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【真空鍍膜機(jī)沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳?xì)浠衔镂廴?。通常對(duì)于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空...

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發(fā)的有機(jī)溶劑中，使之成為飽和溶液；然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面，這一過程中，為了提升效果、縮短浸泡時(shí)間，可以在抽真空或者加壓...

【真空鍍膜機(jī)電控柜的操作】1、玻璃真空鍍膜機(jī)開水泵、氣源2、開總電源3、開維持泵、真空計(jì)電源，真空計(jì)檔位置V1位置，等待其值小于10后，再進(jìn)入下一步操作。約需5分鐘。4、開機(jī)械泵、予抽，開渦輪分子泵電源、啟動(dòng)，真空計(jì)開關(guān)換到V2位置，抽到小于2為止，約需20分...

【光學(xué)鍍膜之CVD化學(xué)氣相沉積法反應(yīng)可以分為哪些步驟】 (1)不同成份氣相前置反應(yīng)物由主流氣體進(jìn)來，以擴(kuò)散機(jī)制傳輸基板表面。理想狀況下，前置物在基板上的濃度是零，亦即在基板上立刻反應(yīng)，實(shí)際上并非如此。 (2)前置反應(yīng)物吸附在基板上，此時(shí)仍容許該前置物在基板上進(jìn)...

【如何清洗光學(xué)鍍膜機(jī)】設(shè)備使用一個(gè)星期后，因鍍料除鍍?cè)诠ぜ砻嫱猓嘁驘o定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料，并越鍍?cè)胶瘢搶幽ず褚蚪M織、繞疏松，吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時(shí)，應(yīng)對(duì)工作室及襯板進(jìn)行清洗，如不必要拆落來的部件，可用砂紙打磨干凈，襯板可...

【光學(xué)薄膜理論基礎(chǔ)】： 光學(xué)薄膜基本上是借由干涉作用而達(dá)到效果的。是在光學(xué)元件上或獨(dú)li的基板上鍍一層或多層的介電質(zhì)膜或金屬膜或介電質(zhì)膜或介電質(zhì)膜與金屬膜組成的膜堆來改變廣播傳到的特性。因此波在薄膜中行進(jìn)才會(huì)發(fā)生投射、反射、吸收、散射、相位偏移等變化。 光波經(jīng)...

【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。入射一個(gè)離子所濺射出的原子個(gè)數(shù)稱為濺射產(chǎn)額(Yield)產(chǎn)額越高濺射速度越快，以Cu,Au,Ag等*高，Ti,Mo,Ta,W等*低。一般在0.1-1...

【光學(xué)薄膜的應(yīng)用前景】光電信息產(chǎn)業(yè)中*有發(fā)展前景的通訊、顯示和存儲(chǔ)三大類產(chǎn)品都離不開光學(xué)薄膜，如投影機(jī)、背投影電視機(jī)、數(shù)碼照相機(jī)、攝像機(jī)、DVD，以及光通訊中的DWDM、GFF濾光片等，光學(xué)薄膜的性能在很大程度上決定了這些產(chǎn)品的*終性能。光學(xué)薄膜正...

【真空鍍膜機(jī)沖洗工藝之反應(yīng)氣體沖洗】這種方法特別適用于da型超高不銹鋼真空系統(tǒng)的內(nèi)部洗(去除碳?xì)浠衔镂廴?。通常對(duì)于某些da型超高真空系統(tǒng)的真空室和真空元件，為了獲得原子態(tài)的清潔表面，消除其表面污染的標(biāo)準(zhǔn)方法是化學(xué)清洗，真空爐焙燒、輝光放電清洗及原能烘烤真空...

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙...

【光學(xué)鍍膜之反射膜】反射膜一般可分為兩類，一類是金屬反射膜，一類是全電介質(zhì)反射膜。此外，還有將兩者結(jié)合的金屬電介質(zhì)反射膜，功能是增加光學(xué)表面的反射率。 一般金屬都具有較大的消光系數(shù)。當(dāng)光束由空氣入射到金屬表面時(shí)，進(jìn)入金屬內(nèi)的光振幅迅速衰減，使得進(jìn)入金屬內(nèi)部的光...

【光學(xué)鍍膜機(jī)電子qiang打火問題】電子qiang在蒸鍍時(shí)，由于電子束中的電子與氣體分子和蒸發(fā)材料的蒸汽發(fā)生碰撞產(chǎn)生的離子轟擊帶負(fù)電高壓電極及其引線，即產(chǎn)生打火。另外，若這些帶負(fù)高壓電的部分有塵粒等雜物，會(huì)使該處電場(chǎng)集中了容易打火。故電子束蒸鍍?cè)O(shè)備...

光學(xué)鍍膜由薄膜層組合而成，它會(huì)產(chǎn)生干涉效應(yīng)來改變光學(xué)系統(tǒng)的透射或反射性能。光學(xué)鍍膜的性能取決于層數(shù)、每層的厚度和不同層之間的折射率。精密光學(xué)中常見鍍膜類型有：增透膜(AR)、高反射（鏡）膜、分光鏡膜和濾光片膜（短波通，長波通，陷波等）。增透膜適用于大多數(shù)折射光...

【光學(xué)鍍膜之鍍腱反射膜技術(shù)】有機(jī)鏡片鍍膜的難度要比玻璃鏡片高。玻璃材料能夠承受300°C以上的高溫，而有機(jī)鏡片在超過100°C時(shí)便會(huì)發(fā)黃，隨后很快分解?？梢杂糜诓ＡхR片的減反射膜材料通常采用氟化鎂（MgF2），但由于氟化鎂的鍍膜工藝必須在高于200...

