什么是電致變色，它有哪些分類：電致變色是指材料的光學(xué)屬性（反射率、透過(guò)率、吸收率等）在外加電場(chǎng)的作用下發(fā)生穩(wěn)定、可逆的顏色變化的現(xiàn)象，在外觀上表現(xiàn)為顏色和透明度的可逆變化。具有電致變色性能的材料稱為電致變色材料，用電致變色材料做成的器件稱為電致變色器件。電致變色材料分類：一、無(wú)機(jī)電致變色材料無(wú)機(jī)電致變色材料的典型是三氧化鎢，目前，以WO3為功能材料的電致變色器件已經(jīng)產(chǎn)業(yè)化。二、有機(jī)電致變色材料有機(jī)電致變色材料主要有聚噻吩類及其衍生物、紫羅精類、四硫富瓦烯、金屬酞菁類化合物等。以紫羅精類為功能材料的電致變色材料已經(jīng)得到實(shí)際應(yīng)用。靶材的密度不僅影響濺射速率，還影響著薄膜的電學(xué)和光學(xué)性能。南京硫化鐵靶廠家

高純金屬的純度分析原則：高純金屬材料的純度一般用減量法衡量。減量計(jì)算的雜質(zhì)元素主要是金屬雜質(zhì)，不包括C,O,N,H等間隙元素，但是間隙元素的含量也是重要的衡量指標(biāo)，一般單獨(dú)提出。依應(yīng)用背景的不同，要求進(jìn)行分析的雜質(zhì)元素種類少則十幾種,多則70多種。簡(jiǎn)單的說(shuō)高純金屬是幾個(gè)N(九)并不能真正的表達(dá)其純度,只有提供雜質(zhì)元素和間隙元素的種類及其含量才能明確表達(dá)高純金屬的純度水平。高純金屬的純度檢測(cè)應(yīng)以實(shí)際應(yīng)用需要作為主要標(biāo)準(zhǔn)，例如目前工業(yè)電解鈷的純度一般接99.99%,而且檢測(cè)的雜質(zhì)元素種類較少。我國(guó)電解鈷的有色金屬行業(yè)標(biāo)準(zhǔn)(YS/T25522000)要求分析C,S,Mn,Fe,Ni,Cu,As,Pb,Zn,Si,Cd,Mg,P,Al,Sn,Sb,Bi等17個(gè)雜質(zhì)元素,Co9998電解鈷的雜質(zhì)總量不超過(guò)0.02，但這仍然不能滿足功能薄膜材料材料的要求[2]。合肥鈰靶為確保足夠的導(dǎo)熱性，可以在陰極冷卻壁與靶材之間加墊一層石墨紙。

磁控濺射制備非晶硅薄膜   本實(shí)驗(yàn)采用石英玻璃為襯底，實(shí)驗(yàn)前先將玻璃襯底浸泡在溶液中，放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機(jī)清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機(jī)中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設(shè)備上，分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前，預(yù)濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式， 濺射功率為100 W， 本底真空度6×10- 4 Pa ， 濺射時(shí)間20 min，濺射氣壓0.5 Pa，襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式，濺射功率150 W，本底真空度6×10- 4 Pa，濺射時(shí)間120 min，濺射氣壓2.0 Pa，襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊，其中各保留一小塊不做退火處理，其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃，2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導(dǎo)方法，研究非晶硅薄膜的晶化過(guò)程。

