密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔,提高濺射薄膜的性能,一般是要求靶材必須具有較高的密度。因為靶材主要特性密度對濺射速率有著很大的影響,并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高,薄膜的性能越好。 是晶粒尺寸...
基于非晶IGZO真空材料的阻變存儲器與憶阻器 從真空材料結(jié)構(gòu)及電子結(jié)構(gòu)角度入手,將In、Ga 元素引入到ZnO 材料中形成InGaZnO(IGZO)非晶合金材料,由于球?qū)ΨQ的In 5s 軌道交疊較大,使得該材料具有形變對電學(xué)輸運影響較小且遷移率較高的特點。 ...
PECVD制備氫化非晶硅薄膜本實驗采用單晶硅片為襯底,按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干,然后置于PECVD系統(tǒng)中。樣品制備條件為襯底溫度250℃,工作氣壓120Pa,射頻功率100W,氣體流量SiH4/H2=15/5sccm,沉積時間30min,制備得到a-...
與實施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為8mm;所得靶材組件濺射強度差,使得濺射過程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。對比例3與實施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv;所得靶材組件濺射強度差,使得濺射過程中薄膜厚度不均勻,使用...
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布 通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 4..密度 為了減少靶材固體...
PVD技術(shù)常用的方法PVD基本方法:真空蒸發(fā)、濺射、離子鍍(空心陰極離子鍍、熱陰極離子鍍、電弧離子鍍、活性反應(yīng)離子鍍、射頻離子鍍、直流放電離子鍍),以下介紹幾種常用的方法。電子束蒸發(fā)電子束蒸發(fā)是利用聚焦成束的電子束來加熱蒸發(fā)源,使其蒸發(fā)并沉積在基片表面而形成薄...
根據(jù)客戶需要的比例計算、配料。(嚴格按照需求比例進行配料,以便保證合金的成分比例,降低公差);根據(jù)元素的熔點、元素特性、用量等選擇合適的熔煉爐工藝排期、熔煉;熔煉成型,根據(jù)客戶要求大小進行破碎、切割等后期處理。高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材規(guī)格說明:產(chǎn)品規(guī)...
晶粒尺寸及晶粒尺寸分布 通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級。對于同一種靶材,晶粒細小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快;而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 4..密度 為了減少靶材固體...
PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金,單從她那浪漫的名字,就能引起人們無數(shù)美妙的聯(lián)想。在閃閃發(fā)光的黃金飾品與經(jīng)典高雅的鉑金飾品之后,色調(diào)柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時尚人士的“新寵”,以她特有的風(fēng)格與文化,演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75%的黃金與其它...
頂板210與所述側(cè)板220為一體成型。在其他實施例中,所述頂板與所述側(cè)板還可以采用焊接、螺接或緊密配合方式固定連接。固定板200的材料為合金,具體的,所述固定板200的材料為不銹鋼。在其他實施例中,所述固定板的材料還可以為金屬。固定板200的厚度為10mm~1...
濺射鍍膜不良膜層分析,改善方法: 1.白霧主要表現(xiàn):膜層外觀一層白霧。 原因分析及改善:(白霧可擦拭):外層膜松散粗糙;出爐溫差大;潮氣吸附;膜層結(jié)構(gòu)不均勻;反應(yīng)氣體不足/不均勻;外層膜應(yīng)力大等。 (白霧不可擦拭):殘留臟污;材腐蝕污染;膜層之間不匹配...
磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al(AZO)薄膜的工藝探討目前主要的薄膜太陽能電池有:碲化鎘(CdTe)系薄膜太陽能電池、硒銦銅(CIS)系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶Al...
常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系:1.IP玫瑰金(rosegold)是一種黃金和銅的合金,由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩,因而普遍用于首飾設(shè)計和加工。又稱粉色金(pinkgold)、紅色金(redgold)。2.IP金,用離子鍍膜的方式,讓靶材上的黃金沉...
磁控濺射鍍膜生產(chǎn)ZnO∶Al(AZO)薄膜的工藝探討 目前主要的薄膜太陽能電池有:碲化鎘(CdTe)系薄膜太陽能電池、硒銦銅(CIS)系薄膜太陽能電池、非晶硅系薄膜太陽能電池、晶硅系薄膜太陽能電池。研究人員研制出了價格低廉、原材料豐富且性能穩(wěn)定的絨面ZnO∶A...
電子束鍍膜 Au-T4025 金 靶材 99.99% φ50.8*5mm 磁控濺射鍍膜 Pt-T4034 鉑 靶材 99.99% φ60*4mm 磁控濺射鍍膜 Pd-T3575 鈀 靶材 99.95% φ101.6*5mm 磁控濺射鍍膜 Ag-T4043 銀 ...
