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真空鍍膜設(shè)備的蒸發(fā)源選取原則是什么呢？這是我們關(guān)注的一個(gè)問(wèn)題，下面真空鍍膜設(shè)備廠家分析蒸發(fā)源選取原則。1.有良好的熱穩(wěn)定性，化學(xué)性質(zhì)不活潑，達(dá)到蒸發(fā)溫度時(shí)加熱器本身的蒸汽壓要足夠底。2.蒸發(fā)源的熔點(diǎn)要高于被蒸發(fā)物的蒸發(fā)溫度。加熱器要有足夠大的熱容量。3.蒸發(fā)物質(zhì)和蒸發(fā)源材料的互熔性必須很底，不易形成合金。4.要求線圈狀蒸發(fā)源所用材料能與蒸發(fā)材料有良好的浸潤(rùn)，有較大的表面張力。5.對(duì)于不易制成絲狀、或蒸發(fā)材料與絲狀蒸發(fā)源的表面張力較小時(shí)，可采用舟狀蒸發(fā)源。上海專(zhuān)業(yè)卷繞鍍膜機(jī)供應(yīng)商！自動(dòng)化卷繞鍍膜機(jī)原理以滿(mǎn)足不同的需要.為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱(chēng)為增...

鍍膜玻璃，顧名思義，就是一種表面涂鍍薄膜的玻璃。它的應(yīng)用十分***，大到建筑物玻璃幕墻，小到液晶顯示屏等都可采用。那么，什么是鍍膜玻璃呢？鍍膜玻璃原理是什么呢？鍍膜玻璃一平方多少錢(qián)？接下來(lái)就讓小編來(lái)為大家介紹鍍膜玻璃的相關(guān)知識(shí)吧。什么是鍍膜玻璃鍍膜玻璃也稱(chēng)反射玻璃，是一種表面涂鍍薄膜的玻璃，可鍍一層或多層薄膜，鍍膜可為金屬、合金或金屬化合物。鍍膜可以改變玻璃的光學(xué)性能，滿(mǎn)足某種特定要求。鍍膜玻璃根據(jù)產(chǎn)品的不同特性，一般可以分為導(dǎo)電膜玻璃、低輻射玻璃、熱反射玻璃等幾類(lèi)。1、導(dǎo)電膜玻璃是在玻璃表面涂敷氧化銦錫等導(dǎo)電的一種薄膜，它在現(xiàn)***活中被***地用于液晶顯示器即LCD、太陽(yáng)能電池、微電子IT...

通常對(duì)蒸發(fā)源應(yīng)考慮蒸發(fā)源的材料和形狀,一般對(duì)蒸發(fā)源材料的要求是:1.熔點(diǎn)高因?yàn)檎舭l(fā)材料的蒸發(fā)溫度(平衡蒸汽壓為)多數(shù)在1000~2000℃之間,因此,蒸發(fā)源材料的熔點(diǎn)應(yīng)高于此溫度.2.平衡蒸汽壓低主要是防止或減少高溫下蒸發(fā)源材料隨蒸發(fā)材料蒸發(fā)而成為雜質(zhì),進(jìn)入蒸鍍膜層中.只有在蒸發(fā)源材料的平衡氣壓足夠低時(shí),才能保證在蒸發(fā)時(shí)具有**小的自蒸發(fā)量,才不致影響系統(tǒng)真空度和污染膜層,為了使蒸發(fā)源材料所蒸發(fā)的數(shù)量非常少,在選擇蒸發(fā)溫度、蒸發(fā)源材料時(shí),應(yīng)使材料的蒸發(fā)溫度低于蒸發(fā)源材料,在平衡氣壓為×10-6Pa時(shí)的制備高質(zhì)量的薄膜可采用與×10-3Pa所對(duì)應(yīng)的溫度.3.化學(xué)性能穩(wěn)定在高溫下不應(yīng)與蒸發(fā)材料發(fā)生...

