【真空鍍膜設(shè)備撿漏需注意】真空鍍膜設(shè)備檢漏是保證真空鍍膜設(shè)備真空度的一項(xiàng)檢查措施,簡稱檢漏,真空度的高低是直接影響到鍍膜效果的,所以檢漏是必不可少的。一、要確認(rèn)漏氣到底的虛漏還是實(shí)漏。因?yàn)楣ぜ牧霞訜岷蠖紩诓煌潭壬袭a(chǎn)生氣體,有可能誤以為是從外部流進(jìn)的氣體,...
【真空鍍膜機(jī)詳細(xì)資料】系統(tǒng)概述真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜,具體包括很多種類,包括真空離子蒸發(fā),磁控濺射,MBE分子束外延,PLD激光濺射沉積等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。常用于對半導(dǎo)體、光伏、電子、精密光學(xué)等行業(yè)的納米級表面處理...
【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動能的荷電粒子轟擊材料表面,使其濺射出進(jìn)入氣相,可用來刻蝕和鍍膜。入射一個離子所濺射出的原子個數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快,以Cu,Au,Ag等高,Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/離子...
【真空鍍膜機(jī)檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣),充氣壓力的高低視零部件的強(qiáng)度而定,一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發(fā)出明顯的嘶嘶聲,音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢較小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺漏孔...
【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】: 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結(jié)構(gòu),表面硬度不高,容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括: 1. 在膜系設(shè)計(jì)允許的條件下,膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層,二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂(但二氧化硅...
【光譜分光不良的補(bǔ)救(補(bǔ)色)之其他情況】:分光不良分為二種情況:一是全部膜系鍍制完成后,經(jīng)測試分光不良,此類不良主要按六節(jié)所述方法處理,一般減反膜難以補(bǔ)救。但對于高反膜、帶通濾光膜等可以通過加層的方法補(bǔ)救。二是鍍制中途中斷(包括發(fā)現(xiàn)錯誤中斷)造成的分光不良,一...
【離子鍍的歷史】:真空離子鍍膜技術(shù)是近幾十年才發(fā)展起來的一種新的鍍膜技術(shù)。在離子鍍技術(shù)興起的40多年來取得了巨大的進(jìn)步,我國也有將近30多年的離子鍍研究進(jìn)程?!倦x子鍍的原理】:蒸發(fā)物質(zhì)的分子被電子撞擊后沉積在固體表面稱為離子鍍。蒸發(fā)源接陽極,工件接陰極,當(dāng)通以...
【真空鍍膜機(jī)的鍍層與鍍膜原理】A、原材料與基本原理:原材料都是樹脂、聚合物、鐵氟隆、硅酮、丙烯酸、硅酸鹽等,輔料、配方與量度有所不同。例添加的乳化劑,不同的量相調(diào)和,乳化出來的狀態(tài)就不一樣,水狀、乳狀、膏狀都可以實(shí)現(xiàn)。這些物質(zhì)經(jīng)乳化破乳后,部份滲透或形成薄膜。...
【真空鍍膜機(jī)之卷繞機(jī)構(gòu)設(shè)計(jì)中應(yīng)考慮的問題】①提高卷繞速度的問題。卷繞速度即是帶狀基材運(yùn)動的線速度,它是卷繞機(jī)構(gòu)的一個主要技術(shù)指櫟。國內(nèi)早期鍍膜機(jī)卷繞速度只有10m/min,現(xiàn)在也只有80m/min~120m/min,在國外日本的EW系列產(chǎn)品中,其卷繞速度已達(dá)到...
【真空鍍膜技術(shù)專業(yè)詞匯】真空鍍膜vacuum coating:在處于真空下的基片上制取膜層的一種方法。 基片substrate:膜層承受體。 試驗(yàn)基片testing substrate:在鍍膜開始、鍍膜過程中或鍍膜結(jié)束后用作測量和(或)試驗(yàn)的基片。 鍍膜材...
