真空離子鍍的耐腐蝕性：   金屬零件是要銹蝕的，但如果零件上鍍有一層防蝕鍍層，就能防止零件生銹。由于離子鍍所獲得的鍍層致密度高，少，耐腐蝕性能好，并能沉積許多其他工藝至今不能沉積的優(yōu)良防腐蝕鍍層。因此，離子鍍目前在鍍防腐蝕材料方面應用廣。如水上飛機的壁板及其他外表零件，可用此法鍍復防止鹽霧和海水腐蝕的防蝕鍍層;與鋁合金零件相配合的其他材料零件也可用此法鍍鋁，以防止電位差腐蝕。此外，隨著飛機飛行速度和高度的提高以及宇宙探索的進展，鈦合金的應用越來越多，如果仍象鋁合金零件那樣采用鍍鎘防腐蝕，使用中就有鎘脆的危險;但如若鍍以三氧化二鋁，則能完全滿足要求。不過電鍍等工藝是無法鍍這種材料的。離子鍍卻能大顯神通。到目前為止，適合于用離子鍍的防蝕材料除氧化鋁以外，還有鉻、鈦、鉭、不銹鋼等。所鍍的航空零件有螺釘、螺帽、鉚釘、銷釘、導管、接頭、陀螺轉(zhuǎn)子、精密齒輪、金屬密封環(huán)等。化學反應必須在一個固體表面進行。反應濺射生成物在靶表面、基片表面、和其他結(jié)構(gòu)表面進行。成都鋯靶圖片

真空技術中的清潔處理(一)概述真空技術清潔處理一般指的是真空裝置的結(jié)構(gòu)材料、填裝材料和真空零(部)件的清潔處理。去除或減少污染物將有利于獲得良好真空，增加連接強度和氣密性，提高產(chǎn)品的壽命和可靠性。(二)污染物的幾種類型①油脂:加工、安裝和操作時沾染的潤滑劑、真空油脂等;②水滴:操作時的手汗，吹玻璃時的唾液等;③表面氧化物:易氧化材料長期基露或放置在潮濕大氣中所形成的表面氧化物;④酸、堿、鹽類物質(zhì):清洗后的殘余物質(zhì)、手汗、自來水中的礦物質(zhì)等;⑤空氣中的塵埃及其它有機物。(三)污染的形成及其影響真空裝置由許多不同的零件組成，它們都是經(jīng)過各種機械加工完成的，如車、銑、刨、磨、銼、焊接等。這樣，零件表面不可避免地會沾上許多加工油脂、汗痕、拋光膏、焊劑、金屬屑、油垢等污染物。這些污染物在真空中易揮發(fā)，影響真空設備的極限真空。此外，污染物在大氣壓下吸附了大量的氣體，在真空環(huán)境中，這些氣體也要被釋放出來。構(gòu)成了限制真空設備極限真空的因素。為此，零件組裝前必須掉污染物。合肥釕酸鍶靶價錢而晶粒尺寸相差較小(分布均勻)的靶濺射沉積的薄膜的厚度分布更均勻。

玫瑰金靶材有哪些？ PVD玫瑰金是靠濺射玫瑰金靶形成的，不同的玫瑰金靶配方顏色上有一些區(qū)別，大概分為以下幾種： 1、皇冠金（crown gold），黃金含量在22K(91.667％)，由英國亨利八世(1526年)將此比例的黃金用于金幣的鑄造 2、常見的也是典型的18K玫瑰金，黃金含量也在18K(75％)，但其它另含有約4％的銀和21％的銅，呈現(xiàn)美麗的淡粉玫瑰色 3、14K紅金，黃金含量在14K(58.33％)，其它添加金屬為銅(41.67％)。 有的PVD鍍膜廠玫瑰金靶也有添加一些其它的稀有元素，用來達到不同的色調(diào)或用來改變鍍層的性能，這也是市面上每一家PVD廠鍍出的色調(diào)都有一些差異的原因之一。

