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什么是DLC薄膜？ 類(lèi)金剛石薄膜通常又被人們稱(chēng)為DLC薄膜，是英文詞匯Diamond Like Carbon的簡(jiǎn)稱(chēng)，它是一類(lèi)性質(zhì)近似于金剛石，具有高硬度，高電阻率。良好光學(xué)性能等，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式，從而使其終產(chǎn)生不同的物質(zhì)：金剛石（diamond）—碳碳以 sp3鍵的形式結(jié)合；石墨（graphite）—碳碳以sp2鍵的形式結(jié)合。 而類(lèi)金剛石（DLC）—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合，生成的無(wú)定形碳的一種亞穩(wěn)定形態(tài)，它沒(méi)有嚴(yán)格的定義，可以包括很寬性質(zhì)范圍的非晶碳，因此兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性；所以由類(lèi)金剛石而來(lái)的DLC膜...

靶材的比較大厚度為20-30mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角≤10°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁、鉭、鈦或銅中的一種；所述背板的材質(zhì)包括銅和/或鋁。與現(xiàn)有技術(shù)方案相比，本發(fā)明具有以下有益效果：本發(fā)明中，通過(guò)調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，利用二者之間的協(xié)同效果保證濺射強(qiáng)度，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。下面對(duì)本發(fā)明進(jìn)一步詳細(xì)說(shuō)明。但下述的實(shí)例 是本發(fā)明的簡(jiǎn)易例子，并不**或限制本發(fā)明的...

利用原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM)，對(duì)所制備的非晶硅薄膜進(jìn)行了定性和定量的表征，研究了濺射功率、襯底溫度、濺射時(shí)間、氬氣氣壓等因素對(duì)非晶硅薄膜表面形貌和厚度的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨濺射功率、濺射時(shí)間和濺射氣壓的增加而增大，而隨著襯底加熱溫度的增加而減小。 對(duì)制備的非晶硅薄膜在不同溫度和時(shí)間進(jìn)行了退火處理。再利用X- 射線衍射儀(XRD)和拉曼光譜儀，對(duì)不同退火溫度的樣品進(jìn)行晶化程度的表征。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明：不同條件制備的非晶硅薄膜在750℃退火1 h 后就已發(fā)生不同程度的晶化，并且直流磁控濺射制備的非晶硅薄膜比射頻磁控濺射制備的非晶硅薄膜更容易發(fā)生晶化...

靶材的雜質(zhì)含量。在經(jīng)過(guò)一系列的靶材工藝處理后靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。因?yàn)橛锰幉灰粯樱圆煌猛镜陌胁膶?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。比如現(xiàn)在的半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘?duì)濺射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。適用范圍和背靶的選擇三個(gè)方面來(lái)為大家介紹一下靶材綁定。南京氧化鎂靶材作用靶材非晶硅薄膜的制備方法 非晶硅薄膜...

由于操作人員同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，因此操作人員施加在靶材側(cè)壁表面及側(cè)棱上的力度差異小，拋光工藝結(jié)束后，靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度，使得拋光表面具有良好的均一性，有助于改善濺射鍍膜質(zhì)量。若分步驟對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面進(jìn)行拋光，操作人員在兩個(gè)步驟中施加的力度容易差別較大，造成拋光處理后，靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面粗糙度差異大，使得靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面交接處具有臺(tái)階。在濺射鍍膜過(guò)程中，所述臺(tái)階容易導(dǎo)致前列放電，影響濺射鍍膜的均一性，造成鍍膜質(zhì)量差。拋光片部分310的厚度均勻。所述拋光片第三部分330的厚度均勻。位于所述固定板2...

與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為8mm；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對(duì)比例3與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對(duì)比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。通過(guò)上述實(shí)施例和對(duì)比例的結(jié)果可知，本發(fā)明中，通過(guò)調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強(qiáng)度，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。申請(qǐng)人聲明，本發(fā)明通過(guò)上述實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征，但本發(fā)明并...

靶材的雜質(zhì)含量。在經(jīng)過(guò)一系列的靶材工藝處理后靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。因?yàn)橛锰幉灰粯?，所以不同用途的靶材?duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。比如現(xiàn)在的半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘?duì)濺射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。南京WS2靶材型號(hào)靶材防護(hù)層為彈性材料，所述防...

