真空技術中的清潔處理 (一)概述    真空技術清潔處理一般指的是真空裝置的結構材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強度和氣密性，提高產品的壽命 和可靠性。 (二)污染物的幾種類型 ①油脂:加工、安裝和操作時沾染的潤滑劑、真空油脂等; ②水滴:操作時的手汗，吹玻璃時的唾液等; ③表面氧化物:易氧化材料長期基露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物; ④酸、堿、鹽類物質:清洗后的殘余物質、手汗、自來水中的礦物質等; ⑤空氣中的塵埃及其它有機物。 (三)污染的形成及其影響 真空裝置由許多不同的零件組成，它們都是經過各種機械加工完成的，如車、銑、刨、磨、銼、焊接等。這樣，零件表面不可避免地會沾上許多加工油脂、汗痕、拋光膏、焊劑、金屬屑、油垢等污染物。這些污染物在真空中易揮發(fā)，影響真空設備的極限真空。此外，污染物在大氣壓下吸附了大量的氣體，在真空環(huán)境中，這些氣體也要被釋放出來。構成了限制真空設備極限真空的因素。為此，零件組裝前必須掉污染物。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結構表面進行。南通碳化鉭靶材綁定

本實施例中，所述防護層400的材料。在其他實施例中，所述防護層的材料還可以為橡膠或棉花。

本實施例中，所述防護層400與所述固定板200間通過粘結劑相粘接。所述防護層400與所述拋光片300間也通過粘結劑相粘接。在其他實施例中，所述拋光片朝向所述防護層的表面上具有勾刺結構(圖中未示出)，所述防護層與所述拋光片間通過所述勾刺結構相固定。

所述防護層400包括防護層和第二防護層，所述防護層覆蓋所述頂板210底部表面；所述第二防護層覆蓋所述側板220的內側面。所述防護層表面與第二防護層表面相垂直。 揚州V2O3靶材工廠厚度適中：3mm左右，太厚，消耗部分磁強；太薄，容易變形。

非晶硅薄膜 多晶硅薄膜具有較高的電遷移率和穩(wěn)定的光電性能，是制備微電子器件、薄膜晶體管、大面積平板液晶顯示的質量材料。多晶硅薄膜被公認為是制備低耗、理想的薄膜太陽能電池的材料。因此，如何制備多晶硅薄膜是一個非常有意義的研究課題。固相法是制備多晶硅薄膜的一種常用方法，它是在高溫退火的條件下，使非晶硅薄膜通過固相相變而成為多晶硅薄膜。本文采用固相法，利用X- ray 衍射及拉曼光譜，對用不同方法制備的非晶硅薄膜的晶化過程進行了系統(tǒng)地研究。   在硅薄膜太陽能電池材料中，非晶硅薄膜太陽能電池制造工藝相對簡單，但是存在光電轉換效率低，壽命短，穩(wěn)定性不好，并且存在光致衰退效應(S-W 效應)等缺點。單晶硅薄膜太陽能電池因為制作工藝和制作成本等原因始終得不到推廣，而多晶硅薄膜材料在長波段具有光敏性，能有效的吸收可見光并且具有光照穩(wěn)定性。

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設計和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據客戶的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達到真金的亮度。 4. 銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調整，可分冷色系列和暖色系列，冷色系列帶藍調，金屬光感好，暖色系列帶黃調，接近不銹鋼本色。 5. 黑色系列，一般是成份是金屬的碳化物，顏色深淺可以調整，色調根據客戶的要求也可以調整，不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調，可以根據客戶的需要選擇不同的膜系。 6. 藍色系列，有天空藍，冰藍色，海洋藍，深藍等等，不同色系成份也有所不一樣。靶材綁定是指用焊料將靶材與背靶焊接起來。

濺射靶材的制備方法有哪些？濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設備在適當工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材普遍應用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導體、磁記錄、平面顯示、太陽能電池等眾多領域，不同領域需要的靶材各不相同。

濺射靶材的制備：

濺射靶材的制備按工藝可分為熔融鑄造和粉末冶金兩大類，除嚴格控制材料純度、致密度、晶粒度以及結晶取向之外，對熱處理條件、后續(xù)加工方法等亦需加以嚴格控制。

粉末冶金法：

粉末冶金法制備靶材時，其關鍵在于：(1)選擇高純、超細粉末作為原料；(2)選擇能實現快速致密化的成形燒結技術，以保證靶材的低孔隙率，并控制晶粒度；(3)制備過程嚴格控制雜質元素的引入。 由于活性反應氣體粒子與靶面原子相碰撞產生化學反應生成化合物原子。南通碳化鉭靶材綁定

因為用處不一樣，所以不同用途的靶材對不同雜質含量的要求也不同。南通碳化鉭靶材綁定

中頻雙靶反應磁控濺射與直流反應磁控濺射相比具有以下幾個顯巨優(yōu)點：   (1)消除了靶面打弧放電現象，中頻反應磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應磁控濺射鍍制的同種膜相比，膜面缺 陷要少幾個數量級;   (2)可以得到比直流反應磁控濺射高出數倍的濺射沉積速率;   (3)中頻雙靶反應磁控濺射的整個濺射沉積過程，可以始終穩(wěn)定在所設定的工作點上，為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產提供了條件。   選用非對稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同，使用單個磁控靶進行反應磁控濺射，調節(jié)相應的鍍膜工藝參數，可以消除磁控靶面打弧放電現象和實現長時間穩(wěn)定的薄膜沉積，可以達到上述“中頻-雙靶反應磁控濺射”的同樣效果。南通碳化鉭靶材綁定

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內外**研發(fā)機構合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產出多系列***濺射靶材產品。 公司目前主要生產金屬，合金，陶瓷三大類靶材產品。經過幾年的發(fā)展和技術積累，已經擁有：真空熱壓，冷壓燒結，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。