中頻雙靶反應磁控濺射與直流反應磁控濺射相比具有以下幾個顯巨優(yōu)點：   (1)消除了靶面打弧放電現(xiàn)象，中頻反應磁控濺射鍍制的絕緣薄膜與直流反應磁控濺射鍍制的同種膜相比，膜面缺 陷要少幾個數(shù)量級;   (2)可以得到比直流反應磁控濺射高出數(shù)倍的濺射沉積速率;   (3)中頻雙靶反應磁控濺射的整個濺射沉積過程，可以始終穩(wěn)定在所設定的工作點上，為大規(guī)模工業(yè)化穩(wěn)定生產(chǎn)提供了條件。   選用非對稱雙極脈沖靶電源與選用“雙靶-中頻靶電源”不同，使用單個磁控靶進行反應磁控濺射，調(diào)節(jié)相應的鍍膜工藝參數(shù)，可以消除磁控靶面打弧放電現(xiàn)象和實現(xiàn)長時間穩(wěn)定的薄膜沉積，可以達到上述“中頻-雙靶反應磁控濺射”的同樣效果。請參考設備商操作手冊中關于如何正確安裝靶材的相關信息。

6. 起輝濺射真空度與前次的差別？

---------更換不同的靶材，起輝壓強不盡相同。

換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的，只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。 五．磁控濺射一定要求靶材表面要拋光嗎？磁控濺射過程中，等離子體的離子撞擊靶材，濺射出靶材的原子、原子團、離子、電子、光子等，原子、離子、原子團沉積到基材上形成薄膜。

濺射發(fā)生在靶材表面，靶材表面物理狀態(tài)不均勻也沒有關系，濺射的時候會先濺射凸起，濺射時間長了，靶材自己就平了。所以物理不均勻的狀態(tài)不需要拋光。 陽極消失：靶中毒時，接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜，到達陽極的電子無法進入陽極，形成陽極消失現(xiàn)象。合肥鋇靶調(diào)試

影響靶中毒的因素主要是反應氣體和濺射氣體的比例，反應氣體過量就會導致靶中毒。成都鋯靶圖片

高純金屬的概念： 任何金屬都不能達到純?！案呒儭焙汀俺儭本哂邢鄬Φ暮x，是指技術上達到的標準。由于技術的發(fā)展，也常使“超純”的標準升級。例如過去高純金屬的雜質(zhì)為 ppm級（即百萬分之幾）,而超純半導體材料的雜質(zhì)達ppb級（十億分之幾）,并將逐步發(fā)展到以ppt級（一萬億分之幾）表示。實際上純度以幾個“9”(N)來表示（如雜質(zhì)總含量為百萬分之一，即稱為6個“9”或6N），是不完整概念，如電子器件用的超純硅以金屬雜質(zhì)計算，其純度相當于9 個“9”。 但如計入碳，則可能不到6個“9”?！俺儭钡南鄬γ~是指“雜質(zhì)”，廣義的雜質(zhì)是指化學雜質(zhì)（元素）及“物理雜質(zhì)”，后者是指位錯及空位等，而化學雜質(zhì)是指基體以外的原子以代位或填隙等形式摻入。但只當金屬純度達到很高的標準時(如純度 9N 以上的金屬)，物理雜質(zhì)的概念才是有意義的， 因此目前工業(yè)生產(chǎn)的金屬仍是以化學雜質(zhì)的含量作為標準，即以金屬中雜質(zhì)總含量為百萬分之幾表示。成都鋯靶圖片

江陰典譽新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進技術，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務。 江陰典譽新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領域。同時也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗用靶材。 江陰典譽目前擁有真空熱壓爐兩臺，冷壓燒結(jié)爐一臺，真空熔煉設備兩臺，等靜壓設備一臺，等離子噴涂兩套，綁定平臺兩套，各類機加工設備七臺，檢驗設備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達到甚至超過客戶的預期。 江陰典譽秉承：“一切以客戶的需求為導向，客戶的所有需求一次做好?！钡陌l(fā)展理念。