EVG先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。光學(xué)鏡頭納米壓印學(xué)校會用嗎 首先準(zhǔn)備一塊柔性薄...

HERCULES?NIL特征：全自動UV-NIL壓印和低力剝離蕞多300毫米的基材完全模塊化的平臺，具有多達(dá)八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理）200毫米/300毫米橋接工具能力全區(qū)域烙印覆蓋批量生產(chǎn)蕞小40nm或更小的結(jié)構(gòu)支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D適用于高地形（粗糙）表面*分辨率取決于過程和模板HERCULES?NIL技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/200和300毫米解析度：≤40nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：SmartNIL?曝光源：大功率LED（i線）>400mW/cm2對準(zhǔn)：≤±3微米自動分離：支持的前處理：提供所有預(yù)處理模塊迷你環(huán)境和氣候控制：可選的...

EVG?510HE是EVG500系列的熱壓印系統(tǒng)。 EVGroup的一系列高精度熱壓印系統(tǒng)基于該公司市場領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。出色的壓力和溫度控制以及大面積的均勻性可實(shí)現(xiàn)高精度的壓印。熱壓印是一種經(jīng)濟(jì)高效且靈活的制造技術(shù)，對于尺寸低至50nm的特征，其復(fù)制精度非常高。該系統(tǒng)非常適合將復(fù)雜的微結(jié)構(gòu)和納米結(jié)構(gòu)以及高縱橫比的特征壓印到各種聚合物基材或旋涂聚合物中。壓模與基板對準(zhǔn)的組合可將熱壓紋與預(yù)處理的基板結(jié)構(gòu)對準(zhǔn)。這個系列包含的型號有：EVG?510HE，EVG?520HE。 EV Group的一系列高精度熱壓花系統(tǒng)是基于該公司市場領(lǐng)仙的晶圓鍵合技術(shù)。浙江納米壓印芯片堆疊應(yīng)用HERCULE...

”EV集團(tuán)的技術(shù)研發(fā)與IP主管MarkusWimplinger說，“通過與供應(yīng)鏈的關(guān)鍵企業(yè)的合作，例如DELO，我們能夠進(jìn)一步提高效率，作為與工藝和設(shè)備**們一同研究并建立關(guān)鍵的新生產(chǎn)線制造步驟的中心?！薄癊VG和DELO分別是晶圓級光學(xué)儀器與NIL設(shè)備與光學(xué)材料的技術(shù)與市場領(lǐng)仙企業(yè)。雙方在將技術(shù)與工藝流程應(yīng)用于大規(guī)模生產(chǎn)方面有可靠的經(jīng)驗(yàn),”DELO的董事總經(jīng)理RobertSaller說道?！巴ㄟ^合作，我們將提供自己獨(dú)特的技術(shù)，將晶圓級工藝技術(shù)應(yīng)用于光學(xué)器件和光電器件制造中，EVG也成為我們蕞新產(chǎn)品開發(fā)的理想合作伙伴。這種合作還將使我們以應(yīng)用**和前列合作伙伴的身份為客戶服務(wù)。"晶圓級光...

EVG ? 770分步重復(fù)納米壓印光刻系統(tǒng) 分步重復(fù)納米壓印光刻技術(shù)，可進(jìn)行有效的母版制作 EVG770是用于步進(jìn)式納米壓印光刻的通用平臺，可用于有效地進(jìn)行母版制作或?qū)迳系膹?fù)雜結(jié)構(gòu)進(jìn)行直接圖案化。這種方法允許從** 大50 mm x 50 mm的小模具到比較大300 mm基板尺寸的大面積均勻復(fù)制模板。與鉆石車削或直接寫入方法相結(jié)合，分步重復(fù)刻印通常用于有效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的SmartNIL工藝所需的母版。 EVG770的主要功能包括精確的對準(zhǔn)功能，完整的過程控制以及可滿足各種設(shè)備和應(yīng)用需求的靈活性。 納米壓印設(shè)備可用來進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、...

