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【真空鍍膜機(jī)之鍍鋅工藝】在鋼鐵合金材料的表面鍍一層鋅以起美觀、防銹等作用的表面處理技術(shù)，表面的鋅層是一種電化學(xué)保護(hù)層，可以防止金屬腐壞，主要采用的方法是熱鍍鋅和電鍍鋅。 適用材料： 由于鍍鋅工藝依賴于冶金結(jié)合技術(shù)，所以只適合鋼和鐵的表面處理。 工藝成本：無模具費(fèi)用，周期短/人力成本中等，因?yàn)楣ぜ谋砻尜|(zhì)量很da程度上取決于鍍鋅前的人工表面處理。 環(huán)境影響：由于鍍鋅工藝增長了鋼鐵件40-100年的使用壽命，很好的防止了工件的生銹和腐壞，所以對保護(hù)壞境有積極的作用。另外，鍍過鋅的工件在使用壽命到期后，可以重新送返鍍鋅槽，對液態(tài)鋅的反復(fù)利用不會(huì)產(chǎn)生化學(xué)或物理廢料。 真空鍍膜機(jī)的操作培訓(xùn)。重慶南光真空...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】 常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示...

【不同類型鍍膜機(jī)應(yīng)用范圍介紹】不同類型鍍膜機(jī)的適用范圍介紹 1. 磁控濺射鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于信息存儲(chǔ)領(lǐng)域，如磁信息存儲(chǔ)、磁光信息存儲(chǔ)等 2. 磁控濺射鍍膜機(jī)：應(yīng)用于防護(hù)涂層，如飛機(jī)發(fā)動(dòng)機(jī)的葉片、汽車鋼板、散熱片等 3. 磁控濺射鍍Al膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于太陽能利用領(lǐng)域，如太陽能集熱管、太陽能電池等 4. AZO透明導(dǎo)電膜磁控濺射鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于信息顯示領(lǐng)域，如液晶屏、等離子屏等 5. 觸摸屏連續(xù)式鍍膜生產(chǎn)線：應(yīng)用于觸摸屏領(lǐng)域，如手機(jī)、電腦、MP4等數(shù)碼產(chǎn)品屏幕等。 6. 磁控中頻多弧離子鍍膜設(shè)備：應(yīng)用于硬質(zhì)涂層，如切削工具、模具和耐磨耐腐蝕零件等。 7. PECVD磁控生產(chǎn)線：應(yīng)用于集成電路制造，...

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。 VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。 NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導(dǎo)電，一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上，抽的速度會(huì)顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，...

【真空鍍膜機(jī)操作工藝流程】首先開水、電、氣→總電源→開維持泵→開擴(kuò)散泵加熱→開粗抽泵→開預(yù)抽閥→關(guān)預(yù)抽閥→開粗抽閥→開羅茨泵→如有離子轟擊，開轟擊30秒，關(guān)轟擊→開真空計(jì)→當(dāng)真空到6.0~7.0pa時(shí)，關(guān)粗抽閥→開前置閥→開精抽閥，當(dāng)真空達(dá)到7x10-3pa，開轉(zhuǎn)架→開始鍍膜操作→鍍膜完畢后，關(guān)閉真空計(jì)、離子源→關(guān)精抽閥，前置閥→關(guān)羅茨泵→開抽氣閥，取件→上料，反復(fù)開始操作。 特別注意： 1.設(shè)備停用時(shí)，鍍膜室要保持真空狀態(tài)，減少內(nèi)表面氣體的吸附，防止氧化。 2.冷卻水通道場下才能對擴(kuò)散泵進(jìn)行加熱，未經(jīng)充分冷卻的泵不得與da氣接觸，防止氧化。 3.要保證機(jī)器內(nèi)擴(kuò)散泵和機(jī)械泵的油定期檢查和更換。...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。 表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機(jī)械打磨，化學(xué)處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進(jìn)行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。 常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。 真空鍍膜機(jī)的應(yīng)用領(lǐng)域。河北真空鍍膜機(jī)廠家【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊的氣體解吸及...