真空鍍膜機(jī)原理真空鍍膜機(jī)是目前制作真空條件應(yīng)用很多的真空設(shè)備，一般用真空室、真空機(jī)組、電氣控制柜三大部分組成，排氣系統(tǒng)采用“擴(kuò)散泵+機(jī)械泵+羅茨泵+低溫冷阱+polycold”組成。本公司專(zhuān)業(yè)從事真空鍍膜設(shè)備的研發(fā)與生產(chǎn)擁有經(jīng)驗(yàn)豐富的技術(shù)團(tuán)隊(duì)及售后服務(wù)隊(duì)伍為您解決設(shè)備在使用過(guò)程中遇到的任何問(wèn)題。下面，詳細(xì)介紹真空鍍膜機(jī)的各部分組成及其工作原理。一、真空主體——真空腔根據(jù)加工產(chǎn)品要求的各異，真空腔的大小也不一樣，目前應(yīng)用多的有直徑、、、,腔體由不銹鋼“target=_blank>不銹鋼材料制作，要求不生銹、堅(jiān)實(shí)等，真空腔各部分有連接閥，用來(lái)連接各抽氣泵浦。二、輔助抽氣系統(tǒng)：排氣系統(tǒng)為鍍膜機(jī)真空系...

可靈活變化可搭載各種陰極（DC,UBM,DMS，旋轉(zhuǎn)磁石）前處理機(jī)能（改善密著性）2.面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)（W50/60S系列）面向量產(chǎn)的磁控濺射卷繞鍍膜機(jī)維護(hù)性基膜寬：1,300mm、1,600mm（～2,000mm）磁控濺射區(qū)數(shù)：1鍍膜滾筒4個(gè)區(qū)，分割區(qū)域排氣充實(shí)的脫氣機(jī)能應(yīng)用例1.透明導(dǎo)電膜（ITO，ZnO等）1）高抵抗ITO膜：面向觸摸屏100~300Ωsq.高方阻ITO的高穩(wěn)定性95℃，1000Hr試驗(yàn)同時(shí)具備柔性和低方阻的高穩(wěn)定性（經(jīng)時(shí)變化?。┑姆蔷з|(zhì)ITO膜的鍍膜2）低方阻ITO膜：液晶，有機(jī)EL10Ωsq.以下低溫鍍膜所形成的優(yōu)越的方阻率（UBM/BM比較）BM：通常的...

限制夏季室外的二次熱輻射進(jìn)入室內(nèi)，南方、北方都適用。因其具有豐富的裝飾效果和室外視線遮陽(yáng)作用，適用于各類(lèi)建筑物。雙銀LowE玻璃雙銀LowE玻璃突出了玻璃對(duì)太陽(yáng)熱輻射的遮陽(yáng)效果，將玻璃的高透光性與太陽(yáng)熱輻射的低透過(guò)性巧妙地結(jié)合在一起，有較高的可見(jiàn)光透過(guò)率，可有效地限制夏季室外的背景熱輻射進(jìn)入室內(nèi)。相關(guān)概念鏡頭鏡頭在影視中有兩指，一指電影攝影機(jī)、放映機(jī)用以生成影像的光學(xué)部件，由多片透鏡組成。各種不同的鏡頭，各有不同的造型特點(diǎn)，它們?cè)跀z影造型上的應(yīng)用，構(gòu)成光學(xué)表現(xiàn)手段；二指從開(kāi)機(jī)到關(guān)機(jī)所拍攝下來(lái)的一段連續(xù)的畫(huà)面，或兩個(gè)剪接點(diǎn)之間的片段，也叫一個(gè)鐿頭。一指和二指，是兩個(gè)完全不同的概念，為了區(qū)別兩者的...

近年來(lái)各種防曬玻璃、自潔玻璃、保溫隔熱玻璃、防輻射玻璃等等漸漸進(jìn)入消費(fèi)者的視線。其實(shí)這些產(chǎn)品也沒(méi)有這么神秘，這些有特異功能的玻璃都是經(jīng)過(guò)鍍膜工藝鍍上去的，鍍膜的方式也有很多種，有的玻璃在出廠前就已經(jīng)經(jīng)過(guò)鍍膜，有的是后期通過(guò)玻璃鍍膜液涂上去的，都能達(dá)到很好的效果。鍍膜玻璃，借用百度百科的介紹就是：鍍膜玻璃（Coatedglass）也稱(chēng)反射玻璃。鍍膜玻璃是在玻璃表面涂鍍一層或多層金屬、合金或金屬化合物薄膜，以改變玻璃的光學(xué)性能，滿(mǎn)足某種特定要求。鍍膜玻璃按產(chǎn)品的不同特性，可分為以下幾類(lèi)：熱反射玻璃、低輻射玻璃（Low-E）、導(dǎo)電膜玻璃等。那么用在門(mén)窗上的鍍膜玻璃，主要是采用國(guó)際先進(jìn)的磁控真空濺射技...