ITO薄膜制作過(guò)程中的影響因素    ITO薄膜在濺鍍過(guò)程中會(huì)產(chǎn)生不同的特性，有時(shí)候表面光潔度比較低，出現(xiàn)“麻點(diǎn)”的現(xiàn)象，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)高蝕間隔帶，在蝕刻時(shí)還會(huì)出現(xiàn)直線放射型缺劃或電阻偏高帶，有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)微晶溝縫。         常用的ITO靶材是通過(guò)燒結(jié)法生產(chǎn)的，就是由氧化銦（In2O3）和氧化錫（SnO2）粉末按照一定的比例進(jìn)行混合，通常質(zhì)量比是90%In2O3和10% SnO2，形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體（氧化銦錫，ITO）。一般通過(guò)外觀就可以了解ITO靶材的質(zhì)量，深灰色是好的，相反越黑質(zhì)量越差，我國(guó)生產(chǎn)的ITO靶材質(zhì)量還可以的是黑灰色的。         研究顯示，在真空鍍膜機(jī)ITO薄膜濺鍍過(guò)程中，使用磁控濺射的方式，基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見(jiàn)光透過(guò)率下，電阻率達(dá)到低，而薄膜的結(jié)晶度也隨著基底溫度的提高而提高，晶粒尺寸也逐漸增大，超過(guò)200℃后透射率趨于減弱；使用電子束蒸鍍的方式，隨著退火溫度升高，晶粒尺寸變大，表面形貌均一穩(wěn)定，超過(guò)600℃后顆粒變得大小不一，形狀各異，小顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重，薄膜表面形貌破壞。磁控濺射不起輝的常見(jiàn)原因有哪些，怎么應(yīng)對(duì)？

非晶硅薄膜 多晶硅薄膜具有較高的電遷移率和穩(wěn)定的光電性能，是制備微電子器件、薄膜晶體管、大面積平板液晶顯示的質(zhì)量材料。多晶硅薄膜被公認(rèn)為是制備低耗、理想的薄膜太陽(yáng)能電池的材料。因此，如何制備多晶硅薄膜是一個(gè)非常有意義的研究課題。固相法是制備多晶硅薄膜的一種常用方法，它是在高溫退火的條件下，使非晶硅薄膜通過(guò)固相相變而成為多晶硅薄膜。本文采用固相法，利用X- ray 衍射及拉曼光譜，對(duì)用不同方法制備的非晶硅薄膜的晶化過(guò)程進(jìn)行了系統(tǒng)地研究。   在硅薄膜太陽(yáng)能電池材料中，非晶硅薄膜太陽(yáng)能電池制造工藝相對(duì)簡(jiǎn)單，但是存在光電轉(zhuǎn)換效率低，壽命短，穩(wěn)定性不好，并且存在光致衰退效應(yīng)(S-W 效應(yīng))等缺點(diǎn)。單晶硅薄膜太陽(yáng)能電池因?yàn)橹谱鞴に嚭椭谱鞒杀镜仍蚴冀K得不到推廣，而多晶硅薄膜材料在長(zhǎng)波段具有光敏性，能有效的吸收可見(jiàn)光并且具有光照穩(wěn)定性。1. 靶材安裝準(zhǔn)確否? 2. 靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì)，打磨清理干凈后即可。揚(yáng)州氧化鎳靶作用

而是堆積在靶面上，容易產(chǎn)生冷場(chǎng)致弧光放電---打弧，使陰極濺射無(wú)法進(jìn)行下去。南京硫化鐵靶廠家

氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   在磁控濺射或反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過(guò)程中，工作氣體或反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)磁控靶濺射電壓能夠造成一定的影響。   1.工作氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   一般的規(guī)律是：在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著工作氣體(如氬氣)壓強(qiáng)(0.1~10Pa)的逐步增加，氣體放電等離子體的密度也會(huì)同步增加，致使等離子體等效阻抗減小，磁控靶的濺射電流會(huì)逐步上升，濺射工作電壓亦會(huì)同步下降。   2. 反應(yīng)氣體壓強(qiáng)對(duì)靶濺射電壓的影響   在反應(yīng)磁控濺射鍍膜的工藝過(guò)程中，在真空設(shè)備環(huán)境條件確定和靶電源的控制面板設(shè)置參數(shù)不變時(shí)，隨著反應(yīng)氣體(如氮?dú)狻⒀鯕?壓強(qiáng)(或流量)的逐步增加(一般應(yīng)注意不要超過(guò)工藝設(shè)定值的上限值)，隨著磁控靶面和基片(工件)表面逐步被絕緣膜層覆蓋，陰-陽(yáng)極間放電的等效阻抗也會(huì)同步增高，磁控靶的濺射電流會(huì)逐步下降(直至“陰極中毒”和“陽(yáng)極消失”為止)，濺射工作電壓亦會(huì)同步上升。南京硫化鐵靶廠家

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù)，并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車(chē)玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商?，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。