PVD顏色膜之玫瑰金 玫瑰金，單從她那浪漫的名字，就能引起人們無數(shù)美妙的聯(lián)想。在閃閃發(fā)光的黃金飾品與經(jīng)典高雅的鉑金飾品之后，色調(diào)柔和迷人的玫瑰金飾品漸成為時尚人士的“新寵”，以她特有的風(fēng)格與文化，演繹出貴金屬飾品的又一片嶄新天地。通常玫瑰金由75％的黃金與其它合金組成（俗稱三色金）。 硬度較純金高，與傳統(tǒng)的黃金和鉑金相比，粉紅色的玫瑰金不但能使有色寶石的色彩更加濃重，還體現(xiàn)了金屬材質(zhì)的精致、細(xì)膩。其粉紅、玫瑰等暖色調(diào)給人們帶來溫暖與愉快；在款式上也是千姿百態(tài)，有心形、欖尖形、橢圓形、梨形、祖母綠形。各種風(fēng)格迥異的飾品，可謂璀璨耀眼，女性無論是著職業(yè)裝，還是晚禮服及吊帶裙，與之相配都顯出高雅的氣質(zhì)。 玫瑰金顏色近幾年在手表行業(yè)非常流行，很多品牌都采用PVD在不銹鋼表殼和表帶上沉積玫瑰金涂層的方式進(jìn)行，行業(yè)內(nèi)叫IP玫瑰金，其工藝已經(jīng)非常成熟。玫瑰金鍍層一般有仿金層和玫瑰金層構(gòu)成，底層的仿金層一般為TiCN，主要是增加玫瑰金的硬度和耐磨度。

導(dǎo)電膠：采用的導(dǎo)電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。無錫鈧靶材綁定

背景技術(shù)：濺射鍍膜屬于物相沉積方法制備薄膜的工藝之一，具體是指利用高能粒子轟擊靶材表面，使得靶材原子或分子獲得足夠的能量逸出，并沉積在基材或工件表面，從而形成薄膜。由于背板具有良好的導(dǎo)電導(dǎo)熱性能，且還可以起到固定支撐作用，因此，靶材在鍍膜前需與背板焊接在一起，然后共同裝配至濺射基臺。一般活性金屬靶材，例如鋁靶材，由于長期暴露在空氣中，靶材表面材料容易氧化形成一層氧化皮。在直流脈沖、中頻濺射過程中，離子撞擊的能量不足以破壞該氧化皮，導(dǎo)致靶材原子或分子難以逸出，因此在將靶材安裝至濺射基臺之前，需要對靶材表面進(jìn)行拋光。此外，對于活性金屬靶材及非活性金屬靶材，拋光操作有利于改善靶材的濺射速率的穩(wěn)定性，有助于提高濺射鍍膜質(zhì)量。無錫鈧靶材綁定當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時候，靶完全中毒，在靶面上沉積一層化合金屬膜。

拋光片300包括拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330。所述拋光片部分310設(shè)置于所述頂板210的底部。所述拋光片第二部分320設(shè)置于所述頂板210與所述側(cè)板220的拐角處，且在所述拋光片部分310及拋光片第三部分330間平滑的過渡。所述拋光片第三部分330設(shè)置于所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面上，所述拋光片第三部分330表面與拋光片部分310表面垂直。拋光片第二部分320呈弧狀，與經(jīng)圓角處理的靶材側(cè)棱相匹配，可對靶材側(cè)棱進(jìn)行拋光。所述拋光片第三部分330表面為平整的平面，能夠?qū)Π胁膫?cè)壁表面進(jìn)行拋光。因此所述靶材拋光裝置100能夠同時對靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光，有助于提高拋光作業(yè)效率。

什么是3D玻璃？ 現(xiàn)在數(shù)碼產(chǎn)品使用的玻璃蓋板分為：2D玻璃，2.5D玻璃，還有3D玻璃。2D玻璃就是普通的純平面玻璃，沒有任何弧形設(shè)計；2.5D玻璃則為中間是平面的，但邊緣是弧形設(shè)計；而3D屏幕，無論是中間還是邊緣都采用弧形設(shè)計。 3D曲面玻璃的特色符合 3C 產(chǎn)品設(shè)計需求。3C 產(chǎn)品設(shè)計如智能手機、智能手表、平板計算機、可穿戴式智能產(chǎn)品、儀表板等陸續(xù)出現(xiàn) 3D 產(chǎn)品，已經(jīng)明確引導(dǎo)3D曲面玻璃發(fā)展方向。3D曲面玻璃輕薄、透明潔凈、抗指紋、防眩光、堅硬、耐刮傷、耐候性佳等優(yōu)點，可型塑做出3D多形狀外觀具有產(chǎn)品特殊設(shè)計新穎性與質(zhì)感佳，又可增加弧形邊緣觸控功能帶來出色的觸控手感、無線充電機能，并能解決天線布置空間不足及增強收訊功能，使產(chǎn)品更美觀出色，產(chǎn)品設(shè)計差異化使消費者更能青睞。

在受到離子轟擊之后，釋放的二次電子數(shù)量增加，提高空間的導(dǎo)通能力，降低等離子體阻抗，導(dǎo)致濺射電壓降低。

陰-陽極間距對靶濺射電壓的影響   真空氣體放電陰-陽極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽極間距偏大時，等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定，反之，在陰-陽極間距偏小時，將會導(dǎo)致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點火起輝后進(jìn)入正常濺射時，如果陰-陽極間距過小，由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負(fù)載特性，就有可能出現(xiàn)在濺射電流已達(dá)工藝設(shè)定值時，靶濺射電壓始終很低又調(diào)不起來的狀況?！肮に囆汀卑须娫纯梢愿纳坪蛷浹a這種狀況;而“經(jīng)濟型”靶電源對這種狀況無能為力。   1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽極間距   對稱雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運行時，建議其兩交變陰-陽極的小極間距不應(yīng)小于2英2口寸;   2. 單磁控靶陰-陽極間距   靶電源帶單磁控靶運行時，一般都不存在這方面問題;但是，在小真空室?guī)чL矩形平面磁控單靶時容易忽略這個問題，磁控靶面與真空室金屬殼體內(nèi)壁的小極間距一般亦建議不小于2英2口寸。金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高，靶中毒后，靶材表面都是金屬化合物。廣東NbS靶材

如果反應(yīng)氣體量增加過度，化合物覆蓋面積增加。無錫鈧靶材綁定

純度：純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因為靶材的純度對薄膜的性能影響很大。不過在實際應(yīng)用中，對靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”、8”發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。雜質(zhì)含量：靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。無錫鈧靶材綁定

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設(shè)備兩臺，等靜壓設(shè)備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設(shè)備七臺，檢驗設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。