本文從系統(tǒng)結(jié)構(gòu)、參數(shù)控制和鍍膜方式等綜述了真空卷繞鍍膜技術(shù)研究進(jìn)展。按結(jié)構(gòu)可分為單室、雙室和多室真空卷繞系統(tǒng)，后兩者可解決開(kāi)卷放氣問(wèn)題并分別控制卷繞和鍍膜室各自真空度。卷繞張力控制分錐度、間接和直接控制模型，錐度控制模型可解決薄膜褶皺和徑向力分布不均的問(wèn)題；間接張力控制無(wú)需傳感器，可用內(nèi)置張力控制模塊的矢量變頻器代替；直接張力控制通過(guò)張力傳感器精確測(cè)量張力值，但需慣性矩和角速度等多種參數(shù)。真空卷繞鍍膜主要有真空蒸發(fā)、磁控濺射等方式，可用于制備新型高折射率薄膜、石墨烯等納米材料和柔性太陽(yáng)能電池等半導(dǎo)體器件。針對(duì)真空卷繞鍍膜技術(shù)研究現(xiàn)狀及向產(chǎn)業(yè)化過(guò)渡存在的問(wèn)題，作了簡(jiǎn)要分析與展望。真空卷繞鍍膜(卷...

通帶以外的光截止，其光學(xué)指標(biāo)主要是中心波長(zhǎng)（CWL），半帶寬（FWHM)，分為窄帶和寬帶，比如窄帶濾光片短波通型(又叫低波通)：短于選定波長(zhǎng)的光通過(guò)，長(zhǎng)于該波長(zhǎng)的光截止，比如紅外截止濾光片長(zhǎng)波通型(又叫高波通)：長(zhǎng)于選定波長(zhǎng)的光通過(guò)，短于該波長(zhǎng)的光截止，比如紅外透過(guò)濾光片四、IR-CUT雙濾光片的使用可以有效解決雙峰濾光片產(chǎn)生問(wèn)題，IR-CUT雙濾光片由一個(gè)紅外截止濾光片和一個(gè)全光譜光學(xué)玻璃構(gòu)成，當(dāng)白天的光線充分時(shí)紅外截止濾光片工作，CCD還原出真實(shí)彩色，當(dāng)夜間光線不足時(shí)，紅外截止濾光片自動(dòng)移開(kāi)，全光譜光學(xué)玻璃開(kāi)始工作，使CCD充分利用到所有光線，從而**提高了低照性能，IRCUT雙濾光片專(zhuān)為...

離子源（英文名稱(chēng)：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類(lèi)型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對(duì)氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過(guò)程都能產(chǎn)生離子，并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途，已研制出多種類(lèi)型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過(guò)程為基礎(chǔ)的,常被籠統(tǒng)地稱(chēng)為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來(lái)產(chǎn)生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現(xiàn)，使...

操作規(guī)程1．在真空鍍膜機(jī)運(yùn)轉(zhuǎn)正常情況下，開(kāi)動(dòng)真空鍍膜機(jī)時(shí)。必須先開(kāi)水管，工作中應(yīng)隨時(shí)注意水壓。2．在離子轟擊和蒸發(fā)時(shí)，應(yīng)特別注意高壓電線接頭，不得觸動(dòng)，以防觸電。3．在用電子鍍膜時(shí)，應(yīng)在鐘罩上鋁板。觀察窗的玻璃好用鉛玻璃，觀察時(shí)應(yīng)戴上鉛玻璃眼鏡，以防X射線侵害人體。4．鍍制多層介質(zhì)膜的鍍膜間，應(yīng)安裝通風(fēng)吸塵裝置，及時(shí)排除有害粉塵。5．易燃有毒物品要妥善保管，以防失火中毒。6．酸洗夾具應(yīng)在通風(fēng)裝置內(nèi)進(jìn)行，并要戴橡皮手套。7．把零件放入酸洗或堿洗槽中時(shí)，應(yīng)輕拿輕放，不得碰撞及濺出。平時(shí)酸洗槽盆應(yīng)加蓋。8．工作完畢應(yīng)斷電、斷水。優(yōu)點(diǎn)TiN中文名：氮化鈦；顏色：金色；硬度：2300HV；摩擦系數(shù)：；高...

