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山東錳鎳酸鋰靶材

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2022-05-02

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系: 1.IP玫瑰金(rose gold)是一種黃金和銅的合金,由于其具有非常時(shí)尚、靚麗的玫瑰紅色彩,因而普遍用于首飾設(shè)計(jì)和加工。又稱粉色金(pink gold)、紅色金(red gold)。 2. IP金,用離子鍍膜的方式,讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上,一般由仿金層和表面金層兩層,表面金層的顏色與24K黃金一樣,厚度可以根據(jù)客戶的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列(包括仿金色和仿玫瑰金),不含黃金,一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成,但很難達(dá)到真金的亮度。 4. 銀色系列,一般是鉻的化合物,顏色深淺可調(diào)整,可分冷色系列和暖色系列,冷色系列帶藍(lán)調(diào),金屬光感好,暖色系列帶黃調(diào),接近不銹鋼本色。 5. 黑色系列,一般是成份是金屬的碳化物,顏色深淺可以調(diào)整,色調(diào)根據(jù)客戶的要求也可以調(diào)整,不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調(diào),可以根據(jù)客戶的需要選擇不同的膜系。 6. 藍(lán)色系列,有天空藍(lán),冰藍(lán)色,海洋藍(lán),深藍(lán)等等,不同色系成份也有所不一樣。


反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來(lái)就比惰性氣體的濺射效率低,所以反應(yīng)氣體比例增加后,綜合濺射速率降低。山東錳鎳酸鋰靶材

鋅錫合金,鋅鋁合金,錫鎘合金,銅銦合金,銅銦鎵合金,銅鎵合金,以及錫,鉬,鈦等旋轉(zhuǎn)靶材高純鋁靶材Al高純銅靶材Cu高純鐵靶材Fe高純鈦靶材Ti高純鎳靶材Ni高純鎂靶材Mg高純鉻靶材Cr高純鋅靶材Zn高純銀靶材Ag高純鈷靶材Co高純鈮靶材Nb高純錫靶材Sn高純銦靶材In高純鋯靶材Zr高純鉭靶材Ta高純鍺靶材Ge高純硅靶材Si高純鎢靶材W高純鉿靶材Hf高純釔靶材Y高純釓靶材Gd高純釤靶材Sm高純鏑靶材Dy高純鈰靶材Ce高純鑭靶材La高純金靶材Au高純不銹鋼靶材高純石墨靶材C高純硒靶材Se高純鉬靶材Mo高純合金濺射靶材二元合金靶鎳鉻靶Ni-Cr鎳鐵靶Ni-Fe鎳鈷靶Ni-Co鎳鋯靶Ni-Zr鎳鋁靶Ni-Al鎳銅靶Ni-Cu鎳釩靶Ni-V銅銦靶Cu-In銅鎵靶Cu-Ga銅硒靶Cu-Se鈦鋁靶Ti-Al鋁硅靶Al-Si鋁銅靶Al-Cu鋁鈦靶Al-Ti鋁鎂靶Al-Mg銀銅靶Ag-Cu鐵錳靶Fe-Mn銦錫靶In-Sn鈷鐵靶Co-Fe鎢鈦靶W-Ti鋅鋁靶Zn-Al鋁鈧靶Al-Sc銅錫靶Cu-Sn鋯鋁靶Zr-Al鋯鐵靶Zr-Fe鋯硅靶Zr-Si釩鋁靶V-Al硼鐵靶B-Fe鋁硅靶Al-Si硼鐵靶B-Fe多元合金靶鈷鐵硼靶Co-Fe-B銅銦鎵靶Cu-In-Ga銅銦鎵硒靶Cu-In-Ga-Se等。旋轉(zhuǎn)靶材用途編輯太陽(yáng)能電池,建筑玻璃,汽車玻璃,半導(dǎo)體,平板電視等。山東錳鎳酸鋰靶材不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。

靶中毒現(xiàn)象:正離子堆積:靶中毒時(shí),靶面形成一層絕緣膜,正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋,不能直接進(jìn)入陰極靶面,而是堆積在靶面上,容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧,使陰極濺射無(wú)法進(jìn)行下去。(2)陽(yáng)極消失:靶中毒時(shí),接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,到達(dá)陽(yáng)極的電子無(wú)法進(jìn)入陽(yáng)極,形成陽(yáng)極消失現(xiàn)象。靶中毒的物理解釋:一般情況下,金屬化合物的二次電子發(fā)射系數(shù)比金屬的高,靶中毒后,靶材表面都是金屬化合物,在受到離子轟擊之后,釋放的二次電子數(shù)量增加,提高了空間的導(dǎo)通能力,降低了等離子體阻抗,導(dǎo)致濺射電壓降低。從而降低了濺射速率。一般情況下磁控濺射的濺射電壓在400V-600V之間,當(dāng)發(fā)生靶中毒時(shí),濺射電壓會(huì)明顯降低。金屬靶材與化合物靶材本來(lái)濺射速率就不一樣,一般情況下金屬的濺射系數(shù)要比化合物的濺射系數(shù)高,所以靶中毒后濺射速率低。(3)反應(yīng)濺射氣體的濺射效率本來(lái)就比惰性氣體的濺射效率低,所以反應(yīng)氣體比例增加后,綜合濺射速率降低。