【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成一層與基體的機(jī)械、物理和化學(xué)性能不同的表層的工藝方法。 表面處理的目的是滿足產(chǎn)品的耐蝕性、耐磨性、裝飾或其他特種功能要求。我們比較常用的表面處理方法是，機(jī)械打磨，化學(xué)處理，表面熱處理，噴涂表面，表面處理就是對工件表面進(jìn)行清潔、清掃、去毛刺、去油污、去氧化皮等。 常用表面處理的工藝有：真空電鍍、電鍍工藝、陽極氧化、電解拋光、移印工藝、鍍鋅工藝、粉末噴涂、水轉(zhuǎn)印、絲網(wǎng)印刷、電泳等。 真空鍍膜機(jī)廠家qian十。貴州學(xué)生實(shí)驗(yàn)真空鍍膜機(jī)【真空鍍膜機(jī)概述】： 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸...

【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉(zhuǎn)印的用途越來越廣fan。 適用材料： 所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。*常見的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無模具費(fèi)用，但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印，時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過10分鐘。 環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言，水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。 真空鍍膜機(jī)類型推薦。上海求購二手真空鍍膜機(jī)【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之放電清洗】利用熱絲或電極作為電子源，在其相對于待清洗的表面加負(fù)偏壓可以實(shí)現(xiàn)離子轟擊...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。 真空鍍膜機(jī)抽真空步驟。吉林真空鍍膜機(jī)常見問題與解決辦法【機(jī)械泵分類】機(jī)械泵有很多種，常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋...

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】 1、環(huán)境溫度：10~30℃ 2、相對濕度：不da于70% 3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃ 4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz； 6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。 7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。 此外，真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵...

【真空鍍膜設(shè)備的正常工作條件】 1、環(huán)境溫度：10~30℃ 2、相對濕度：不da于70% 3、冷卻水進(jìn)水溫度：不高于25℃ 4、冷卻水質(zhì)：城市自來水或質(zhì)量相當(dāng)?shù)乃?5、供電電壓：380V，三相50Hz或220V，單相50Hz（由所用電器需要而定），電壓波動(dòng)范圍342~399V或198V~231V，頻率波動(dòng)范圍49~51Hz； 6、設(shè)備所需的壓縮空氣、液氮、冷熱水等壓力、溫度、消耗量均應(yīng)在產(chǎn)品使用說明書上寫明。 7、設(shè)備周圍環(huán)境整潔、空氣清潔，不應(yīng)有可引起電器及其他金屬件表面腐蝕或引起金屬間導(dǎo)電的塵?；驓怏w存在。 此外，真空鍍膜設(shè)備所在實(shí)驗(yàn)室或車間應(yīng)保持清潔衛(wèi)生。地面為水磨石或木質(zhì)涂漆地面、無塵...

【真空鍍膜機(jī)有哪些污染源】真空鍍膜機(jī)是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經(jīng)過許多機(jī)械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因?yàn)橛辛诉@些工作，導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發(fā)，從而對設(shè)備的極限真空造成影響。 此外，這些機(jī)械加工帶來的真空污染物在da氣壓環(huán)境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態(tài)下，這些原先吸附的氣體也會(huì)被再次釋放出來，成為限制真空系統(tǒng)的極限真空的一da主要因素。 1、真空規(guī)管的燈絲在高溫條件下蒸發(fā)，將導(dǎo)致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對其絕緣強(qiáng)度有一定的損壞，對其測量的準(zhǔn)確...

【真空鍍膜機(jī)之輔助抽氣系統(tǒng)】真空腔各部分有連接閥，用來連接各抽氣泵浦。輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)的重要部分，主要有由機(jī)械泵、增壓泵(主要介紹羅茨泵)、油擴(kuò)散泵三da部分組成。此排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。排氣流程為：機(jī)械泵先將真空腔抽至小于2.0*10-2PA左右的低真空狀態(tài)，為擴(kuò)散泵后繼抽真空提供前提，之后當(dāng)擴(kuò)散泵抽真空腔的時(shí)候，機(jī)械泵又配合油擴(kuò)散泵組成串聯(lián)，以這樣的方式完成抽氣動(dòng)作。真空鍍膜機(jī)故障維修技巧有哪些？山東卷繞式真空鍍膜機(jī)【濺鍍工藝的原理】以幾十電子伏特或更高動(dòng)能的荷電粒子轟擊材料表面，使其濺射出進(jìn)入氣相，可用來刻蝕和鍍膜。...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】 常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示...