按使用要求分為紫外、紅外及可見(jiàn)光用。3、氧化鋯材料特點(diǎn)白色重質(zhì)結(jié)晶態(tài)，具有高的折射率和耐高溫性能，化學(xué)性質(zhì)穩(wěn)定，純度高，用其制備高質(zhì)量氧化鋯鍍膜，不出崩點(diǎn)影響一面平面透鏡的透光度有許多成因。鏡面的粗糙度會(huì)造成入射光的漫射，降低鏡片的透光率。此外材質(zhì)的吸旋光性，也會(huì)造成某些入射光源的其中部分頻率消散的特別嚴(yán)重。例如會(huì)吸收紅色光的材質(zhì)看起來(lái)就呈現(xiàn)綠色。不過(guò)這些加工不良的因素都可以盡可能地去除。很可惜的是大自然里本來(lái)就存在的缺陷。當(dāng)入射光穿過(guò)不同的介質(zhì)時(shí)，就一定會(huì)發(fā)生反射與折射的問(wèn)題。若是我們垂直入射材質(zhì)的話，我們可以定義出反射率與穿透率。很多人會(huì)好奇地問(wèn)：一片完美且無(wú)鍍膜玻璃的透光度應(yīng)該有多少?既...

特別適合制作熔點(diǎn)薄膜材料和高純薄膜材料。依靠電子束轟擊蒸發(fā)的真空蒸鍍技術(shù)，根據(jù)電子束蒸發(fā)源的形式不同，又可分為環(huán)形***，直***，e型***和空心陰極電子***等幾種。環(huán)形***是由環(huán)形的陰極來(lái)發(fā)射電子束，經(jīng)聚焦和偏轉(zhuǎn)后打在坩鍋內(nèi)使金屬材料蒸發(fā)。它的結(jié)構(gòu)較簡(jiǎn)單，但是功率和效率都不高，基本上只是一種實(shí)驗(yàn)室用的設(shè)備，目前在生產(chǎn)型的裝置中已經(jīng)不再使用。直***是一種軸對(duì)稱(chēng)的直線加速***，電子從燈絲陰極發(fā)射，聚成細(xì)束，經(jīng)陽(yáng)極加速后打在坩鍋中使鍍膜材料融化和蒸發(fā)。直***的功率從幾百瓦至幾百千瓦的都有，有的可用于真空蒸發(fā)，有的可用于真空冶煉。直***的缺點(diǎn)是蒸鍍的材料會(huì)污染***體結(jié)構(gòu)，給運(yùn)行的穩(wěn)定...

凝結(jié)形成固態(tài)薄膜的方法。真空蒸發(fā)鍍膜又可以分為下列幾種：電阻蒸發(fā)源蒸鍍法采用鉭，鉬，鎢等高熔點(diǎn)金屬，做成適當(dāng)形狀的蒸發(fā)源，其上裝入待蒸發(fā)材料，讓氣流通過(guò)，對(duì)蒸發(fā)材料進(jìn)行直接加熱蒸發(fā)，或者把待蒸發(fā)材料放入氧化鋁，氧化鈹?shù)熔徨佒羞M(jìn)行間接加熱蒸發(fā)，這就是電阻加熱蒸發(fā)法。利用電阻加熱器加熱蒸發(fā)的鍍膜機(jī)結(jié)構(gòu)簡(jiǎn)單，造價(jià)便宜，使用可靠，可用于熔點(diǎn)不太高的材料的蒸發(fā)鍍膜，尤其適用于對(duì)鍍膜質(zhì)量要求不太高的大批量的生產(chǎn)中，迄今為止，在鍍鋁制鏡的生產(chǎn)中仍然大量使用著電阻加熱蒸發(fā)的工藝。電阻加熱方式的缺點(diǎn)是：加熱所能達(dá)到的**高溫度有限，加熱器的壽命也較短。近年來(lái)，為了提高加熱器的壽命，國(guó)內(nèi)外已采用壽命較長(zhǎng)的氮化硼合...

蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率，可鍍制單質(zhì)和不易熱分解的化合物膜。濺射鍍膜：用高能粒子轟擊固體表面時(shí)能使固體表面的粒子獲得能量并逸出表面，沉積在基片上。通常將欲沉積的材料制成板材——靶,固定在陰極上。基片置于正對(duì)靶面的陽(yáng)極上,距靶幾厘米。系統(tǒng)抽至高真空后充入10～1帕的氣體（通常為氬氣），在陰極和陽(yáng)極間加幾千伏電壓，兩極間即產(chǎn)生輝光放電。放電產(chǎn)生的正離子在電場(chǎng)作用下飛向陰極，與靶表面原子碰撞，受碰撞從靶面逸出的靶原子稱(chēng)為濺射原子,其能量在1至幾十電子伏范圍。濺射原子在基片表面沉積成膜。無(wú)錫卷繞鍍膜機(jī)哪家靠譜？重慶卷繞鍍膜機(jī)誠(chéng)信服務(wù)高純鎳柱，高純鉭，高純鉭片，高純鉭絲，高純鉭...