二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R...

【光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)】光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)（一）定期更換擴(kuò)散泵油擴(kuò)散泵油使用一段時(shí)間，約二個(gè)月（兩班），因在長期高溫環(huán)境，雖然較高真空時(shí)才啟動(dòng)擴(kuò)散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng)，擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解，使其品質(zhì)下降，而延長抽氣時(shí)間...

【光學(xué)鍍膜在手機(jī)領(lǐng)域中的應(yīng)用】在手機(jī)領(lǐng)域中除了成像品質(zhì)外，鏡頭的透過率對(duì)提升圖像品質(zhì)起著非常重要的作用。目前手機(jī)行業(yè)通常采用樹脂作為鏡片基材，為了減少鏡片反射，提升透過率，我們會(huì)在鏡片表面鍍AR增透膜（減反膜），它是一種硬質(zhì)耐熱氧化膜，可在特定波長范圍內(nèi)將元器...

【光學(xué)鍍膜機(jī)維護(hù)與保養(yǎng)之光路的檢修與維護(hù)】光路調(diào)整的先決條件是：確保直流穩(wěn)定電源、調(diào)制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚儀及各專yong電纜的完好和正確接入。特別是光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚測(cè)量儀的接地點(diǎn)，必須單獨(dú)歸至主機(jī)接點(diǎn)牢固接地。 導(dǎo)磁板及...

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙...

二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說，在真空中把金屬、合金或化合物進(jìn)行蒸發(fā)或?yàn)R...

二、光路的檢修與維護(hù)光路調(diào)整的先決條件是：確保直流穩(wěn)定電源、調(diào)制光源頭、光纖、光柵單色儀、光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚儀及各**電纜的完好和正確接入。特別是光電轉(zhuǎn)換放大器、光學(xué)膜厚測(cè)量儀的接地點(diǎn)，必須單獨(dú)歸至主機(jī)接點(diǎn)牢固接地。三、光學(xué)鍍膜機(jī)的清洗設(shè)備使...

【光學(xué)鍍膜之良好的薄膜需要具備哪些特性】 通俗的定義為在正常狀況下，其應(yīng)用功能不會(huì)失效。想要達(dá)到這個(gè)目的，一般而言這層薄膜必須具有堅(jiān)牢的附著力、很低的內(nèi)應(yīng)力、針kong密度很少、夠強(qiáng)的機(jī)械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學(xué)侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成...

真空鍍膜和光學(xué)鍍膜有什么區(qū)別：一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))...

【光學(xué)鍍膜之良好的薄膜需要具備哪些特性】 通俗的定義為在正常狀況下，其應(yīng)用功能不會(huì)失效。想要達(dá)到這個(gè)目的，一般而言這層薄膜必須具有堅(jiān)牢的附著力、很低的內(nèi)應(yīng)力、針kong密度很少、夠強(qiáng)的機(jī)械性能、均勻的膜厚、以及足夠的抗化學(xué)侵蝕性。薄膜的特性主要受到沉積過程、成...

【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：鏡片的單面反射量 n：鏡片材料的折射率 例如普通樹脂材料的折射率為1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（...

【光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)】光學(xué)鍍膜機(jī)的保養(yǎng)（一）定期更換擴(kuò)散泵油擴(kuò)散泵油使用一段時(shí)間，約二個(gè)月（兩班），因在長期高溫環(huán)境，雖然較高真空時(shí)才啟動(dòng)擴(kuò)散泵，但仍殘留氧氣及其它成份使之與擴(kuò)散泵油起反應(yīng)，擴(kuò)散泵油在高溫下也可能產(chǎn)生裂解，使其品質(zhì)下降，而延長抽氣時(shí)間...

【光學(xué)濾光片之按光譜特性區(qū)分】：帶通濾光片、短波截止濾光片、長波截止濾光片。 帶通型濾光片：選定特定波段的光通過，通帶以外的光截止。其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長（CWL），半帶寬（FWHM)，中心波長透過率（Tp），截止度及截止范圍。按帶寬分為窄帶和寬帶，通常按帶...

【光學(xué)濾光片相關(guān)名詞解釋】 中心波長(CWL): 濾光片在實(shí)際應(yīng)用中所使用的波長,如光源主峰值是850nm led燈,那需求的中心波長就是850nm。 峰值透過率(TP): 假設(shè)光初始值為100%,通過濾光片后有部分損耗了,通過光譜測(cè)量得出只有85%了,那就可...

【光學(xué)鍍膜之減反射膜技術(shù)】1）鍍膜前準(zhǔn)備：鏡片在接受鍍膜前必須進(jìn)行分子級(jí)的預(yù)清洗。在清洗槽中分別放置各種清洗液，并采用超聲波加強(qiáng)清洗效果，當(dāng)鏡片清洗完后，放進(jìn)真空艙內(nèi)，在此過程中要特別注意避免空氣中的灰塵和垃圾再黏附在鏡片表面。*后的清洗是在真空艙...

【減反射膜的透過量】 反射光占入射光的百分比取決于鏡片材料的折射率，可通過反射量的公式進(jìn)行計(jì)算。 反射量公式：R＝（n-1)平方/(n+1)平方 R：鏡片的單面反射量 n：鏡片材料的折射率 例如普通樹脂材料的折射率為1.50，反射光R＝（1.50－1）平方/（...