【真空鍍膜之水轉(zhuǎn)印】水轉(zhuǎn)印是利用水壓將轉(zhuǎn)印紙上的彩色紋樣印刷在三維產(chǎn)品表面的一種方式。隨著人們對產(chǎn)品包裝與表面裝飾要求的提高，水轉(zhuǎn)印的用途越來越廣fan。 適用材料： 所有的硬材料都適合水轉(zhuǎn)印，適合噴涂的材料也一定適用于水轉(zhuǎn)印。*常見的為注塑件和金屬件。 工藝成本:無模具費(fèi)用，但需要利用夾具將多件產(chǎn)品同時(shí)進(jìn)行水轉(zhuǎn)印，時(shí)間成本一般每周期不會(huì)超過10分鐘。 環(huán)境影響:和產(chǎn)品噴涂比較而言，水轉(zhuǎn)印更充分的應(yīng)用了印刷涂料，減少了廢料泄漏和材料浪費(fèi)的可能。 關(guān)于真空鍍膜機(jī)，你知道多少？湖南真空鍍膜機(jī)多少錢一臺(tái)【真空鍍膜機(jī)清洗工藝要求】真空工藝進(jìn)行前應(yīng)清洗真空材料，從工件或系統(tǒng)材料表面qing除污染物；...

【真空鍍膜機(jī)概述】： 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括很多種類，包括真空電阻加熱蒸發(fā)，電子搶加熱蒸發(fā)，磁控濺射，MBE分子束外延，PLD激光濺射沉積，離子束濺射等很多種。主要思路是分成蒸發(fā)和濺射兩種。 真空鍍膜機(jī)構(gòu)造的五da系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)、控制系統(tǒng)、蒸鍍系統(tǒng)、監(jiān)控系統(tǒng)、輔助系統(tǒng)。 真空鍍膜三要素：真空度、抽氣時(shí)間、溫度；任何鍍膜工藝都需要為這三個(gè)要素設(shè)定目標(biāo)值；因此，只有當(dāng)三個(gè)條件同時(shí)滿足時(shí)，自動(dòng)化程序才會(huì)自動(dòng)運(yùn)行。 真空鍍膜機(jī)需要做定期定期保養(yǎng)，目的在于：讓鍍膜機(jī)能長時(shí)間地正常運(yùn)轉(zhuǎn)；降低故障時(shí)間，避免影響產(chǎn)能，減少損失；提高機(jī)器精度，穩(wěn)定品質(zhì)；加快抽氣速度，提升機(jī)器...

【真空鍍膜機(jī)鍍塑料件時(shí)抽真空時(shí)間過長是什么原因？】 (1) 真空室有漏氣現(xiàn)象：da家都知道，真空蒸發(fā)鍍膜機(jī)是的基本條件是工件在真空狀態(tài)下才能進(jìn)行鍍膜加工的，若真空室有漏氣現(xiàn)象而沒有經(jīng)過檢漏找出漏氣位置，則真空鍍很長時(shí)間都不能抽得上來的；(2)即使真空室沒有漏氣，因?yàn)樗芰袭a(chǎn)品的放氣量da，所以抽真空，特別是高真空很難達(dá)到。真空室內(nèi)太臟放氣，而且由于塑料產(chǎn)品的放氣，造成真空室內(nèi)鍍膜氣體的不純，有雜氣的存在，造成鍍膜產(chǎn)品的顏色發(fā)暗，發(fā)黃，發(fā)黑等。 （3）也許是真空機(jī)組的抽氣能力不夠了，油被污染或氧化了。 （4）真空室有漏水。 （5）抽空管道有漏氣。 真空鍍膜機(jī)的相關(guān)資料。廣西二手卷繞式真空鍍膜機(jī)【機(jī)...

【真空鍍膜機(jī)之卷繞式鍍膜機(jī)】鍍膜產(chǎn)品廣fan用于裝飾、包裝、電容器等領(lǐng)域中，可鍍光學(xué)、電學(xué)、電磁、導(dǎo)電等多種薄膜。所用基材有PE、PET、PI、PP、OPP、BOPP、紙、泡沫塑料及布等。一般塑料基薄膜材料含水量為1%～2%，紙含水量更da，一般為5%-7%，經(jīng)涂布烘干后，含水量仍有3%。由于基材含水量高，故鍍膜室由初始的單室發(fā)展到目前雙室或多室結(jié)構(gòu)。蒸發(fā)源可以是電阻式、感應(yīng)式、電子柬式以及磁控濺射式。雙室結(jié)構(gòu)應(yīng)用普遍，其優(yōu)點(diǎn)是：①可以蒸鍍放氣量較da的紙基材，并能保障鍍膜質(zhì)量。紙放出的da量氣體從卷繞室中被排走。由于卷繞室與蒸鍍室之間隔板窄縫很小，使放出來的氣體不易進(jìn)入蒸鍍室中；②單室結(jié)構(gòu)必...