基材中如有揮發(fā)性雜質(zhì)釋放會(huì)使鍍鋁層發(fā)彩、變色、影響反射效果。圖1(略)為PC塑料的DSC曲線，此圖顯示出PC基材在溫度為90℃左右時(shí)有明顯的熱流變化，可以認(rèn)為有物質(zhì)釋放，其玻璃化轉(zhuǎn)變溫度Tg約為140℃，該材料的使用溫度應(yīng)該低于這一溫度。第二，提高基材表面平整度，確保獲得鏡面的鍍膜效果。一般來(lái)說(shuō)塑料表面本身具有，真空鍍膜的厚度不超過(guò)μm，無(wú)法填平基材表面的凹凸不平，得不到理想的鏡面效果，UV涂層厚度達(dá)到10-20μm，表面平整度在μm以下，可填平基材缺陷并得到理想的鍍膜效果。適用于PC材料車(chē)燈反射罩的UV涂料必須具備以下基本特點(diǎn):(1)流平狀態(tài)好，漆膜豐滿(mǎn)光亮，這樣可以確保真空鍍膜后有一個(gè)完整...

一、概念的區(qū)別1、真空鍍膜是指在高真空的條件下加熱金屬或非金屬材料，使其蒸發(fā)并凝結(jié)于鍍件（金屬、半導(dǎo)體或絕緣體）表面而形成薄膜的一種方法。例如，真空鍍鋁、真空鍍鉻等。2、光學(xué)鍍膜是指在光學(xué)零件表面上鍍上一層(或多層)金屬(或介質(zhì))薄膜的工藝過(guò)程。在光學(xué)零件表面鍍膜的目的是為了達(dá)到減少或增加光的反射、分束、分色、濾光、偏振等要求。常用的鍍膜法有真空鍍膜(物理鍍膜的一種)和化學(xué)鍍膜。二、原理的區(qū)別1、真空鍍膜是真空應(yīng)用領(lǐng)域的一個(gè)重要方面，它是以真空技術(shù)為基礎(chǔ)，利用物理或化學(xué)方法，并吸收電子束、分子束、離子束、等離子束、射頻和磁控等一系列新技術(shù)，為科學(xué)研究和實(shí)際生產(chǎn)提供薄膜制備的一種新工藝。簡(jiǎn)單地說(shuō)...

是在真空蒸發(fā)和真空濺射基礎(chǔ)上發(fā)展起來(lái)的一種新的鍍膜技術(shù)。離子鍍的英文全稱(chēng)IonPlating，簡(jiǎn)稱(chēng)IP。它是在真空條件下，應(yīng)用氣體放電實(shí)現(xiàn)鍍膜的，即在真空室中使氣體或蒸發(fā)物質(zhì)電離，在氣體離子或被蒸發(fā)物質(zhì)離子的轟擊下，同時(shí)將蒸發(fā)物或其反應(yīng)產(chǎn)物蒸鍍?cè)诨稀?972年，Banshah提出了在真空放電蒸鍍時(shí)，導(dǎo)入反應(yīng)氣體生成化合物的方法，即（活性反應(yīng)蒸鍍法）（簡(jiǎn)稱(chēng)ARE法）。與此同時(shí)，在離子鍍時(shí)代替氬氣導(dǎo)入一部分反應(yīng)氣體生成化合物薄膜，形成了反應(yīng)性離子鍍法（簡(jiǎn)稱(chēng)RIP法）等等。根據(jù)不同膜材的氣化方式和離化方式，可構(gòu)成不同類(lèi)型的離子鍍膜方式。膜材的氣化方式有：電阻加熱，電子束加熱，等離子電子束加熱，高...