真空離子鍍?cè)诤娇蘸教旆矫娴膽?yīng)用： 在現(xiàn)代飛機(jī)、航空發(fā)動(dòng)機(jī)或航空儀表中，特別是在航宇器，如宇宙飛船、人造衛(wèi)星中，有不少旋轉(zhuǎn)零件都要求有良好的潤(rùn)滑，但往往由于封存過(guò)久、環(huán)境溫度過(guò)高或太空揮發(fā)等原因，普通油脂潤(rùn)滑劑已不再適用，從而提出以固體潤(rùn)滑劑代替。試驗(yàn)表明，用離子鍍來(lái)制作固體潤(rùn)滑膜，比現(xiàn)有其他方法為優(yōu)。不但附著力強(qiáng)，鍍層又薄又勻，不影響零件的尺寸精度和公差配合。經(jīng)濟(jì)性也好，少許潤(rùn)滑材料即可鍍很大面積。潤(rùn)滑膜的質(zhì)量也較好，摩擦系數(shù)小，使用壽命也長(zhǎng)。例如有一個(gè)人造衛(wèi)星上的精密軸承，未鍍前工作壽命為幾分鐘，根本無(wú)法使用;但是經(jīng)離子鍍固體潤(rùn)滑膜后，則可在飛行中可靠地工作數(shù)千小時(shí)之久。離子鍍不能夠鍍?cè)S多種...

作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述靶材包括用于濺射的濺射面。 地，所述濺射面包括***平、第二平面和斜面。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述斜面與水平面的夾角≤10°，例如可以是10°、9°、8°、7°、6°、5°、4°、3°、2°或1°等，但不限于所列舉的數(shù)值，該范圍內(nèi)其他未列舉的數(shù)值同樣適用。作為本發(fā)明 的技術(shù)方案，所述斜面位于所述***平面和第二平面之間。 地，所述***平面為圓形。 地...

所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例3提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.8mm；所述靶材表面的硬度為22hv；其中，所述靶材的比較大厚度為28mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鉭；所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例4提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，...

真空技術(shù)中的清潔處理 (一)概述 真空技術(shù)清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強(qiáng)度和氣密性，提高產(chǎn)品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類(lèi)型 ①油脂:加工、安裝和操作時(shí)沾染的潤(rùn)滑劑、真空油脂等; ②水滴:操作時(shí)的手汗，吹玻璃時(shí)的唾液等; ③表面氧化物:易氧化材料長(zhǎng)期基露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物; ④酸、堿、鹽類(lèi)物質(zhì):清洗后的殘余物質(zhì)、手汗、自來(lái)水中的礦物質(zhì)等; ⑤空氣中的塵埃及其它有機(jī)物。 (三)污染的形成及其影響 真空裝置由許多不同的零件組成，它們都是經(jīng)過(guò)各種機(jī)械加工完成的，如車(chē)、銑、刨、...

靶材拋光裝置100還包括：防護(hù)層400，所述防護(hù)層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。防護(hù)層400為彈性材料，能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖，避免所述固定板200觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。防護(hù)層400的厚度為30mm～35mm。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)小，所述防護(hù)層400起到的緩沖效果差，難以有效的保護(hù)靶材。若所述防護(hù)層400的厚度過(guò)大，使得所述防護(hù)層400的體積過(guò)大，進(jìn)而造成所述靶材拋光裝置100的體積過(guò)大，對(duì)操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來(lái)不必要的困難。防護(hù)層400的材料。在其他實(shí)施例中，所述防護(hù)層的材料還可以為橡膠或棉花。防護(hù)層400與所述固定板200間通過(guò)粘結(jié)劑...

靶材材質(zhì)對(duì)靶濺射電壓的影響 ： 1. 在真空條件不變的條件下,不同材質(zhì)與種類(lèi)靶材對(duì)磁控靶的正常濺射電壓會(huì)產(chǎn)生一定的影響。 2. 常用的靶材(如銅Cu、鋁Al、鈦Ti?)的正常濺射電壓一般在400~600V的范圍內(nèi)。 3. 有的難濺射的靶材(如錳Mn、鉻Cr等) 的濺射電壓比較高, 一般需>700V以上才能完成正常磁控濺射過(guò)程;而有的靶材(如氧化銦錫ITO) 的濺射電壓比較低，可以在200多伏電壓時(shí)實(shí)現(xiàn)正常的磁控濺射沉積鍍膜。 4. 實(shí)際鍍膜過(guò)程中，由于工作氣體壓力變化，或陰極與陽(yáng)極間距偏小(使真空腔體內(nèi)阻抗特性發(fā)生變化)，或真空腔體與磁控靶的機(jī)械尺寸不匹配，同時(shí)選用...

