【磁控濺射鍍膜設(shè)備工作原理】磁控濺射鍍膜設(shè)備的磁控濺射靶是采用靜止電磁場,而磁場是曲線型的,對數(shù)電場用于同軸圓柱形靶;均勻電場用于平面靶;S-qiang靶則位于兩者間.各部分的原理是一樣的. 電子受電場影響而加速飛向基材,在此過程中跟氬原子觸發(fā)碰撞.如果電子本...
【光學鏡片鍍膜的膜形核過程之單層生長模式(層狀生長)】單層上的形核生長模式(Stranki-Krastanov型),又稱作斯特朗斯基一克拉斯坦諾型,是層島混合模式。光學鏡片鍍膜按這種方式形成時,首先于基底上形成具有膺結(jié)構(gòu)的單層膜(層狀生長),接著于單層膜上生成...
【光學鍍膜的好處】光學鍍膜由薄的分層介質(zhì)構(gòu)成的,通過界面?zhèn)鞑ス馐囊活惞鈱W介質(zhì)材料。光學薄膜的應用始于20世紀30年代?,F(xiàn)代,光學薄膜已廣fan用于光學和光電子技術(shù)領(lǐng)域,制造各種光學儀器。 主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等...
【如何改善由于設(shè)計膜系導致的光譜特性不良】膜系設(shè)計時的膜厚、折射率允差太小,試制時的分光曲線在技術(shù)要求的邊緣,制造中稍有偏差就導致分光不良。膜系設(shè)計中選用膜料的折射率應與使用膜料使用機臺吻合。膜系設(shè)計盡量考慮厚度與折射率允差(各層的厚度及折射率允許偏差1%-2...
【光學薄膜的特點分類】主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等,它們在國民經(jīng)濟和**建設(shè)中得到廣fan的應用,獲得了科學技術(shù)工作者的日益重視.例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使...
【多層反射膜】在玻璃基板上交替重復地蒸鍍折射率較高的電介質(zhì)膜和折射率較低的電介質(zhì)膜時,可以得到反射率非常高的反射膜。高折射率和低折射率的分界面會產(chǎn)生很少的反射。由于每層的電介質(zhì)膜的厚度都調(diào)節(jié)為λ/4的光程(折射率n×膜厚d),在各層上反射的光線的相位相同,反射...
【如何清洗光學鍍膜機】設(shè)備使用一個星期后,因鍍料除鍍在工件表面外,亦因無定向性而工作室內(nèi)的襯板上鍍料,并越鍍越厚,該層膜厚因組織、繞疏松,吸收大量氣體而造成真空鍍膜設(shè)備抽氣越來越慢。此時,應對工作室及襯板進行清洗,如不必要拆落來的部件,可用砂紙打磨干凈,襯板可...
【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空磁控濺射法】磁控濺射法的生產(chǎn)方式包括間歇式和連續(xù)式生產(chǎn)法,其中連續(xù)式生產(chǎn)法又可分為水平和垂直連續(xù)式生產(chǎn)兩種。其中,水平連續(xù)式生產(chǎn)法是玻璃基片在水平輸送過程中完成全部加工工藝的生產(chǎn)方式,以具有3個濺射室的雙端機。 磁控濺射鍍膜的優(yōu)點...
【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之真空蒸鍍法】真空蒸發(fā)鍍膜法(簡稱真空蒸鍍法,Vacuum Evaporation) 是指在一定的真空條件下,利用高溫加熱蒸鍍材料(金屬合金或金屬氧化物)到一定溫度條件下, 使其原子或分子從表面汽化逸出,形成蒸汽流,并飛行濺射到玻璃基板表...
【鍍膜應用及常用光學薄膜】 高反射膜在現(xiàn)代應用很廣。激光器諧振腔的高反鏡就是在玻璃基片上鍍多層膜構(gòu)成的多膜系。利用增透和增反的原理制成的高反射率多層光學薄膜在激光器、激光陀螺和DWDM等都有著廣fan應用。 干涉濾光片利用多光束干涉原理制成的一種從白光中過濾近...