目前市場(chǎng)上的真空鍍膜設(shè)備廠家是非常多的，所以競(jìng)爭(zhēng)就非常激烈了，消費(fèi)者在選擇真空鍍膜設(shè)備廠家的時(shí)候，是需要通過(guò)一些方面來(lái)鑒別真空鍍膜設(shè)備廠家的實(shí)力。一、經(jīng)驗(yàn)。真空鍍膜設(shè)備維修和很多其他的技能是一樣的，具有豐富的經(jīng)驗(yàn)才能應(yīng)對(duì)多種狀況的出現(xiàn)，才能保障好結(jié)果。二、成功案例。真空鍍膜設(shè)備維修案例是直接的實(shí)力見(jiàn)證之一，真空鍍膜設(shè)備維修要的還是實(shí)際的操作，這不僅*包括了真空鍍膜設(shè)備本身，還包括了像真空鍍膜設(shè)備這樣的專(zhuān)業(yè)配置，畢竟配置是真空鍍膜設(shè)備維修的重要前提。三、售后服務(wù)。售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修后的一個(gè)重要保障之一，完善的售后服務(wù)是真空鍍膜設(shè)備維修的一部分。四、維修配件必須要有保障。每一個(gè)公司很難在每...

氧化鉍、Bi2O3，氧化鐠、Pr6O11，氧化銻、Sb2O3，氧化釩、V2O5，氧化鎳、NiO，氧化鋅、ZnO，氧化鐵、Fe2O3，氧化鉻、Cr2O3，氧化銅、CuO等。高純氟化物氟化鎂、MgF2，氟化鐿、YbF3，氟化釔、LaF3，氟化鏑、DyF3，氟化釹、NdF3，氟化鉺、ErF3，氟化鉀、KF，氟化鍶、SrF3，氟化釤、SmF3，氟化鈉、NaF，氟化鋇、BaF2，氟化鈰、CeF3，氟化鉛等。高純金屬類(lèi)高純鋁,高純鋁絲，高純鋁粒，高純鋁片，高純鋁柱，高純銅，高純銅絲，高純銅片，高純銅粒，高純鉻，高純鉻粒，高純鉻粉，高純鉻塊，鉻條，高純鈷，高純鈷粒，高純金，高純金絲，高純金片，高純金粒，高純...

常采用旋轉(zhuǎn)基片或多蒸發(fā)源的方式以保證膜層厚度的均勻性。從蒸發(fā)源到基片的距離應(yīng)小于蒸氣分子在殘余氣體中的平均自由程，以免蒸氣分子與殘氣分子碰撞引起化學(xué)作用。蒸氣分子平均動(dòng)能約為～。蒸發(fā)源有三種類(lèi)型。①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)（圖1[蒸發(fā)鍍膜設(shè)備示意圖]）電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高頻感應(yīng)加熱源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝和蒸發(fā)物質(zhì)；③電子束加熱源：適用于蒸發(fā)溫度較高（不低于2000[618-1]）的材料，即用電子束轟擊材料使其蒸發(fā)。蒸發(fā)鍍膜與其他真空鍍膜方法相比，具有較高的沉積速率...

以滿(mǎn)足不同的需要.為了消除光學(xué)零件表面的反射損失,提高成像質(zhì)量,涂鍍一層或多層透明介質(zhì)膜,稱(chēng)為增透膜或減反射膜.隨著激光技術(shù)的發(fā)展,對(duì)膜層的反射率和透過(guò)率有不同的要求,促進(jìn)了多層高反射膜和寬帶增透膜的發(fā)展.為各種應(yīng)用需要,利用高反射膜制造偏振反光膜、彩色分光膜、冷光膜和干涉濾光片等.光學(xué)零件表面鍍膜后,光在膜層層上多次反射和透射,形成多光束干涉,控制膜層的折射率和厚度,可以得到不同的強(qiáng)度分布,這是干涉鍍膜的基本原理.三、方法和材料的區(qū)別1、真空鍍膜的方法材料:(1)真空蒸鍍:將需鍍膜的基體清洗后放到鍍膜室,抽空后將膜料加熱到高溫,使蒸氣達(dá)到約.(2)陰極濺射鍍:將需鍍膜的基體放在陰極對(duì)面,把惰...