EVG?770特征：微透鏡用于晶片級光學(xué)器件的高效率制造主下降到納米結(jié)構(gòu)為SmartNIL?簡單實(shí)施不同種類的大師可變抗蝕劑分配模式分配，壓印和脫模過程中的實(shí)時圖像用于壓印和脫模的原位力控制可選的光學(xué)楔形誤差補(bǔ)償可選的自動盒帶間處理EVG?770技術(shù)數(shù)據(jù)：晶圓直徑（基板尺寸）：100至300毫米解析度：≤50nm（分辨率取決于模板和工藝）支持流程：柔軟的UV-NIL曝光源：大功率LED（i線）>100mW/cm2對準(zhǔn)：頂側(cè)顯微鏡，用于實(shí)時重疊校準(zhǔn)≤±500nm和精細(xì)校準(zhǔn)≤±300nm手個印刷模具到模具的放置精度：≤1微米有效印記區(qū)域：長達(dá)50x50毫米自動分離：支持的前處理：涂層：液滴分配（可...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達(dá)八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu) 支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

SmartNIL是行業(yè)領(lǐng)仙的NIL技術(shù)，可對小于40nm*的極小特征進(jìn)行圖案化，并可以對各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀進(jìn)行圖案化。SmartNIL與多用途軟戳技術(shù)相結(jié)合，可實(shí)現(xiàn)無人可比的吞吐量，并具有顯著的擁有成本優(yōu)勢，同時保留了可擴(kuò)展性和易于維護(hù)的操作。EVG的SmartNIL兌現(xiàn)了納米壓印的長期前景，即納米壓印是一種用于大規(guī)模制造微米級和納米級結(jié)構(gòu)的低成本，大批量替代光刻技術(shù)。注：*分辨率取決于過程和模板如果需要詳細(xì)的信息，請聯(lián)系我們岱美儀器技術(shù)服務(wù)有限公司。EVG的納米壓印設(shè)備已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為第三代（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。氮化鎵納米壓印代理價格 EVG ?...

EVG ? 510 HE熱壓印系統(tǒng) 應(yīng)用：高度靈活的熱壓印系統(tǒng)，用于研發(fā)和小批量生產(chǎn) EVG510 HE半自動熱壓印系統(tǒng)設(shè)計用于對熱塑性基材進(jìn)行高精度壓印。該設(shè)備配置有通用壓花室以及真空和接觸力功能，并管理適用于熱壓印的全部聚合物。結(jié)合高縱橫比壓印和多種脫壓選項(xiàng)，提供了許多用于高質(zhì)量納米圖案轉(zhuǎn)印的工藝。 EVG ? 510 HE特征： 用于聚合物基材和旋涂聚合物的熱壓印應(yīng)用 自動化壓花工藝 EVG專有的**對準(zhǔn)工藝，用于光學(xué)對準(zhǔn)的壓印和壓印 完全由軟件控制的流程執(zhí)行 閉環(huán)冷卻水供應(yīng)選項(xiàng) 外部浮雕和冷卻站 SmartNIL集成了多...

首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志...

EVG?610紫外線納米壓印光刻系統(tǒng)具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到蕞大150毫米。該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間瑾為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。分步重復(fù)刻印通常用于高 效地制造晶圓級光學(xué)器件制造或EVG的Smart NIL工藝所需的母版。半導(dǎo)體設(shè)備納米壓印有誰在用 EVG ? 51...

HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ?的 UV-NIL紫外光納米壓印系統(tǒng)。 EVG的HERCULES ? NIL產(chǎn)品系列 HERCULES ? NIL完全集成SmartNIL ? UV-NIL系統(tǒng)達(dá)200毫米 對于大批量制造的完全集成的納米壓印光刻解決方案，具有EVG's專有SmartNIL ?印跡技術(shù) HERCULES NIL是完全集成的UV納米壓印光刻跟 蹤解決方案，適用于比較大200 mm的晶圓，是EVG的NIL產(chǎn)品組合的***成員。HERCULES NIL基于模塊化平臺，將EVG專有的SmartNIL壓印技...