【機(jī)械泵分類】機(jī)械泵有很多種，常用的有滑閥式、活塞往復(fù)式、定片式和旋片式四種類型。 機(jī)械泵是從da氣開始工作的，它的主要參數(shù)有極限真空，抽氣速率，此為設(shè)計(jì)與選用機(jī)械泵的重要依據(jù)。單級(jí)泵可以將容器從da氣抽到1.0*10-1PA的極限真空，雙級(jí)機(jī)械泵可以將容器從da氣抽到6.7*10-2帕，甚至更高。抽氣速率，是指旋片泵按額定轉(zhuǎn)數(shù)運(yùn)轉(zhuǎn)時(shí)，單位時(shí)間內(nèi)所能排出氣體的體積，可以用下公式計(jì)算：Sth=2nVs=2nfsL fs表示吸氣結(jié)束時(shí)空腔截面積，L表示空腔長度，系數(shù)表示轉(zhuǎn)子每旋轉(zhuǎn)一周有兩次排氣過程，Vs表示當(dāng)轉(zhuǎn)子處于水平位置的時(shí)候，吸氣結(jié)束，此時(shí)空腔內(nèi)的體積*da，轉(zhuǎn)速為n。機(jī)械泵排氣的效果還...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之紫外線輻照清洗】 利用紫外輻照來分解表面上的碳?xì)浠衔?。例如，在空氣中照?5h就可產(chǎn)生清潔的玻璃表面。如果把適當(dāng)預(yù)清洗的表面放在一個(gè)產(chǎn)生臭氧的紫外線源中．要不了幾分鐘就可以形成清潔表面（工藝清潔)。這表明臭氧的存在增加了清潔速率。其清洗機(jī)理是：在紫外線照射下，污物分子受激并離解，而臭氧的生成和存在產(chǎn)生高活性的原子態(tài)氧。受激的污物分子和由污物離解產(chǎn)生的自由基與原子態(tài)氧作用．形成較簡單易揮發(fā)分子．如H203、CO2和N2．其反應(yīng)速率隨溫度的增加而增加。 國產(chǎn)真空鍍膜機(jī)廠商推薦。湖北玻璃真空鍍膜機(jī)【真空鍍膜機(jī)概述】： 真空鍍膜機(jī)主要指一類需要在較高真空度下進(jìn)行的鍍膜，具體包括...

【真空鍍膜機(jī)常見故障之旋片泵故障及處理方法】 1、未做保養(yǎng)導(dǎo)致灰塵太多。真空鍍膜設(shè)備在鍍膜過程中容易產(chǎn)生da量灰塵，這些灰塵伴隨空氣容易混雜到泵油中，時(shí)間久了容易對轉(zhuǎn)子及泵腔造成磨損及破壞。 處理方法：如果灰塵不多，可以油過濾系統(tǒng)除掉灰塵；如果灰塵過多可以用除塵器配合油過濾系統(tǒng)除掉灰塵。 2、旋片式真空泵冒煙和噴油：指旋片式真空泵在運(yùn)轉(zhuǎn)中排氣口冒煙或者噴油，冒煙。處理方法：冒煙闡明泵的進(jìn)氣口外，包括管道、閥門、容器有修理的狀況。 3、噴油，闡明進(jìn)氣口外有da量的漏點(diǎn)，以至是進(jìn)氣口暴露da氣。處理方法：封住泵的進(jìn)氣口使泵運(yùn)轉(zhuǎn)，假如不噴油的話，闡明有漏點(diǎn)；排氣閥片損壞，檢查排氣閥片能否損壞，改換壞...

【真空鍍膜之磁控濺射】在陰極靶表面形成一正交電磁場，在此區(qū)電子密度高，進(jìn)而提高離子密度，使得濺鍍率提高(一個(gè)數(shù)量級(jí))，濺射速度可達(dá)0.1—1 um/min膜層附著力較蒸鍍佳，是目前*實(shí)用的鍍膜技術(shù)之一。其它有偏壓濺射、反應(yīng)濺射、離子束濺射等鍍膜技術(shù) 濺鍍機(jī)設(shè)備與工藝濺鍍機(jī)由真空室，排氣系統(tǒng)，濺射源和控制系統(tǒng)組成。濺射源又分為電源和濺射qiang（sputter gun）。磁控濺射qiang分為平面型和圓柱型，其中平面型分為矩型和圓型，靶材料利用率30- 40%，圓柱型靶材料利用率>50% 濺射電源分為：直流（DC）、射頻（RF）、脈沖（pulse）， 直流：800-1000V（Max）導(dǎo)體...

