PVD技術(shù)簡介PVD技術(shù)是在真空中將鈦、金、石墨、水晶等金屬或非金屬、氣體等材料利用濺射、蒸發(fā)或離子鍍等技術(shù)，在基材上形成薄膜的一種表面處理過程。與傳統(tǒng)化學(xué)鍍膜方法相比，PVD有很多優(yōu)點(diǎn)：如對(duì)環(huán)境無污染，是綠色環(huán)保工藝；對(duì)操作者無傷害；膜層牢固、致密性好、抗腐蝕性強(qiáng)，膜厚均勻。PVD技術(shù)中經(jīng)常使用的方法主要有：蒸發(fā)鍍膜（包括電弧蒸發(fā)、電子蒸發(fā)、電阻絲蒸發(fā)等技術(shù)）、濺射鍍膜（包括直流磁控濺射、中頻磁控濺射、射頻濺射等技術(shù)），這些方法統(tǒng)稱物相沉積（PhysicalVaporDeposition），簡稱為PVD。行業(yè)內(nèi)通常所說的“IP”（ionplating）離子鍍膜，是因?yàn)樵赑VD技術(shù)中各種氣體離子和金屬離子參與成膜過程并起到重要作用，為了強(qiáng)調(diào)離子的作用，而統(tǒng)稱為離子鍍膜。而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場致弧光放電---打弧，使陰極濺射無法進(jìn)行下去。南京鋇靶圖片

密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一.在靶材的技術(shù)工藝中為了減少靶材固體中的氣孔，提高濺射薄膜的性能，一般是要求靶材必須具有較高的密度。因?yàn)榘胁闹饕匦悦芏葘?duì)濺射速率有著很大的影響，并且影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。靶材密度越高，薄膜的性能越好。

是晶粒尺寸及晶粒尺寸分布。通常靶材為多晶結(jié)構(gòu)，晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。對(duì)于同一種靶材，晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快；而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。 常州鋅鋁靶選型在一定功率的情況下，參與化合物生成的反應(yīng)氣體量增加，化合物生成率增加。

磁控濺射不起輝的常見原因有哪些，怎么應(yīng)對(duì)？磁控濺射金屬靶時(shí)，無法起輝的原因有很多，常見主要原因有：

1. 靶材安裝準(zhǔn)確否?

2. 靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì)，打磨清理干凈后即可。

3. 起輝電源是否正常------------檢查靶電源。

4. 靶與地線之間短路

----------關(guān)掉機(jī)器，把設(shè)備的濺射靶卸下來，靶附近的零件仔細(xì)清洗一下；

----------壓靶蓋旋的過緊，沒有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x，調(diào)整距離即可。

5. 永磁靶表面場強(qiáng)是否下降太多？

---------如果下降太多，需要更換磁鋼。

氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   在磁控濺射或反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過程中，工作氣體或反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。   1.工作氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   一般的規(guī)律是：在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著工作氣體(如氬氣)壓強(qiáng)(0.1~10Pa)的逐步增加，氣體放電等離子體的密度也會(huì)同步增加，致使等離子體等效阻抗減小，磁控靶的濺射電流會(huì)逐步上升，濺射工作電壓亦會(huì)同步下降。   2. 反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   在反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過程中，在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著反應(yīng)氣體(如氮?dú)?、氧?壓強(qiáng)(或流量)的逐步增加(一般應(yīng)注意不要超過工藝設(shè)定值的上限值)，隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋，陰-陽極間放電的等效阻抗也會(huì)同步增高，磁控靶的濺射電流會(huì)逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽極消失”為止)，濺射工作電壓亦會(huì)同步上升。果用冷卻壁的翹曲程度嚴(yán)重或背板翹曲嚴(yán)重會(huì)造成靶材安裝時(shí)發(fā)生開裂或彎曲。

但下列情況綁定有弊端：

1.熔點(diǎn)低的靶材，像銦、硒等，金屬化的時(shí)候可能會(huì)變軟變形；

2.貴金屬靶材，一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧，二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料，建議墊一片銅片。

三.背靶的選擇

對(duì)材質(zhì)的要求：一般選用無氧銅和鉬靶，厚度在3mm左右；

導(dǎo)電性好：常用無氧銅，無氧銅的導(dǎo)熱性比紫銅好；

強(qiáng)度足夠：太薄，易變形，不易真空密封；

結(jié)構(gòu)要求：空心或者實(shí)心結(jié)構(gòu)；

厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強(qiáng)；太薄，容易變形。 一般靶材拋光后，濺射速率、電壓等工藝參數(shù)比較穩(wěn)定，容易控制。杭州氧化鋅鎵靶功能

當(dāng)濺射靶被化合物全部覆蓋的時(shí)候，靶完全中毒，在靶面上沉積一層化合金屬膜。使其很難被再次反應(yīng)。南京鋇靶圖片

NCVM不導(dǎo)電膜是什么，它有哪些特點(diǎn)？ NCVM又稱不連續(xù)鍍膜技術(shù)或不導(dǎo)電電鍍技術(shù)，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術(shù)。真空電鍍，簡稱VM，是vacuum metallization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運(yùn)用化學(xué)、物理等特定手段進(jìn)行有機(jī)轉(zhuǎn)換，使金屬轉(zhuǎn)換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM，是英文Non conductive vacuum metallization的縮寫。它的加工工藝高于普通真空電鍍，其加工制程比普通制程要復(fù)雜得多。 NCVM特點(diǎn)是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各相不連續(xù)之特性，得到外觀有金屬質(zhì)感且不影響到無線通訊傳輸之效果。首先要實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電，滿足無線通訊產(chǎn)品的正常使用；其次要保證“金屬質(zhì)感”這一重要的外觀要求；通過UV涂料與鍍膜層結(jié)合，保證產(chǎn)品的物性和耐候性，滿足客戶需求。南京鋇靶圖片

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂兩套，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。