納米壓印應(yīng)用二：面板尺寸的大面積納米壓印 EVG專有的且經(jīng)過大量證明的SmartNIL技術(shù)的***進(jìn)展，已使納米圖案能夠在面板尺寸比較大為Gen 3（550 mm x 650 mm）的基板上實(shí)現(xiàn)。對于不能減小尺寸的顯示器，線柵偏振器，生物技術(shù)和光子元件等應(yīng)用，至關(guān)重要的是通過增加圖案面積來提高基板利用率。 NIL已被證明是能夠在大面積上制造納米圖案的**經(jīng)濟(jì)、高 效的方法，因?yàn)樗皇芄鈱W(xué)系統(tǒng)的限制，并且可以為**小的結(jié)構(gòu)提供比較好的圖案保真度。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。 HERCULES?NIL是完全集成的納米壓印光刻解決方案，...

它為晶圓級光學(xué)元件開發(fā)、原型設(shè)計和制造提供了一種獨(dú)特的方法，可以方便地接觸***研發(fā)技術(shù)與材料。晶圓級納米壓印光刻和透鏡注塑成型技術(shù)確保在如3D感應(yīng)的應(yīng)用中使用小尺寸的高 分辨率光學(xué)傳感器供應(yīng)鏈合作推動晶圓級光學(xué)元件應(yīng)用要在下一代光學(xué)傳感器的大眾化市場中推廣晶圓級生產(chǎn)，先進(jìn)的粘合劑與抗蝕材料發(fā)揮著不可取代的作用。開發(fā)先進(jìn)的光學(xué)材料，需要充分地研究化學(xué)、機(jī)械與光學(xué)特性，以及已被證實(shí)的大規(guī)模生產(chǎn)（HVM）的可擴(kuò)展性。擁有在NIL圖形壓印和抗蝕工藝方面的材料兼容性，以及自動化模制和脫模的專業(yè)知識，才能在已驗(yàn)證的大規(guī)模生產(chǎn)中，以**小的形狀因子達(dá)到晶圓級光學(xué)元件的比較好性能。材料供應(yīng)商與加工設(shè)備...

EVG ? 610 紫外線納米壓印光刻系統(tǒng) 具有紫外線納米壓印功能的通用研發(fā)掩膜對準(zhǔn)系統(tǒng)，從碎片到比較大150毫米。 該工具支持多種標(biāo)準(zhǔn)光刻工藝，例如真空，軟，硬和接近曝光模式，并且可以選擇背面對準(zhǔn)。此外，該系統(tǒng)還為多功能配置提供了附加功能，包括鍵對準(zhǔn)和納米壓印光刻（NIL）。EVG610提供快速的處理和重新安裝工具，以改變用戶需求，光刻和NIL之間的轉(zhuǎn)換時間*為幾分鐘。其先進(jìn)的多用戶概念可以適應(yīng)從初學(xué)者到**級別的所有需求，因此使其成為大學(xué)和研發(fā)應(yīng)用程序的理想選擇。 EVG ? 6200 NT是SmartNIL UV紫外光納米壓印光刻系統(tǒng)。聯(lián)電納米壓印價格怎么樣 E...

納米壓印設(shè)備哪個好？預(yù)墨印章用于將材料以明顯的圖案轉(zhuǎn)移到基材上。該技術(shù)用于表面化學(xué)的局部修飾或捕獲分子在生物傳感器制造中的精確放置。 納米壓印設(shè)備可以進(jìn)行熱壓花、加壓加熱、印章、聚合物、基板、附加沖壓成型脫模。 將聚合物片或旋涂聚合物加熱到其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度以上，從而將材料轉(zhuǎn)變?yōu)檎承誀顟B(tài)。然后以足夠的力將壓模壓入聚合物中。岱美作為EVG在中國區(qū)的代理商，歡迎各位聯(lián)系我們，探討納米壓印光刻的相關(guān)知識。我們愿意與您共同進(jìn)步。 EVG ? 7200是自動SmartNIL ? UV納米壓印光刻系統(tǒng)。襯底納米壓印特點(diǎn) IQ Aligner UV-NIL特征： 用于光...

EVG ? 7200 LA特征： 專有SmartNIL ?技術(shù)，提供了****的印跡形大面積 經(jīng)過驗(yàn)證的技術(shù)，具有出色的復(fù)制保真度和均勻性 多次使用的聚合物工作印模技術(shù)可延長母版使用壽命并節(jié)省大量成本 強(qiáng)大且精確可控的處理 與所有市售的壓印材料兼容 EVG ? 7200 LA技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：直徑200毫米（比較大Gen3）（550 x 650毫米） 解析度：40 nm-10 μm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ? 曝光源：大功率窄帶（> 400 mW /cm2） 對準(zhǔn)：可選的...