什么是3D玻璃？ 現(xiàn)在數(shù)碼產(chǎn)品使用的玻璃蓋板分為：2D玻璃，2.5D玻璃，還有3D玻璃。2D玻璃就是普通的純平面玻璃，沒(méi)有任何弧形設(shè)計(jì)；2.5D玻璃則為中間是平面的，但邊緣是弧形設(shè)計(jì)；而3D屏幕，無(wú)論是中間還是邊緣都采用弧形設(shè)計(jì)。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 產(chǎn)品設(shè)計(jì)需求。3C 產(chǎn)品設(shè)計(jì)如智能手機(jī)、智能手表、平板計(jì)算機(jī)、可穿戴式智能產(chǎn)品、儀表板等陸續(xù)出現(xiàn) 3D 產(chǎn)品，已經(jīng)明確引導(dǎo)3D曲面玻璃發(fā)展方向。3D曲面玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅(jiān)硬、耐刮傷、耐候性佳等優(yōu)點(diǎn)，可型塑做出3D多形狀外觀具有產(chǎn)品特殊設(shè)計(jì)新穎性與質(zhì)感佳，又可增加弧形邊緣觸控功能帶來(lái)出色的觸控手感、無(wú)線充電機(jī)能，并能解...

由于操作人員同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，因此操作人員施加在靶材側(cè)壁表面及側(cè)棱上的力度差異小，拋光工藝結(jié)束后，靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度，使得拋光表面具有良好的均一性，有助于改善濺射鍍膜質(zhì)量。若分步驟對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面進(jìn)行拋光，操作人員在兩個(gè)步驟中施加的力度容易差別較大，造成拋光處理后，靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面粗糙度差異大，使得靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面交接處具有臺(tái)階。在濺射鍍膜過(guò)程中，所述臺(tái)階容易導(dǎo)致前列放電，影響濺射鍍膜的均一性，造成鍍膜質(zhì)量差。拋光片部分310的厚度均勻。所述拋光片第三部分330的厚度均勻。位于所述固定板2...

本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.78mm；所述靶材表面的硬度為26hv；其中，所述靶材的比較大厚度為22mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為4°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鈦；所述背板的材質(zhì)包括鋁。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。對(duì)比例1與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.5mm；所得靶材組...

磁控靶濺射沉積率的影響因素 濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù)，其沉積率高低除了與工作氣體的種類(lèi)與壓力、靶材種類(lèi)與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場(chǎng)強(qiáng)度、靶源與基片的間距等影響因素外，還受靶面的功率密度，亦即靶電源輸出的“濺射電壓與電流”兩個(gè)重要因素的直接影響。 1、濺射電壓與沉積率 在影響濺射系數(shù)的諸因數(shù)中，當(dāng)靶材、濺射氣體等業(yè)已選定之后，比較起作用的就是磁控靶的放電電壓。一般來(lái)說(shuō)，在磁控濺射正常工藝范圍內(nèi)，放電電壓越高，磁控靶的濺射系數(shù)就越大。 2、濺射電流與沉積率 磁控靶的濺射電流與靶面離子流成正比，因此對(duì)沉積率的影響比電壓要大得多。增加濺射電流的辦法有兩個(gè)：一個(gè)是提高工作電壓...

PECVD 制備氫化非晶硅薄膜 本實(shí)驗(yàn)采用單晶硅片為襯底，按石英玻璃基片的清洗步驟清洗后烘干，然后置于PECVD系統(tǒng)中。樣品制備條件為襯底溫度250℃，工作氣壓120 Pa， 射頻功率100 W， 氣體流量SiH4/H2=15/5 sccm， 沉積時(shí)間30min， 制備得到a- Si：H 薄膜樣品。 (1) 非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨著濺射功率的增大而增大，膜的均勻性將會(huì)變差; (2) 非晶硅薄膜的表面粗糙度隨著襯底加熱溫度的增大而減小，非晶硅薄膜均勻性變好; (3) 在0.5 Pa 至2.0 Pa范圍內(nèi)，隨著氬氣氣壓的增加非晶硅薄膜的表面粗糙度稍微變大; (4) 隨著濺射...