靶中毒的影響因素 影響靶中毒的因素主要是反應(yīng)氣體和濺射氣體的比例,反應(yīng)氣體過量就會導(dǎo)致靶中毒。反應(yīng)濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應(yīng)生成物覆蓋或反應(yīng)生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率...
純度:純度是靶材的主要性能指標之一,因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中,對靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”、8”發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前...
釬焊:一般使用軟釬料的情況下,要求濺射功率小于20W/cm2,釬料常用In、Sn、In-Sn;導(dǎo)電膠:采用的導(dǎo)電膠要耐高溫,厚度在0.02-0.05um。二.綁定的適用范圍:建議綁定的靶材:ITO、SiO2、陶瓷脆性靶材及燒結(jié)靶材;錫、銦等軟金屬靶;靶材太薄、...
PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金,單從她那浪漫的名字,就能引起人們無數(shù)美妙的聯(lián)想。在閃閃發(fā)光的黃金飾品與經(jīng)典高雅的鉑金飾品之后,色調(diào)柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時尚人士的“新寵”,以她特有的風(fēng)格與文化,演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75%的黃金與其它...
本實施例提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.78mm;所述靶材表面的硬度為26hv;其中,所述靶材的比較大厚度為22mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括...
但下列情況綁定有弊端: 1.熔點低的靶材,像銦、硒等,金屬化的時候可能會變軟變形; 2.貴金屬靶材,一是實際重量易出現(xiàn)分歧,二是金屬化以及解綁的時候都會有浪費料,建議墊一片銅片。 三.背靶的選擇 對材質(zhì)的要求:一般選用無氧銅和鉬靶,...
靶材拋光裝置還包括:防護層,所述防護層位于所述固定板與所述拋光片之間。防護層為彈性材料。靶材拋光裝置還包括:把手,所述把手設(shè)置于所述固定板的外表面上。把手的數(shù)量為兩個,其中一個所述把手設(shè)置于所述固定板的頂部,另一個所述把手設(shè)置于所述固定板的側(cè)壁上。與現(xiàn)有技術(shù)相...
濺射過程不影響靶材合金、混合材質(zhì)的比例和性質(zhì),所以如果是表面容易變質(zhì)的靶材,如果不拋光去除表面變質(zhì)部分,沉積到基材上的膜層性質(zhì)就是表面變質(zhì)的雜質(zhì)。 有一部分靶材在安裝之前需要拋光,比如鋁靶材等活性金屬靶材,長期暴露在大氣中,表面容易形成一層氧化皮,在...
PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金,單從她那浪漫的名字,就能引起人們無數(shù)美妙的聯(lián)想。在閃閃發(fā)光的黃金飾品與經(jīng)典高雅的鉑金飾品之后,色調(diào)柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時尚人士的“新寵”,以她特有的風(fēng)格與文化,演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75%的黃金與其它...
為確保足夠的導(dǎo)熱性,可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。請注意一定要仔細檢查和明確所使用濺射頭冷卻壁的平整度,同時確保O型密封圈始終在位置上。由于所使用冷卻水的潔凈程度和設(shè)備運行過程中可能會產(chǎn)生的污垢會沉積在陰極冷卻水槽內(nèi),所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻...
所得靶材組件濺射強度好,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實施例4本實施例提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.9mm;所述靶材表面的硬度為25hv;其中,所述靶材的比較大厚度為24mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材...
真空技術(shù)中的清潔處理 (一)概述 真空技術(shù)清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空,增加連接強度和氣密性,提高產(chǎn)品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類型 ①油脂:加工、安裝和操作時...
磁控濺射鍍膜中出現(xiàn)膜層不良的表現(xiàn)有哪些,如何改善? 1.脫膜主要表現(xiàn):點狀/片狀膜層脫落 原因分析:雜質(zhì)附著,清洗殘留,真空室臟,臟污、油斑、灰點、口水點, 膜層局部附著不良等。 改善:加強清洗,加強烘烤,環(huán)境管控(清潔干燥),對于多層膜系,底層須與基材匹配(...
靶材表面的比較高點和比較低點的垂直距離為5.75-6mm,例如可以是5.75mm、5.76mm、5.77mm、5.78mm、5.79mm、5.8mm、5.81mm、5.82mm、5.83mm、5.84mm、5.85mm、5.86mm、5.87mm、5.88mm...
濺射靶材的制備方法有哪些?濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材普遍應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領(lǐng)域,不同領(lǐng)域需要的靶材各不相...