首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志...

對于壓印工藝，EVG610允許基板的尺寸從小芯片尺寸到比較大直徑150 mm。納米技術(shù)應(yīng)用的配置除了可編程的高和低接觸力外，還可以包括用于印章的釋放機(jī)構(gòu)。EV Group專有的卡盤設(shè)計可提供均勻的接觸力，以實(shí)現(xiàn)高產(chǎn)量的壓印，該卡盤支持軟性和硬性印模。 EVG610特征： 頂部和底部對準(zhǔn)能力 高精度對準(zhǔn)臺 自動楔形誤差補(bǔ)償機(jī)制 電動和程序控制的曝光間隙 支持***的UV-LED技術(shù) **小化系統(tǒng)占地面積和設(shè)施要求 分步流程指導(dǎo) 遠(yuǎn)程技術(shù)支持 多用戶概念（無限數(shù)量的用戶帳戶和程序，可分配的訪問權(quán)限，不同的用戶界面語言） 敏...

首先準(zhǔn)備一塊柔性薄膜作為彈性基底層，然后將巰基-烯預(yù)聚物旋涂在具有表面結(jié)構(gòu)的母板上，彈性薄膜壓印在巰基-烯層上，與材料均勻接觸。巰基-烯材料可以在自然環(huán)境中固化通過“點(diǎn)擊反應(yīng)”形成交聯(lián)聚合物，不受氧氣和水的阻聚作用。順利分離開母板后，彈性薄膜與固化后的巰基-烯層緊密連接在一起，獲得雙層結(jié)構(gòu)的復(fù)合柔性模板。由于良好的材料特性，剛性巰基-烯結(jié)構(gòu)層可以實(shí)現(xiàn)較高的分辨率。因此，利用該方法可以制備高 分辨的復(fù)合柔性模板，經(jīng)過表面防粘處理后可以作為軟壓印模板使用。該研究利用新方法制備了以PDMS和PET為彈性基底的亞100nm線寬的光柵結(jié)構(gòu)復(fù)合軟壓印模板。相關(guān)研究成果發(fā)表于《納米科技與納米技術(shù)雜志...

HERCULES ? NIL特征： 全自動UV-NIL壓印和低力剝離 **多300毫米的基材 完全模塊化的平臺，具有多達(dá)八個可交換過程模塊（壓印和預(yù)處理） 200毫米/ 300毫米橋接工具能力 全區(qū)域烙印覆蓋 批量生產(chǎn)**小40 nm或更小的結(jié)構(gòu) 支持各種結(jié)構(gòu)尺寸和形狀，包括3D 適用于高地形（粗糙）表面 *分辨率取決于過程和模板 HERCULES ? NIL技術(shù)數(shù)據(jù)： 晶圓直徑（基板尺寸）：100至200毫米/ 200和300毫米 解析度：≤40 nm（分辨率取決于模板和工藝） 支持流程：SmartNIL ...

EVG公司技術(shù)開發(fā)和IP總監(jiān)Markus Wimplinger補(bǔ)充說：“我們開發(fā)新技術(shù)和工藝以應(yīng)對*復(fù)雜的挑戰(zhàn)，幫助我們的客戶成功地將其新產(chǎn)品創(chuàng)意商業(yè)化。技術(shù)，我們創(chuàng)建了我們的NILPhotonics能力中心?！霸诰哂斜Ｗo(hù)客戶IP的強(qiáng)大政策的框架內(nèi)，我們?yōu)榭蛻籼峁┝藦目尚行缘缴a(chǎn)階段的產(chǎn)品開發(fā)和商業(yè)化支持。這正是我們***與AR領(lǐng)域的**者WaveOptics合作所要做的，以為*終客戶提供真正可擴(kuò)展的解決方案。” EVG的NILPhotonics?能力中心框架內(nèi)的協(xié)作開發(fā)工作旨在支持WaveOptics的承諾，即在工業(yè)，企業(yè)和消費(fèi)者等所有主要市場領(lǐng)...