【鍍膜玻璃的主要產(chǎn)生法之化學沉積法】化學氣相沉積(chemical vapour deposition, CVD) 是把含有構(gòu)成薄膜元素的一種或幾種化合物或單質(zhì)氣體,供給基板,利用氣相反應,在基板表面上反應沉積出所需固體薄膜的工藝技術(shù),該技術(shù)已成為鍍膜玻璃生產(chǎn)...
【光學鍍膜設(shè)備是什么】光學鍍膜設(shè)備可鍍制層數(shù)較多的短波通、長波通、增透膜、反射膜、濾光膜、分光膜、帶通膜、介質(zhì)膜、高反膜、彩se反射膜等各種膜系,能夠?qū)崿F(xiàn)多層膜的膜系鍍膜,也能滿足如汽車反光玻璃、望遠鏡、眼鏡片、光學鏡頭、冷光杯等產(chǎn)品的鍍膜要求。配置不同的蒸發(fā)...
【入射光的反射定律】照射到任何表面的光遵守光的反射、折射定律。表面平整的物體(這里以可以透光的玻璃為例)放置在空氣中,有一束光照射前表面時,將在入射點O 發(fā)生反射和折射。普通玻璃的反射率在8%左右,存在著眩光刺眼和透射影象的清晰度低等問題,甚至造成環(huán)境的不協(xié)調(diào)...
【單層反射膜】線射入玻璃基板時,會產(chǎn)生4%左右的反射而造成透過率的損失。但是,通過在玻璃基板上蒸鍍比玻璃的折射率更低的電介質(zhì)膜,可以改變玻璃基板的反射率。 調(diào)節(jié)電介質(zhì)膜的厚度使其光程(折射率n×膜厚d)為λ/4時,可以相互抵消玻璃基板和電介質(zhì)膜,電介質(zhì)膜和空氣...
【光學薄膜的特點分類】主要的光學薄膜器件包括反射膜、減反射膜、偏振膜、干涉濾光片和分光鏡等等,它們在國民經(jīng)濟和**建設(shè)中得到廣fan的應用,獲得了科學技術(shù)工作者的日益重視.例如采用減反射膜后可使復雜的光學鏡頭的光通量損失成十倍的減小;采用高反射膜比的反射鏡可使...
【真空鍍膜的膜層結(jié)構(gòu)分布】基材:ABS、PC、ABS+PC、PP、PPMA、POM等樹脂類均可成型真空電鍍, 要求底材為純原料,電鍍級別更佳,不可加再生材; 底漆:UV底漆,對基材表面做預處理,為膜層的附著提供活性界面,底漆厚度一般在5-10um,特殊情況可酌...
【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為:基材、底漆、真空膜層、面漆,因靶材理化特性直接決定膜層的特性,根據(jù)膜層的導電與否,可分為導電真空鍍膜(VM)和不導電真空鍍膜(NCVM)兩種。 VM:一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RIN...
【真空鍍膜設(shè)備維修保養(yǎng)技術(shù)】一、當鍍膜設(shè)備工作完成到兩百個鍍膜的時候,拆出密封圈,及時清潔設(shè)備環(huán)境(室內(nèi)環(huán)境)。如何清潔保養(yǎng)?首先我們要使鍍上去的膜層掉落,同時釋放氫氣,清洗過程中要注意所使用到的溶液會灼傷人體的皮膚,所以通常我們要小心謹慎用堿飽和溶液不斷來回...
【光學鍍膜出現(xiàn)劃痕(膜傷)如何處理】劃痕是指膜面內(nèi)外有道子,膜內(nèi)的稱劃痕,膜外的稱膜傷。這也是鍍膜品質(zhì)改善中的一個頑癥,雖然很清楚產(chǎn)生的原因和改善方法但難以**。 產(chǎn)生原因: 膜內(nèi)的劃痕: 1.前工程外觀不良殘留,有些劃痕在鍍膜前不容易發(fā)現(xiàn),前工程檢驗和鍍前上...
【真空鍍膜機之真空泵的維護和保養(yǎng)】1、經(jīng)常檢查油位位置,不符合規(guī)定時須調(diào)整使之符合要求。以泵運轉(zhuǎn)時,油位到油標中心為準。2、經(jīng)常檢查油質(zhì)情況,發(fā)現(xiàn)油變質(zhì)應及時更換新油,確保泵工作正常。3、換油期限按實際使用條件和能否滿足性能要求等情況考慮,由用戶酌情決定。一般...