在上述具體實(shí)施方式中所描述的各個(gè)具體技術(shù)特征，在不矛盾的情況下，可以通過(guò)任何合適的方式進(jìn)行組合，為了避免不必要的重復(fù)，本發(fā)明對(duì)各種可能的組合方式不再另行說(shuō)明。此外，本發(fā)明的各種不同的實(shí)施方式之間也可以進(jìn)行任意組合，只要其不違背本發(fā)明的思想，其同樣應(yīng)當(dāng)視為本發(fā)明所公開(kāi)的內(nèi)容。本發(fā)明涉及靶材領(lǐng)域，具體涉及一種長(zhǎng)壽命靶材組件。目前，現(xiàn)有的半導(dǎo)體濺射用ilc1013系列靶材的濺射壽命已經(jīng)到了一個(gè)極限，為提高靶材的使用壽命，節(jié)省多次更換靶材的重復(fù)性?，F(xiàn)有的技術(shù)都是通過(guò)磁場(chǎng)強(qiáng)度，把靶材表面設(shè)計(jì)成曲面來(lái)延長(zhǎng)壽命，包括靶材本體及基體，所述基體的至少一面設(shè)有所述靶材本體，所述靶材本體是由高純度靶材合金粉末通過(guò)等...

什么是3D玻璃？ 現(xiàn)在數(shù)碼產(chǎn)品使用的玻璃蓋板分為：2D玻璃，2.5D玻璃，還有3D玻璃。2D玻璃就是普通的純平面玻璃，沒(méi)有任何弧形設(shè)計(jì)；2.5D玻璃則為中間是平面的，但邊緣是弧形設(shè)計(jì)；而3D屏幕，無(wú)論是中間還是邊緣都采用弧形設(shè)計(jì)。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 產(chǎn)品設(shè)計(jì)需求。3C 產(chǎn)品設(shè)計(jì)如智能手機(jī)、智能手表、平板計(jì)算機(jī)、可穿戴式智能產(chǎn)品、儀表板等陸續(xù)出現(xiàn) 3D 產(chǎn)品，已經(jīng)明確引導(dǎo)3D曲面玻璃發(fā)展方向。3D曲面玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅(jiān)硬、耐刮傷、耐候性佳等優(yōu)點(diǎn)，可型塑做出3D多形狀外觀具有產(chǎn)品特殊設(shè)計(jì)新穎性與質(zhì)感佳，又可增加弧形邊緣觸控功能帶來(lái)出色的觸控手感、無(wú)線充電機(jī)能，并能解...

真空鍍膜機(jī)在塑膠行業(yè)的應(yīng)用 真空鍍膜機(jī)應(yīng)該普遍，在塑料行業(yè)的應(yīng)該也很普遍。而塑膠在生活，工業(yè)，電器，航空等領(lǐng)域都有涉及。塑膠具有易成型，價(jià)格便宜，質(zhì)量輕，防腐蝕等優(yōu)點(diǎn)，但塑膠的缺點(diǎn)也比較突出，其缺點(diǎn)也制約了塑膠的應(yīng)用范圍，如不美觀、易老化、機(jī)械性能差、易碎易變型、耐熱差等。通過(guò)真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用，使塑膠表面鍍上特定膜層，東莞匯成真空自主研發(fā)生產(chǎn)的蒸發(fā)真空鍍膜設(shè)備將鍍膜機(jī)材料和塑膠產(chǎn)呂完美結(jié)合，提高了塑膠制品的物理、化學(xué)性能。 一、改善表面硬度，原塑膠表面比金屬軟而易受損害，通過(guò)真空鍍膜，硬度及耐磨性增加； 二、使塑料表面有導(dǎo)電性； 三、容易清洗，不吸塵； 四、改善塑膠外觀，表面光滑，金屬感強(qiáng)，...