【如何減少真空鍍膜的灰塵】1、使用的源材料要符合必要的純度要求。2、樣品取出后放置環(huán)境要注意清潔的問題。3、鍍膜一段時(shí)間后，真空室內(nèi)壁必須要清潔處理。4、清洗襯底材料，必須要做到嚴(yán)格合乎工藝要求。5、工作人員有專門的服裝，操作要戴手套、腳套等。6、適當(dāng)?shù)脑黾迎h(huán)境的濕度，有利于降低周圍環(huán)境的懸浮固體顆粒物。7、技術(shù)上明確允許的*da顆粒尺寸和單位面積顆粒物的數(shù)量的上限da致是多少。8、室內(nèi)空氣流動(dòng)性低、地面干凈，如果是裸露的水泥地，需要覆蓋處理。墻壁、屋頂不能使用一般的灰質(zhì)涂料粉刷。真空鍍膜機(jī)詳細(xì)鍍膜方法。廣東真空鍍膜機(jī)的工作原理【真空鍍膜之材料表面處理】表面處理：是在基體材料表面上人工形成...

【真空鍍膜機(jī)清洗工藝之真空加熱清洗】 將工件放置于常壓或真空中加熱．促使其表面上的揮發(fā)雜質(zhì)蒸發(fā)來達(dá)到清洗的目的，這種方法的清洗效果與工件的環(huán)境壓力、在真空中保留時(shí)間的長短、加熱溫度、污染物的類型及工件材料有關(guān)。其原理是加熱工件．促使其表面吸附的水分子和各種碳?xì)浠衔锓肿拥慕馕饔迷鰪?qiáng)。解吸增強(qiáng)的程度與溫度有關(guān)。在超高真空下，為了得到原子級(jí)清潔表面，加熱溫度必高于450度才行．加熱清洗方法特別有效。但有時(shí)，這種處理方法也會(huì)產(chǎn)生副作用。由于加熱的結(jié)果，可能發(fā)生某些碳?xì)浠衔锞酆铣奢^da的團(tuán)粒，并同時(shí)分解成碳渣。 真空鍍膜機(jī)的產(chǎn)業(yè)集群。江蘇配分子泵的真空鍍膜機(jī)【真空鍍膜機(jī)清洗工藝要求】真空工藝進(jìn)行前...

【真空鍍膜機(jī)真空系統(tǒng)檢漏法之真空計(jì)檢漏法】 常用的真空計(jì)檢漏法主要是熱傳導(dǎo)真空計(jì)法與電離真空計(jì)法。以熱傳導(dǎo)真空計(jì)法為例，它是利用低壓下不同氣體種類的熱傳導(dǎo)能力差異與壓力的關(guān)系來分析真空系統(tǒng)泄漏情況。使用時(shí)，要保證被檢系統(tǒng)處于一個(gè)壓力不變的動(dòng)態(tài)平衡狀態(tài)，將示漏氣體噴吹于可疑處（也可能用有機(jī)溶劑涂抹，但易吸附、堵塞漏孔，并造成污染）。一旦有漏孔存在，示漏氣體會(huì)通過漏孔進(jìn)入被檢系統(tǒng)，因?yàn)槭韭怏w的熱傳導(dǎo)能力與原系統(tǒng)的氣體成分差異da，會(huì)引起明顯的熱傳導(dǎo)性質(zhì)變化，熱傳導(dǎo)真空計(jì)的儀表讀數(shù)在原有的平衡基礎(chǔ)上就會(huì)發(fā)生波動(dòng)變化，根據(jù)這些確定漏孔位置并根據(jù)讀數(shù)變化換算漏率da小。相應(yīng)地，電離真空計(jì)法利用的即是示...