【真空鍍膜機之真空電鍍】真空電鍍是一種物理沉積現(xiàn)象。即在真空狀態(tài)下注入氬氣,氬氣撞擊靶材,靶材分離成分子被導電的貨品吸附形成一層均勻光滑的仿金屬表面層。 適用材料: 1、很多材料可以進行真空電鍍,包括金屬,軟硬塑料,復合材料,陶瓷和玻璃。其中*常見用于電鍍...
【光學鍍膜加工需要注意什么】當光線進入不同傳遞物質(zhì)時(如由空氣進入玻璃),大約有5%會被反射掉,在光學瞄準鏡中有許多透鏡和折射鏡,整個加起來可以讓入射光線損失到達30%至40%?,F(xiàn)代光學透鏡通常都鍍有單層或多層氟化鎂的增透膜,單層增透膜可使反射減少至1.5%,...
【不同類型鍍膜機應用范圍介紹】不同類型鍍膜機的適用范圍介紹 1. 磁控濺射鍍膜設(shè)備:應用于信息存儲領(lǐng)域,如磁信息存儲、磁光信息存儲等 2. 磁控濺射鍍膜機:應用于防護涂層,如飛機發(fā)動機的葉片、汽車鋼板、散熱片等 3. 磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線:應用于太陽能利用領(lǐng)...
【多層反射膜】在玻璃基板上交替重復地蒸鍍折射率較高的電介質(zhì)膜和折射率較低的電介質(zhì)膜時,可以得到反射率非常高的反射膜。高折射率和低折射率的分界面會產(chǎn)生很少的反射。由于每層的電介質(zhì)膜的厚度都調(diào)節(jié)為λ/4的光程(折射率n×膜厚d),在各層上反射的光線的相位相同,反射...
【光譜分光不良的補救處理】1.對于第(yi)種情況,比較好處理,只要確認前面鍍的沒錯,程序沒有用錯,就可以繼續(xù)原來的程序,要注意的是:如果某一層鍍了一部分繼續(xù)鍍下去時,交接處要減少一些膜厚(根據(jù)膜料、蒸發(fā)速率決定減少多少,一般是0.2-1nm左右),如果該層剩...
【磁控濺射鍍光學膜的技術(shù)路線】 (a)陶瓷靶濺射:靶材采用金屬化合物靶材,可以直接沉積各種氧化物或者氮化物,有時候為了得到更高的膜層純度,也需要通入一定量反應氣體); (b)反應濺射:靶材采用金屬或非金屬靶,通入稀有和反應氣體的混合氣體,進行濺射沉積各種化合物...
【真空鍍膜真空的基本概念】: 真空的劃分: 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空
【炫彩的搬運工——UV轉(zhuǎn)印技術(shù)】 在完成母模制作的基礎(chǔ)之上,在較硬承載板材聚碳酸酯PC、聚甲基丙烯酸甲酯PMMA上制作出可放入轉(zhuǎn)印設(shè)備上的復制模具,即可開始炫彩紋理的轉(zhuǎn)印工序。 工序流程如下: ---機臺上以玻璃或大理石材料為模座,模座上根據(jù)不同復制模具尺寸...
【薄膜干涉原理之光的波動性】19世紀60年代,美國物理學家麥克斯韋發(fā)展了電磁理論,指出光是一種電磁波,使波動說發(fā)展到了相當完美的地步。 由光的波粒二象性可知,光同無線電波、X射線、一樣都是電磁波,只是它們的頻率不同。電磁波的波長λ、頻率u和傳播速率V三者之間的...
【真空鍍膜機檢漏之氣壓檢漏】氣壓檢漏被檢零部件內(nèi)腔充以氣體(一般為空氣),充氣壓力的高低視零部件的強度而定,一般為(2~4)×105帕。充壓后的零部件如發(fā)出明顯的嘶嘶聲,音響源處就是漏孔位置。用這種方法可檢*小漏率為5帕·升/秒的漏孔。如不能用聲音直接察覺...