真空鍍膜離子鍍簡(jiǎn)析 真空鍍膜離子鍍，電鍍混合廢水處理生化過(guò)程與傳統(tǒng)的物理和化學(xué)過(guò)程，生物絮凝劑之間的區(qū)別可連續(xù)操作過(guò)程中的育種，生物絮凝劑，以去除金屬離子與生物絮凝增加量的增加的劑量，傳統(tǒng)的離子交換過(guò)程中的離子交換樹(shù)脂的交換容量是有限的，飽和吸附后，不再能夠除去金屬離子。 一種離子鍍系統(tǒng)，以基片作為陰極，陽(yáng)極殼，惰性氣體(氬氣)，以產(chǎn)生輝光放電。從蒸發(fā)源的分子通過(guò)等離子體的電離區(qū)域。的正離子被加速襯底臺(tái)到襯底表面上的負(fù)電壓?；瘜W(xué)沉淀法，化學(xué)主體的影響是一定的，沒(méi)有它們的增殖。離子鍍工藝結(jié)合蒸發(fā)(高沉積速率)和濺射層(良好的薄膜粘合)的工藝特點(diǎn)，并具有很好的衍射，對(duì)于形狀復(fù)雜的工件涂層。 ...

PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金，單從她那浪漫的名字，就能引起人們無(wú)數(shù)美妙的聯(lián)想。在閃閃發(fā)光的黃金飾品與經(jīng)典高雅的鉑金飾品之后，色調(diào)柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時(shí)尚人士的“新寵”，以她特有的風(fēng)格與文化，演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75％的黃金與其它合金組成（俗稱(chēng)三色金）。 硬度較純金高，與傳統(tǒng)的黃金和鉑金相比，粉紅色的玫瑰金不但能使有色寶石的色彩更加濃重，還體現(xiàn)了金屬材質(zhì)的精致、細(xì)膩。其粉紅、玫瑰等暖色調(diào)給人們帶來(lái)溫暖與愉快；在款式上也是千姿百態(tài)，有心形、欖尖形、橢圓形、梨形、祖母綠形。各種風(fēng)格迥異的飾品，可謂璀璨耀眼，女性無(wú)論是著職業(yè)裝，還是晚禮服及吊帶裙，與之相配都顯出高雅的氣...

氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響 在磁控濺射或反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過(guò)程中，工作氣體或反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。 1.工作氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響 一般的規(guī)律是：在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著工作氣體(如氬氣)壓強(qiáng)(0.1~10Pa)的逐步增加，氣體放電等離子體的密度也會(huì)同步增加，致使等離子體等效阻抗減小，磁控靶的濺射電流會(huì)逐步上升，濺射工作電壓亦會(huì)同步下降。 2. 反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響 在反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過(guò)程中，在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著反應(yīng)氣體(如氮?dú)?、氧?壓強(qiáng)(或流量)...

什么是DLC薄膜？ 類(lèi)金剛石薄膜通常又被人們稱(chēng)為DLC薄膜，是英文詞匯Diamond Like Carbon的簡(jiǎn)稱(chēng)，它是一類(lèi)性質(zhì)近似于金剛石，具有高硬度，高電阻率。良好光學(xué)性能等，同時(shí)又具有自身獨(dú)特摩擦學(xué)特性的非晶碳薄膜。碳元素因碳原子和碳原子之間的不同結(jié)合方式，從而使其終產(chǎn)生不同的物質(zhì)：金剛石（diamond）—碳碳以 sp3鍵的形式結(jié)合；石墨（graphite）—碳碳以sp2鍵的形式結(jié)合。 而類(lèi)金剛石（DLC）—碳碳則是以sp3和sp2鍵的形式結(jié)合，生成的無(wú)定形碳的一種亞穩(wěn)定形態(tài)，它沒(méi)有嚴(yán)格的定義，可以包括很寬性質(zhì)范圍的非晶碳，因此兼具了金剛石和石墨的優(yōu)良特性；所以由類(lèi)金剛石而來(lái)的DLC膜...