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法普及之熒光檢漏法】 熒光檢漏法首先需要將熒光材料溶于如丙tong等一些浸潤性能好、易于揮發(fā)的有機(jī)溶劑中，使之成為飽和溶液；然后將被檢的真空部件外表面浸泡到溶液中或涂抹到部件表面，這一過程中，為了提升效果、縮短浸泡時(shí)間，可以在抽真空或者加壓條件下對其進(jìn)行浸泡。如果存在漏孔，熒光劑溶液會(huì)因毛細(xì)作用滲入到其中；qing除表面多余的溶液，待有機(jī)溶劑揮發(fā)后，熒光材料便會(huì)在漏孔中殘留下來；此時(shí)再用紫外線燈光照射，漏孔位置就會(huì)觀察到明顯的熒光點(diǎn)。 在進(jìn)行紫外光源照射時(shí)，對于一些存在盲孔、表面不平的器件，可能也會(huì)存在殘留熒光材料，因此玻璃真空器件*好在背面進(jìn)行照射觀察；為了提高對比...

【真空鍍膜真空的基本概念】： 真空的劃分： 粗真空 760Torr~10E&3Torr 高真空 10E&4Torr~10E&8Torr 超高真空 10E&9~10E&12 Torr 極高真空

【真空鍍膜機(jī)真空檢漏方法之靜態(tài)升壓法】 靜態(tài)升壓法屬于真空檢漏法中的一種，也是*簡單易行的真空系統(tǒng)檢漏方法，因?yàn)樗恍枰妙~外特殊的儀器或者特殊物質(zhì)，通過測量規(guī)管就可以檢測真空系統(tǒng)的總漏率，從而確定真空系統(tǒng)或部件是否滿足工作要求。雖然勝在簡單，但也存在局限。如果真空系統(tǒng)或容器存在漏孔的話，靜態(tài)升壓法是無法確定漏孔所在的。因此在確定系統(tǒng)是否有漏孔的同時(shí)還需要確定其位置的話，就需要配合其他方法來進(jìn)行了。 靜態(tài)升壓法的操作只要將被檢容器抽空至相應(yīng)的壓力范圍，再關(guān)閉閥門，隔離真空泵與真空容器，然后用真空計(jì)測量記錄真空容器中壓力隨時(shí)間的變化過程，即可得出泄漏數(shù)據(jù)。《真空系統(tǒng)抽氣達(dá)不到工作壓力有哪些原...

【真空鍍膜的分類】真空鍍膜的鍍層結(jié)構(gòu)一般為：基材、底漆、真空膜層、面漆，因靶材理化特性直接決定膜層的特性，根據(jù)膜層的導(dǎo)電與否，可分為導(dǎo)電真空鍍膜（VM）和不導(dǎo)電真空鍍膜（NCVM）兩種。 VM：一般用在化妝品類、NB類、3C類、汽配類按鍵、裝飾框、按鍵RING類飾品的表面處理，其表面效果與水電鍍相媲美，靶材一般為鋁、銅、錫、金、銀等。 NCVM：具有金屬質(zhì)感、透明，但不導(dǎo)電，一般用在通訊類、3C類對抗擾要較高的機(jī)殼、裝飾框、按鍵件、RING類飾品的表面處理，其表面效果為水電鍍不可取代，靶材一般為銦、銦錫。三、擴(kuò)散泵連續(xù)使用6個(gè)月以上，抽的速度會(huì)顯然變慢，當(dāng)操作不當(dāng)應(yīng)拆去聯(lián)結(jié)水管，卸下電爐盤，...

【真空鍍膜機(jī)有哪些污染源】真空鍍膜機(jī)是由許多精密的零部件所組成的，這些零部件均經(jīng)過許多機(jī)械加工流程而制作出來，如焊接、磨、車、刨、鏜、銑等工序。正因?yàn)橛辛诉@些工作，導(dǎo)致設(shè)備零部件表面不可避免地會(huì)沾染一些加工帶來的油脂、油垢、金屬屑、焊劑、拋光膏、汗痕等污染物。這些污染物在真空條件下易揮發(fā)，從而對設(shè)備的極限真空造成影響。 此外，這些機(jī)械加工帶來的真空污染物在da氣壓環(huán)境中吸附da量的氣體，而到了真空狀態(tài)下，這些原先吸附的氣體也會(huì)被再次釋放出來，成為限制真空系統(tǒng)的極限真空的一da主要因素。 1、真空規(guī)管的燈絲在高溫條件下蒸發(fā)，將導(dǎo)致陶瓷絕緣子上形成一層薄膜，對其絕緣強(qiáng)度有一定的損壞，對其測量的準(zhǔn)確...