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磁控靶濺射沉積率的影響因素 濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù),其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場(chǎng)強(qiáng)度、靶源與基片的間距等影響因素外,還受靶面的功率密度,亦即靶電源輸出的“濺射電壓與電流”兩個(gè)重要因素的直接影響。 1、濺射電壓與沉積率 在影響濺射系數(shù)的諸因數(shù)中,當(dāng)靶材、濺射氣體等業(yè)已選定之后,比較起作用的就是磁控靶的放電電壓。一般來(lái)說,在磁控濺射正常工藝范圍內(nèi),放電電壓越高,磁控靶的濺射系數(shù)就越大。 2、濺射電流與沉積率 磁控靶的濺射電流與靶面離子流成正比,因此對(duì)沉積率的影響比電壓要大得多。增加濺射電流的辦法有兩個(gè):一個(gè)是提高工作電壓;另一個(gè)是適當(dāng)提高工作氣體壓力。 3、濺射功率與沉積率 一般來(lái)說,磁控靶的濺射功率增高時(shí),薄膜的沉積率速率也會(huì)變大;這里有一個(gè)先決條件,就是:加在磁控靶的濺射電壓足夠高,使工作氣體離子在陰-陽(yáng)極間電場(chǎng)中獲得的能量,足以大過靶材的“濺射能量閥值”。使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿,確保工藝過程始終處于沉積速率陡降前的模式。合肥錫鋅靶廠家
有些陰極設(shè)計(jì)是與陽(yáng)極的空隙較小,所以在安裝靶材時(shí)需要確保陰極與陽(yáng)極之間沒有接觸也不能存在導(dǎo)體,否則會(huì)產(chǎn)生短路。
請(qǐng)參考設(shè)備商操作手冊(cè)中關(guān)于如何正確安裝靶材的相關(guān)信息。在收緊靶材夾具時(shí),請(qǐng)先用手轉(zhuǎn)緊一顆鏍栓,再用手轉(zhuǎn)緊對(duì)角線上的另外一顆鏍栓,如此重復(fù)直到安裝上所有鏍栓后,再用工具收緊。七.濺射靶材的制備方法有哪些?濺射靶材是指通過磁控濺射、多弧離子鍍或其他類型的鍍膜設(shè)備在適當(dāng)工藝條件下濺射沉積在基板上形成各種功能薄膜的濺射源。濺射靶材廣泛應(yīng)用于裝飾、工模具、玻璃、電子器件、半導(dǎo)體、磁記錄、平面顯示、太陽(yáng)能電池等眾多領(lǐng)域,不同領(lǐng)域需要的靶材各不相同。 合肥錫鋅靶廠家通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。
磁控濺射不起輝的常見原因有哪些,怎么應(yīng)對(duì)?磁控濺射金屬靶時(shí),無(wú)法起輝的原因有很多,常見主要原因有:
1. 靶材安裝準(zhǔn)確否?
2. 靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì),打磨清理干凈后即可。
3. 起輝電源是否正常------------檢查靶電源。
4. 靶與地線之間短路
----------關(guān)掉機(jī)器,把設(shè)備的濺射靶卸下來(lái),靶附近的零件仔細(xì)清洗一下;
----------壓靶蓋旋的過緊,沒有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x,調(diào)整距離即可。
5. 永磁靶表面場(chǎng)強(qiáng)是否下降太多?