濺射鍍膜的形成是利用真空輝光放電,加速正離子使其轟擊靶材表面引起的濺射現(xiàn)象,使靶材表面放出的粒子沉積到基片上而形成薄膜。多弧離子鍍原理是利用真空弧光放電計(jì)數(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù),即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源(陰極),與陽極之間形成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點(diǎn)放出陰極...
【真空鍍膜產(chǎn)品常見不良分析及改善對策之膜外自霧】:現(xiàn)象:鍍膜完成后,表面有一些淡淡的白霧,用丙tong或混合液擦拭,會有越擦越嚴(yán)重的現(xiàn)象。用氧化鈰粉擦拭,可以擦掉或減輕??赡艹梢蛴校?.膜結(jié)構(gòu)問題,外層膜的柱狀結(jié)構(gòu)松散,外層膜太粗糙2.蒸發(fā)角過大,...
真空鍍膜機(jī)設(shè)備是一種高科技制造設(shè)備,利用真空技術(shù)將各種材料鍍在基材表面,可以制造出的電子產(chǎn)品和光學(xué)器件。這種設(shè)備是由真空室、加熱器、反應(yīng)室、電極等部分組成,通過不同的材料和工藝,可以制造出各種顏色和效果的產(chǎn)品。不僅如此,真空鍍膜機(jī)設(shè)備還可以應(yīng)用于汽車、建筑、航...
【為什么要在真空中鍍膜】:1.鍍的過程中不會受空氣分子碰撞,有較大的動量到達(dá)待鍍件表面2.防止氣體“污染”.如:鍍金屬膜時可以防止氧化3.成膜過程不受氣體影響,致密牢固4.真空(負(fù)壓)狀態(tài)下,鍍膜材料的熔點(diǎn)教常壓下低,易于融化蒸發(fā)(對于蒸發(fā)類型的鍍膜)真空鍍膜...
【真空鍍膜設(shè)備的分類】:這個問題如果在十年之前,其實(shí)是很容易回答的,就是兩個大類,物理沉積設(shè)備和化學(xué)沉積設(shè)備?,F(xiàn)在這樣回答也是沒錯的,但現(xiàn)在再這樣回答就沒辦法把事情說清楚了,所以從應(yīng)用領(lǐng)域上可以分成以下幾類:傳統(tǒng)光學(xué)器件(鏡片,濾光片)所用的鍍膜設(shè)備:單腔體或...
需要鍍膜的被稱為基片,鍍的材料被稱為靶材。基片與靶材同在真空腔中。蒸發(fā)鍍膜一般是加熱靶材使表面組分以原子團(tuán)或離子形式被蒸發(fā)出來。并且沉降在基片表面,通過成膜過程(散點(diǎn)-島狀結(jié)構(gòu)-迷走結(jié)構(gòu)-層狀生長)形成薄膜。對于濺射類鍍膜,可以簡單理解為利用電子或高能激光轟擊...
【真空鍍膜濺射種類】: 1、反應(yīng)濺射:氧化物,氮化物作為沉積物質(zhì) 現(xiàn)象:①:靶材分子分裂,其于工藝氣體離子發(fā)生反應(yīng),形成化合物 ②:膜層性能改變 ③:靶材有可能中毒 2、二極濺射:二極濺射是一種經(jīng)典的標(biāo)準(zhǔn)濺射技術(shù),其中等離子體和電子均只沿著電場方向運(yùn)動。 特征...
【真空鍍膜改善外層膜表面硬度】: 減反膜一般外層選用MgF2,該層剖面是較為松散的柱狀結(jié)構(gòu),表面硬度不高,容易擦拭出道子。改善外層表面硬度的方法包括: 1. 在膜系設(shè)計(jì)允許的條件下,膜外層加10nm左右的二氧化硅膜層,二氧化硅的表面光滑度優(yōu)于氟化鎂(但二氧化硅...
【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理:是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是,機(jī)械打磨,化學(xué)處理,表面熱處理,噴涂表面,表面處...