TiN[鈦金]、ZrN〔鋯金〕、CrN、TiAlN）和碳化物膜（TiC、TiCN），以及氧化物膜（如TiO等）。Q9:請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜膜層的厚度是多少？A9:PVD鍍膜膜層的厚度為微米級(jí)，厚度較薄，一般為μm～5μm，其中裝飾鍍膜膜層的厚度一般為μm~1μm，因此可以在幾乎不影響工件原來(lái)尺寸的情況下提高工件表面的各種物理性能和化學(xué)性能，并能夠維持工件尺寸基本不變，鍍后不須再加工。Q10:請(qǐng)問(wèn)PVD鍍膜能夠鍍出的膜層的顏色有哪些？A10:我們目前能夠做出的膜層的顏色有深金黃色，淺金黃色，咖啡色，古銅色，灰色，黑色，灰黑色，七彩色等。通過(guò)控制鍍膜過(guò)程中的相關(guān)參數(shù)，可以控制鍍出的顏色；鍍膜結(jié)束后可以用...

離子源（英文名稱(chēng)：Ionsource）是使中性原子或分子電離，并從中引出離子束流的裝置。它是各種類(lèi)型的離子加速器、質(zhì)譜儀、電磁同位素分離器、離子注入機(jī)、離子束刻蝕裝置、離子推進(jìn)器以及受控聚變裝置中的中性束注入器等設(shè)備的不可缺少的部件。氣體放電、電子束對(duì)氣體原子(或分子)的碰撞，帶電粒子束使工作物質(zhì)濺射以及表面電離過(guò)程都能產(chǎn)生離子，并被引出成束。根據(jù)不同的使用條件和用途，已研制出多種類(lèi)型的離子源。使用較廣的有弧放電離子源、PIG離子源、雙等離子體離子源和雙彭源這些源都是以氣體放電過(guò)程為基礎(chǔ)的,常被籠統(tǒng)地稱(chēng)為弧源。高頻離子源則是由氣體中的高頻放電來(lái)產(chǎn)生離子的，也有很廣的用途。新型重離子源的出現(xiàn)，使...

氧化鉍、Bi2O3，氧化鐠、Pr6O11，氧化銻、Sb2O3，氧化釩、V2O5，氧化鎳、NiO，氧化鋅、ZnO，氧化鐵、Fe2O3，氧化鉻、Cr2O3，氧化銅、CuO等。高純氟化物氟化鎂、MgF2，氟化鐿、YbF3，氟化釔、LaF3，氟化鏑、DyF3，氟化釹、NdF3，氟化鉺、ErF3，氟化鉀、KF，氟化鍶、SrF3，氟化釤、SmF3，氟化鈉、NaF，氟化鋇、BaF2，氟化鈰、CeF3，氟化鉛等。高純金屬類(lèi)高純鋁,高純鋁絲，高純鋁粒，高純鋁片，高純鋁柱，高純銅，高純銅絲，高純銅片，高純銅粒，高純鉻，高純鉻粒，高純鉻粉，高純鉻塊，鉻條，高純鈷，高純鈷粒，高純金，高純金絲，高純金片，高純金粒，高純...

（1）成膜溫度低。鋼鐵行業(yè)中的熱鍍鋅鍍膜溫度一般是400℃～500℃，化學(xué)鍍膜溫度更高達(dá)1000℃以上。這樣高的溫度很容易引起被鍍件的變形、變質(zhì)，而真空鍍膜的溫度低，可以降到常溫，避免了常規(guī)鍍膜工藝的弊端。（2）蒸發(fā)源選擇自由度大?？蛇x擇的鍍膜材料多而不受材料熔點(diǎn)限制，可鍍種類(lèi)眾多的金屬氮化膜，金屬氧化膜和金屬炭化物及各種復(fù)合膜。（3）不使用有害氣體、液體，對(duì)環(huán)境無(wú)不利影響。在當(dāng)前越來(lái)越重視環(huán)保的大趨勢(shì)下，這點(diǎn)極其可貴。（4）帶鋼鍍膜質(zhì)量好。能獲得均勻、平滑且極薄的鍍膜，鍍膜純度高，耐蝕性和附著力好。不存在熱鍍鋅中的漏鍍點(diǎn)、鋅浪、鋅花等問(wèn)題。（5）工藝靈活，改變品種方便?？慑儐蚊?、雙面和單層、...

