磁控濺射制備非晶硅薄膜 本實驗采用石英玻璃為襯底,實驗前先將玻璃襯底浸泡在溶液中,放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設備上,分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前,預濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式, 濺射功率為100 W, 本底真空度6×10- 4 Pa , 濺射時間20 min,濺射氣壓0.5 Pa,襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式,濺射功率150 W,本底真空度6×10- 4 Pa,濺射時間120 min,濺射氣壓2.0 Pa,襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊,其中各保留一小塊不做退火處理,其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃,2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導方法,研究非晶硅薄膜的晶化過程。在直流脈沖、中頻濺射過程中,離子撞擊的能量不足以破壞氧化皮,所以一般在濺射的時候進行物理拋光。杭州硼靶圖片
真空離子鍍耐高溫性能: 航空零件,特別是許多發(fā)動機零件往往需要在高溫下工作。例如渦輪葉片及導向葉片工作溫度通常在攝氏一千度左右,有的甚至達攝氏一千四百度。神話小說《西游記》里孫悟空被太上老君放在爐內(nèi)燒煉時,恐怕也達不到這么高的溫度吧?,F(xiàn)代航空發(fā)動機零件在這樣高的溫度下工作,依賴零件基體材料本身的性能是很難滿足要求的。那么,發(fā)動機零件怎樣才能不怕高溫燒蝕呢?目前除在零件結構上采取措施(如采用空心冷卻葉片、發(fā)散冷卻葉片等)以外,大都需用耐熱鍍層進行保護。離子鍍對于沉積耐熱膜有相當多的優(yōu)點,能鍍各種高熔點材料,如氧化鋁、氧化硅、氧化鈹、鉿合金等。合金鍍層的成份也比較容易控制,適合于鍍成分較復雜的耐熱合金,如鐵鉻鋁釔,鈷鉻鋁釔或鎳鉻鋁釔合金等。 目前渦輪葉片是試圖采用離子鍍耐熱鍍層的主要對象。據(jù)悉,有一種葉片用此法鍍復一種鎳鉻鋁釔合金后,其高溫工作壽命比鍍鋁提高了三倍。適于采用離子鍍耐熱鍍層的發(fā)動機零件還有渦輪盤、氣缸活塞零件等。有些零件經(jīng)過這種先進工藝處理后,可在高溫下工作上千小時。
杭州硼靶圖片再用手轉(zhuǎn)緊對角線上的另外一顆鏍栓,如此重復直到安裝上所有鏍栓后,再用工具收緊。
中頻雙靶反應磁控濺射與直流反應磁控濺射相比具有以下幾個顯巨優(yōu)點: (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象,中頻反應磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應磁控濺射鍍制的同種膜相比,膜面缺 陷要少幾個數(shù)量級; (2)可以得到比直流反應磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率; (3)中頻雙靶反應磁控濺射的整個濺射沉積過程,可以始終穩(wěn)定在所設定的工作點上,為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產(chǎn)提供了條件。 選用非對稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同,使用單個磁控靶進行反應磁控濺射,調(diào)節(jié)相應的鍍膜工藝參數(shù),可以消除磁控靶面打弧放電現(xiàn)象和實現(xiàn)長時間穩(wěn)定的薄膜沉積,可以達到上述“中頻-雙靶反應磁控濺射”的同樣效果。
陶瓷靶材ITO靶、氧化鎂靶、氧化鐵靶、濺射靶材氮化硅靶、碳化硅靶、氮化鈦靶、氧化鉻靶、氧化鋅靶、硫化鋅靶、二氧化硅靶、一氧化硅靶、氧化鈰靶、二氧化鋯靶、五氧化二鈮靶、二氧化鈦靶、二氧化鋯靶,、二氧化鉿靶,二硼化鈦靶,二硼化鋯靶,三氧化鎢靶,三氧化二鋁靶五氧化二鉭,五氧化二鈮靶、氟化鎂靶、氟化釔靶、硒化鋅靶、氮化鋁靶,氮化硅靶,氮化硼靶,氮化鈦靶,碳化硅靶,鈮酸鋰靶、鈦酸鐠靶、鈦酸鋇靶、鈦酸鑭靶、氧化鎳靶、濺射靶材等。
在受到離子轟擊之后,釋放的二次電子數(shù)量增加,提高了空間的導通能力。
靶中毒的影響因素影響靶中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例,反應氣體過量就會導致靶中毒。反應濺射工藝進行過程中靶表面濺射溝道區(qū)域內(nèi)出現(xiàn)被反應生成物覆蓋或反應生成物被剝離而重新暴露金屬表面此消彼長的過程。如果化合物的生成速率大于化合物被剝離的速率,化合物覆蓋面積增加。在一定功率的情況下,參與化合物生成的反應氣體量增加,化合物生成率增加。如果反應氣體量增加過度,化合物覆蓋面積增加,如果不能及時調(diào)整反應氣體流量,化合物覆蓋面積增加的速率得不到***,濺射溝道將進一步被化合物覆蓋,當濺射靶被化合物全部覆蓋的時候,靶完全中毒,在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應。除嚴格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結晶取向之外,對熱處理條件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴格控制。杭州氟化鈰靶
所以在安裝靶材時需要對陰極冷卻水槽進行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進出水口不會被堵塞。杭州硼靶圖片
國統(tǒng)局數(shù)據(jù)顯示,2019年上半年儀器儀表大行業(yè)規(guī)模以上企業(yè)4927個,營收規(guī)模4002億元,營收同比增長7.57%;收入總額為361億元,同比增長2.87%,比主營收入低4.70個百分點;中國的新型工業(yè)化進程,信息化和工業(yè)化融合的進一步加深,帶動各個工業(yè)領域?qū)τ诖趴貫R射靶材,蒸發(fā)材料,背板,靶材綁定等產(chǎn)品的需求。在國民經(jīng)濟運行中,金屬靶材,合金靶材,陶瓷靶材,鍍膜材料的研發(fā)銷售(以上項目均不含危險品);鍍膜技術的研究,開發(fā);鍍膜生產(chǎn)**設備,其他機械設備,電子產(chǎn)品,五金產(chǎn)品的銷售;自營和代理各類商品以及技術的進出口業(yè)務,但國家限定企業(yè)經(jīng)營或禁止進出口的商品和技術除外。等設備是提高勞動生產(chǎn)率的倍增器,對國民經(jīng)濟有著巨大的作用和影響力。美國商業(yè)部地區(qū)技術和標準研究院(NIST)提出的報告稱:美國90年代儀器儀表工業(yè)產(chǎn)值只占工業(yè)總產(chǎn)值的4%,但它對國民經(jīng)濟(GNP)的影響面卻達到66%。盡管在我國相關政策的引導和支持下,我國儀器儀表行業(yè)得到了飛速發(fā)展。但是從銷售整體上看,我國的儀器儀表行業(yè)還是落后于國際水平的。重點技術缺乏、高精尖產(chǎn)品嚴重依賴進口、儀器儀表產(chǎn)品同質(zhì)化嚴重、生產(chǎn)工藝落后、研發(fā)能力弱、精度不高等問題的凸顯,為儀器儀表行業(yè)的發(fā)展帶來了嚴峻的挑戰(zhàn)。杭州硼靶圖片
江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進技術,并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結,真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結爐一臺,真空熔煉設備兩臺,等靜壓設備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機加工設備七臺,檢驗設備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承:“一切以客戶的需求為導向,客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。