利用原子力顯微鏡(AFM)和掃描電子顯微鏡(SEM),對(duì)所制備的非晶硅薄膜進(jìn)行了定性和定量的表征,研究了濺射功率、襯底溫度、濺射時(shí)間、氬氣氣壓等因素對(duì)非晶硅薄膜表面形貌和厚度的影響。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:非晶硅薄膜的表面粗糙度會(huì)隨濺射功率、濺射時(shí)間和濺射氣壓的增加而增大,而隨著襯底加熱溫度的增加而減小。   對(duì)制備的非晶硅薄膜在不同溫度和時(shí)間進(jìn)行了退火處理。再利用X- 射線衍射儀(XRD)和拉曼光譜儀,對(duì)不同退火溫度的樣品進(jìn)行晶化程度的表征。實(shí)驗(yàn)結(jié)果表明:不同條件制備的非晶硅薄膜在750℃退火1 h 后就已發(fā)生不同程度的晶化,并且直流磁控濺射制備的非晶硅薄膜比射頻磁控濺射制備的非晶硅薄膜更容易發(fā)生晶化;退火溫度越高,非晶硅薄膜晶化速率越快。   此外,通過(guò)拉曼激光誘導(dǎo)晶化,結(jié)果表明:拉曼激光誘導(dǎo)非晶硅晶化為局域晶化,具有晶化速度快的特點(diǎn);晶化過(guò)程中,需要控制激光強(qiáng)度,過(guò)強(qiáng)的激光會(huì)把非晶硅薄膜燒蝕掉。


通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。

與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為10hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。對(duì)比例4與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的硬度為35hv;所得靶材組件濺射強(qiáng)度差,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度不均勻,使用壽命減少。通過(guò)上述實(shí)施例和對(duì)比例的結(jié)果可知,本發(fā)明中,通過(guò)調(diào)整靶材表面的高度差及硬度,保證濺射強(qiáng)度,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。申請(qǐng)人聲明,本發(fā)明通過(guò)上述實(shí)施例來(lái)說(shuō)明本發(fā)明的詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,但本發(fā)明并不局限于上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征,即不意味著本發(fā)明必須依賴上述詳細(xì)結(jié)構(gòu)特征才能實(shí)施。所屬技術(shù)領(lǐng)域的技術(shù)人員應(yīng)該明了,對(duì)本發(fā)明的任何改進(jìn),對(duì)本發(fā)明所選用部件的等效替換以及輔助部件的增加、具體方式的選擇等,均落在本發(fā)明的保護(hù)范圍和公開范圍之內(nèi)。以上詳細(xì)描述了本發(fā)明的 實(shí)施方式,但是,本發(fā)明并不限于上述實(shí)施方式中的具體細(xì)節(jié),在本發(fā)明的技術(shù)構(gòu)思范圍內(nèi),可以對(duì)本發(fā)明的技術(shù)方案進(jìn)行多種簡(jiǎn)單變型,這些簡(jiǎn)單變型均屬于本發(fā)明的保護(hù)范圍。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。上海CuZr靶材型號(hào)

純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。山東錳鎳酸鋰靶材

陰-陽(yáng)極間距對(duì)靶濺射電壓的影響   真空氣體放電陰-陽(yáng)極間距能夠?qū)Π袨R射電壓造成一定的影響。在陰-陽(yáng)極間距偏大時(shí),等效氣體放電的內(nèi)阻主要由等離子體等效內(nèi)阻決定,反之,在陰-陽(yáng)極間距偏小時(shí),將會(huì)導(dǎo)致等離子體放電的內(nèi)阻呈現(xiàn)較小數(shù)值。由于在磁控靶點(diǎn)火起輝后進(jìn)入正常濺射時(shí),如果陰-陽(yáng)極間距過(guò)小,由于靶電源輸出的濺射電壓具有一定的軟負(fù)載特性,就有可能出現(xiàn)在濺射電流已達(dá)工藝設(shè)定值時(shí),靶濺射電壓始終很低又調(diào)不起來(lái)的狀況。“工藝型”靶電源可以改善和彌補(bǔ)這種狀況;而“經(jīng)濟(jì)型”靶電源對(duì)這種狀況無(wú)能為力。   1. 孿生靶(或雙磁控靶)陰-陽(yáng)極間距   對(duì)稱雙極脈沖中頻靶電源和正弦波中頻靶電源帶孿生靶或雙磁控靶運(yùn)行時(shí),建議其兩交變陰-陽(yáng)極的小極間距不應(yīng)小于2英2口寸;   2. 單磁控靶陰-陽(yáng)極間距   靶電源帶單磁控靶運(yùn)行時(shí),一般都不存在這方面問(wèn)題;但是,在小真空室?guī)чL(zhǎng)矩形平面磁控單靶時(shí)容易忽略這個(gè)問(wèn)題,磁控靶面與真空室金屬殼體內(nèi)壁的小極間距一般亦建議不小于2英2口寸。山東錳鎳酸鋰靶材

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商?,綁定平臺(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。

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