ALtimax中文名：白金鋁鈦_納米晶體；顏色：銀白色；硬度：4300HV；摩擦系數(shù)：?？寡趸瘻囟龋?200℃；優(yōu)點(diǎn)：高熱穩(wěn)定性；通用於高速鋼與硬質(zhì)合金刀具高速、干式、連續(xù)性切削；可加工高硬度模具鋼50HRC。MedicaWC/C涂層顏色：黑色；硬度硬度>17000HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：450℃；優(yōu)點(diǎn)：磨擦力低，干式金屬潤(rùn)滑膜；適合醫(yī)療、藥品行業(yè)無(wú)油環(huán)境。CrN-WC/C涂層顏色：黑色；硬度>2000HV；摩擦系數(shù)：；高工作溫度：650℃；優(yōu)點(diǎn)：解決射出成型脫膜、腐蝕問(wèn)題；適合汽車(chē)、機(jī)械零件降低磨擦損耗；適合無(wú)油軸承，干式金屬潤(rùn)滑膜。鍍膜技術(shù)真空鍍膜技術(shù)是一種新穎的材料合成與加工的新技...

真空鍍膜機(jī)鍍膜是指在真空中制備膜層，包括鍍制晶態(tài)的金屬、半導(dǎo)體、絕緣體等單質(zhì)或化合物膜。無(wú)錫光潤(rùn)為您介紹真空鍍膜機(jī)的原理。雖然化學(xué)汽相沉積也采用減壓、低壓或等離子體等真空手段，但一般真空鍍膜是指用物理的方法沉積薄膜。真空鍍膜機(jī)鍍膜方法有三種形式，即蒸發(fā)鍍膜、濺射鍍膜和離子鍍。蒸發(fā)鍍膜：通過(guò)加熱蒸發(fā)某種物質(zhì)使其沉積在固體表面，稱(chēng)為蒸發(fā)鍍膜?，F(xiàn)代已成為常用鍍膜技術(shù)之一。蒸發(fā)源有三種類(lèi)型：①電阻加熱源：用難熔金屬如鎢、鉭制成舟箔或絲狀,通以電流,加熱在它上方的或置于坩堝中的蒸發(fā)物質(zhì)。電阻加熱源主要用于蒸發(fā)Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料；②高頻感應(yīng)加熱源源：用高頻感應(yīng)電流加熱坩堝...

濾光片原理：濾光片是塑料或玻璃片再加入特種染料做成的，紅色濾光片只能讓紅光通過(guò)，如此類(lèi)推，玻璃片的透射率原本與空氣差不多，所有色光都可以通過(guò)，所以是透明的，但是染了染料后，分子結(jié)構(gòu)變化，折射率也發(fā)生變化，對(duì)某些色光的通過(guò)就有變化了，比如一束白光通過(guò)藍(lán)色濾光片，射出的是一束藍(lán)光，而綠光、紅光極少，大多數(shù)被濾光片吸收了。濾光片特點(diǎn)：其主要特點(diǎn)是尺寸可做得相當(dāng)大，薄膜濾光片，一般透過(guò)的波長(zhǎng)較長(zhǎng)，多用做紅外濾光片，后者是在一定片基，用真空鍍膜法交替形成具有一定厚度的高折射率或低折射率的金屬-介質(zhì)-金屬膜，或全介質(zhì)膜，構(gòu)成一種低級(jí)次的﹑多級(jí)串聯(lián)實(shí)心法布里-珀**涉儀，膜層的材料﹑厚度和串聯(lián)方式的選擇，由...

氬氣在電鍍過(guò)程中有何用?氬氣不參與反應(yīng)，只是增加氣壓，改善鍍膜時(shí)靶的放電條件，氬氣不是用于鍍膜，主要用于創(chuàng)造鍍膜的環(huán)境。氮?dú)夂蜌鍤舛际嵌栊詺怏w,沖進(jìn)去以后,一可以排除氧氣,防止氧化,二更具氮?dú)夂蜌鍤庠跀U(kuò)散泵內(nèi)的含量比例不同,可以鍍膜出不同的顏色.主要是為了改變鍍膜出來(lái)產(chǎn)品的色彩.真空鍍膜行業(yè)中，氬氣的流量大小具體如何控制?如果是說(shuō)鍍膜時(shí)為了調(diào)節(jié)壓力使用的氣體個(gè)人認(rèn)為如下：氬氣如果只是調(diào)節(jié)壓力，一次壓可以不計(jì)，但是二次壓要小于0.5個(gè)大氣壓。氮?dú)庖彩?，主要是因?yàn)槿绻罅?，?huì)導(dǎo)致真空倉(cāng)內(nèi)的壓力變化太劇烈，導(dǎo)致誤差。如果是使用離子源，那么氬氣入氣量不宜過(guò)**了導(dǎo)致離子量過(guò)大，燒壞部件。壓力和上邊沒(méi)什...