鋁鈧合金靶材（AlSc)，尺寸按需求定制，比列按需求定制，含鈧比較高能做到AlSc45wt%，質(zhì)量?jī)?yōu)異，雜質(zhì)含量低，歡迎新老客戶(hù)來(lái)電咨詢(xún)洽談。江陰典譽(yù)新材料科技有限公司生產(chǎn)的金屬鈧，品質(zhì)優(yōu)異，**全球。鋁鈧合金生產(chǎn)歷史悠久，擁有豐富的經(jīng)驗(yàn)，目前推出的鋁鈧合金靶材已被微電子行業(yè)大型廠商采用。相關(guān)靶材清單如下：稀土合金靶材：鋁鈧AlSc;鈰釓CeGd;鈰鎂CeMg;鈰釤CeSm;鏑鈷DyCo;鏑鐵DyFe;釓銅GdCu;釓鐵GdFe;鈥銅HoCu;鑭鋁LaAl;鑭鎳LaNi;鋁釹AlNd;釹鐵NdFe;釹鐵硼NdFe；鎳鎂鈰NiMgCe;鎳鎂鐵鈰NiMgFeCe;鋱鏑鐵TbDyFe;鋱鐵TbFe;...

有一部分靶材在安裝之前需要拋光，比如鋁靶材等活性金屬靶材，長(zhǎng)期暴露在大氣中，表面容易形成一層氧化皮，在直流脈沖、中頻濺射過(guò)程中，離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮，所以一般在濺射的時(shí)候進(jìn)行物理拋光。一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定，容易控制。所以結(jié)論就是，活性金屬靶材要求表面拋光，不活潑金屬靶材不一定非要求表面拋光。其他非金屬的靶材不需要拋光。靶材安裝及注意事項(xiàng)有哪些？濺射靶材安裝過(guò)程中重要的注意事項(xiàng)是一定要確保在靶材和濺射頭冷卻壁之間建立很好的導(dǎo)熱連接。如果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開(kāi)裂或彎曲，背靶到靶材的導(dǎo)熱性能就會(huì)受到很大的影響，導(dǎo)致在濺射過(guò)程中...

高純金屬的概念： 任何金屬都不能達(dá)到純?！案呒儭焙汀俺儭本哂邢鄬?duì)的含義，是指技術(shù)上達(dá)到的標(biāo)準(zhǔn)。由于技術(shù)的發(fā)展，也常使“超純”的標(biāo)準(zhǔn)升級(jí)。例如過(guò)去高純金屬的雜質(zhì)為 ppm級(jí)（即百萬(wàn)分之幾）,而超純半導(dǎo)體材料的雜質(zhì)達(dá)ppb級(jí)（十億分之幾）,并將逐步發(fā)展到以ppt級(jí)（一萬(wàn)億分之幾）表示。實(shí)際上純度以幾個(gè)“9”(N)來(lái)表示（如雜質(zhì)總含量為百萬(wàn)分之一，即稱(chēng)為6個(gè)“9”或6N），是不完整概念，如電子器件用的超純硅以金屬雜質(zhì)計(jì)算，其純度相當(dāng)于9 個(gè)“9”。 但如計(jì)入碳，則可能不到6個(gè)“9”。“超純”的相對(duì)名詞是指“雜質(zhì)”，廣義的雜質(zhì)是指化學(xué)雜質(zhì)（元素）及“物理雜質(zhì)”，后者是指位錯(cuò)及空位等，而化學(xué)雜質(zhì)是指基...

與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為8mm；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對(duì)比例3與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對(duì)比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。通過(guò)上述實(shí)施例和對(duì)比例的結(jié)果可知，本發(fā)明中，通過(guò)調(diào)整靶材表面的高度差及硬度，保證濺射強(qiáng)度，使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。申請(qǐng)人聲明，本發(fā)明通過(guò)上述實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征，但本發(fā)明并...

靶材600呈長(zhǎng)方體狀，其頂部表面為靶材濺射面610，底部表面為靶材焊接面620，所述靶材焊接面620貼合于背板表面上，所述靶材600通過(guò)所述靶材焊接面620與背板焊接固定。所述靶材600具有四個(gè)側(cè)壁表面630。靶材600具有十二條側(cè)棱601，各條側(cè)棱601均經(jīng)過(guò)圓角處理。在圓角處理前，所述靶材600的側(cè)棱601位置較為銳利。如果使用側(cè)棱未經(jīng)圓角處理的靶材600進(jìn)行濺射鍍膜，在濺射鍍膜工藝過(guò)程中，所述靶材600的側(cè)棱601位置容易發(fā)生前列放電的現(xiàn)象，導(dǎo)致鍍膜的均勻性差，影響鍍膜質(zhì)量。圓角處理使得靶材側(cè)棱601鈍化，有助于防止前列放電現(xiàn)象的發(fā)生。濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類(lèi)。...