【常見的真空材料表面上的污染物類型】1、油脂:加工、裝配、操作時沾染上的潤滑劑、切削液、真空油脂等;2、酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗時的殘余物質(zhì)、手汗、水中的礦物質(zhì)等;3、表面氧化物:材料長期放置在空氣中或放置在潮濕空氣中所形成的表面氧化物;4、水基類:操作時的手汗...
【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】:光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。光波經(jīng)過薄...
【真空鍍膜設(shè)備設(shè)計(jì)原則及常用技術(shù)指標(biāo)】真空設(shè)備設(shè)計(jì)原則:(1)先功能,后結(jié)構(gòu)。先給出指標(biāo)參數(shù)、生產(chǎn)要求、功能;(2)先核xin后輔助。由內(nèi)向外。先決定靶尺寸、靶基距;(3)先局部,后整體。再由整體,定局部。(4)先設(shè)計(jì),后校核。由粗到細(xì)。鍍膜機(jī)常用技術(shù)指標(biāo):鍍...
【真空鍍膜之電解拋光】電拋光是一種電化學(xué)過程,其中浸沒在電解質(zhì)中的工件的原子轉(zhuǎn)化成離子,并由于電流的通過而從表面移除,從而達(dá)到工件表面除去細(xì)微毛刺和光亮度增da的效果。適用材料:1.da多數(shù)金屬都可以被電解拋光,其中常用于不銹鋼的表面拋光(尤其適用于奧氏體核級...
濺射鍍膜的形成是利用真空輝光放電,加速正離子使其轟擊靶材表面引起的濺射現(xiàn)象,使靶材表面放出的粒子沉積到基片上而形成薄膜。多弧離子鍍原理是利用真空弧光放電計(jì)數(shù)用于蒸發(fā)源的技術(shù),即在真空環(huán)境下引燃蒸發(fā)源(陰極),與陽極之間形成自持弧光放電,既從陰極弧光輝點(diǎn)放出陰極...
【真空鍍膜設(shè)備之渦輪分子泵】: 渦輪分子泵:渦輪分子泵是利用高速旋轉(zhuǎn)的動葉輪將動量傳給氣體分子,使氣體產(chǎn)生定向流動而抽氣的真空泵。主要用于高真空或超高真空,屬于干泵,極限真空10&7~10&8Torr,烘烤后可到10&10Torr,抽速可從50L/S~35...
【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場,在此區(qū)電子密度高,進(jìn)而提高離子密度,使得濺鍍率提高(一個數(shù)量級),濺射速度可達(dá)0.1—1um/min膜層附著力較蒸鍍佳,是目前實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù)濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝...
【真空鍍膜設(shè)備的維修及保養(yǎng)方法】1.真空鍍膜設(shè)備每完成200個鍍膜程序以上,應(yīng)清潔工作室一次。方法:用燒堿(NaOH)飽和溶液反復(fù)擦洗真空室內(nèi)壁,(注意人體皮膚不可以直接接觸燒堿溶液,以免灼傷)目的是使鍍上去的膜料鋁(AL)與NaOH發(fā)生反應(yīng),反應(yīng)后膜層脫落,...
【真空鍍膜之陽極氧化】陽極氧化:主要是鋁的陽極氧化,是利用電化學(xué)原理,在鋁和鋁合金的表面生成一層Al2O3(氧化鋁)膜。這層氧化膜具有防護(hù)性、裝飾性、絕緣性、耐磨性等特殊特性適用材料:鋁、鋁合金等鋁制品工藝成本:生產(chǎn)過程中,水、電的消耗是相當(dāng)da的,特別是在氧...
【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加熱.促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達(dá)到清洗的目的,這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件.促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)?..
【射頻離子源簡介】:國泰真空射頻離子源GTRF-17和GTRF-23,主要用于IR-Cut、濾光片等精密光學(xué)鍍膜的離子束輔助沉積和離子束清洗等,是公司技術(shù)團(tuán)隊(duì)全自主研發(fā)近3年時間研發(fā)出的國產(chǎn)射頻離子源,屬于國內(nèi)大直徑射頻離子源。打破了國外制造商長期對國產(chǎn)鍍膜行...