---------如果下降太多,需要更換磁鋼。
氧化物鍍膜技術(shù)在真空鍍鋁膜中的應(yīng)用 近年來(lái),迅速發(fā)展微波加熱技術(shù)給微波食品包裝及需經(jīng)微波殺 菌消毒的一類商品的包裝提出了新的要求,即包裝材料不要具有優(yōu)良的阻隔性能,而且還要耐高溫、微波透過性好等特性,傳統(tǒng)的包裝材料很難具備這些特點(diǎn)。因此,近年來(lái)日本、德國(guó)、美國(guó)等國(guó)家大力研究開發(fā)新型的高阻隔性包裝材料——SiOX和其它金屬氧化物鍍膜復(fù)合材料。這類材料除了阻隔性能可以與鋁塑復(fù)合材料相媲美外,同時(shí)還具有微波透過性好、耐高溫、透明、受環(huán)境溫度濕度影響小等優(yōu)點(diǎn)。 非金屬鍍膜可采用蒸鍍?cè)峡刹捎肧iOX、SiO2,也可以采用其它氧化物如Al2O3、 MgO、Y2O3、TiO2、Gd2O3等,其中常用的是SiOX、AlOx。氧化物鍍膜的蒸發(fā)源有電阻式和電子束兩種,電阻式蒸發(fā)源以電阻通過發(fā)熱的原理來(lái)加熱蒸鍍?cè)?,高加熱溫度可達(dá)1700℃。電子束蒸發(fā)源利用加速電子碰撞蒸鍍?cè)隙蛊湔舭l(fā),蒸發(fā)源配有電子,在材料局部位置上而形成加熱束斑,束斑溫度可達(dá)3000~6000℃,能量密度高可達(dá)20KW/cm2。 實(shí)驗(yàn)表明只有PP、PET、PA等材料才能較適合氧化物鍍膜加工。靶中毒時(shí),靶面形成一層絕緣膜,正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋,不能直接進(jìn)入陰極靶面。
磁控濺射離子鍍 (1)在基體和工件上是否施加(直流或脈沖)負(fù)偏壓,利用負(fù)偏壓對(duì)離子的吸引和加速作用,是離子鍍與其它鍍膜類型的一個(gè)主要區(qū)別。蒸發(fā)鍍時(shí)基體和工件上加有負(fù)偏壓就是蒸發(fā)離子鍍 ;多弧鍍時(shí)基體和工件上加有負(fù)偏壓就是多弧離子鍍;磁控濺射時(shí)基體和工件上加有負(fù)偏壓就是磁控濺射離子鍍,這是磁控濺射離子鍍技術(shù)的一個(gè)重要特點(diǎn)。 (2)磁控濺射離子鍍是把磁控濺射和離子鍍結(jié)合起來(lái)的技術(shù)。在同一個(gè)真空腔體內(nèi)既可實(shí)現(xiàn)氬離子對(duì)磁控靶材的穩(wěn)定濺射,又實(shí)現(xiàn)了高能靶材離子在基片負(fù)偏壓作用下到達(dá)基片進(jìn)行轟擊、濺射、注入及沉積作用過程。整個(gè)鍍膜過程都存在離子對(duì)基片和工件表面的轟擊,可有效基片和工件表面的氣體和污物;使成膜過程中,膜層表面始終保持清潔狀態(tài)。 (3) 磁控濺射離子鍍可以在膜-基界面上形成明顯的混合過渡層(偽擴(kuò)散層),提高膜層附著強(qiáng)度;可以使膜層與工件形成金屬間化合物和固熔體,實(shí)現(xiàn)材料表面合金化,甚至出現(xiàn)新的晶相結(jié)構(gòu)。 (4)磁控濺射離子鍍形成膜層的膜基結(jié)合力好、膜層的繞鍍性好、膜層組織可控參數(shù)多、膜層粒子總體能量高,容易進(jìn)行反應(yīng)沉積,可以在較低溫度下獲得化合物膜層。所以在安裝靶材時(shí)需要對(duì)陰極冷卻水槽進(jìn)行檢查和清理,確保冷卻水循環(huán)的順暢和進(jìn)出水口不會(huì)被堵塞。合肥錫鋅靶廠家
對(duì)于同一種靶材,晶粒細(xì)小的靶的濺射速率比晶粒粗大的靶的濺射速率快。合肥錫鋅靶廠家
純度
純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一,因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過在實(shí)際應(yīng)用中,對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如,隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展,硅片尺寸由6”、 8”發(fā)展到12”, 而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um,以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求,而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。
2.雜質(zhì)含量
靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如,半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材,對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。 合肥錫鋅靶廠家
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商祝壎ㄆ脚_(tái)兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。