純度：純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。不過在實(shí)際應(yīng)用中，對(duì)靶材的純度要求也不盡相同。例如，隨著微電子行業(yè)的迅速發(fā)展，硅片尺寸由6”、8”發(fā)展到12”,而布線寬度由0.5um減小到0.25um,0.18um甚至0.13um，以前99.995%的靶材純度可以滿足0.35umIC的工藝要求，而制備0.18um線條對(duì)靶材純度則要求99.999%甚至99.9999%。雜質(zhì)含量：靶材固體中的雜質(zhì)和氣孔中的氧氣和水氣是沉積薄膜的主要污染源。不同用途的靶材對(duì)不同雜質(zhì)含量的要求也不同。例如，半導(dǎo)體工業(yè)用的純鋁及鋁合金靶材，對(duì)堿金屬含量和放射性元素含量都有特殊要求。純度是靶材的主要性能指標(biāo)之一，因?yàn)榘胁牡募兌葘?duì)薄膜的性能影響很大。成都Ge靶材功能

所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例4本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.9mm；所述靶材表面的硬度為25hv；其中，所述靶材的比較大厚度為24mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為3°；所述斜面位于所述***平面和第二平面之間；所述***平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鋁；所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。實(shí)施例5本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.82mm；所述靶材表面的硬度為21hv；杭州鏑靶材作用導(dǎo)電膠：采用的導(dǎo)電膠要耐高溫，厚度在0.02-0.05um。

電解錳片狀99.7%1-10mm真空熔煉Co-F3501電解鈷片狀99.95%1-10mm真空熔煉Co-I3504電積鈷塊狀99.95%40*40*5mm真空熔煉Co-G3533鈷顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉W-G3536m真空熔煉Ta-G3533鉭顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Nb-G3533鈮顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Mo-G3533m真空熔煉Si-I5011多晶硅塊狀99.999%不規(guī)則塊狀真空熔煉In-G4501銦顆粒99.995%1-3mm真空熔煉Zr-I2402海綿鋯塊狀99.4%3-25mm真空熔煉Hf-I2402海m真空熔煉Ge-G5006鍺顆粒99.999%3-5mm真空熔煉La-I3011鑭塊狀99.9%不規(guī)則塊狀真空熔煉Er-I3011鉺塊狀99.9%不規(guī)則塊狀真空熔煉Dy-I3011鏑塊狀99.9%不規(guī)則塊狀真空熔煉W-P3504鎢粉末99.95%325目粉末冶金Al-P3504&nbs5目粉末冶金TiC-P2514碳化鈦粉末99.5%3-5μm粉末冶金HfC-P2514碳化鉿粉末99.5%3-5μm粉末冶金ZrB2-P2519二硼化鋯粉末99.5%10μm粉末冶金Ti-F2612.2*L耗材配件Ta-F3513鉭0*0.2mm耗材配件Nb-F3513*100*0.2mm耗材配件合金定制流程：1.客戶提供需要的配比、塊材大小和用量要求；

NCVM不導(dǎo)電膜是什么，它有哪些特點(diǎn)？ NCVM又稱不連續(xù)鍍膜技術(shù)或不導(dǎo)電電鍍技術(shù)，是一種起緣普通真空電鍍的高新技術(shù)。真空電鍍，簡(jiǎn)稱VM，是vacuum metallization的縮寫。它是指金屬材料在真空條件下，運(yùn)用化學(xué)、物理等特定手段進(jìn)行有機(jī)轉(zhuǎn)換，使金屬轉(zhuǎn)換成粒子，沉積或吸附在塑膠材料的表面，形成膜，也就是我們所謂的鍍膜。真空不導(dǎo)電電鍍，又稱NCVM，是英文Non conductive vacuum metallization的縮寫。它的加工工藝高于普通真空電鍍，其加工制程比普通制程要復(fù)雜得多。 NCVM特點(diǎn)是采用鍍出金屬及絕緣化合物等薄膜，利用各相不連續(xù)之特性，得到外觀有金屬質(zhì)感且不影響到無線通訊傳輸之效果。首先要實(shí)現(xiàn)不導(dǎo)電，滿足無線通訊產(chǎn)品的正常使用；其次要保證“金屬質(zhì)感”這一重要的外觀要求；通過UV涂料與鍍膜層結(jié)合，保證產(chǎn)品的物性和耐候性，滿足客戶需求。采用中頻電源或射頻電源。

本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件，所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.78mm；所述靶材表面的硬度為26hv；其中，所述靶材的比較大厚度為22mm；所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板；所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu)；所述靶材包括用于濺射的濺射面；所述濺射面包括平面、第二平面和斜面；所述斜面與水平面的夾角為4°；所述斜面位于所述平面和第二平面之間；所述平面為圓形；所述第二平面為環(huán)形；所述靶材的材質(zhì)包括鈦；所述背板的材質(zhì)包括鋁。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好，使得濺射過程中薄膜厚度均勻，使用壽命增加。對(duì)比例1與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.5mm；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。對(duì)比例2與實(shí)施例1的區(qū)別 在于所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為8mm；所得靶材組件濺射強(qiáng)度差，使得濺射過程中薄膜厚度不均勻，使用壽命減少。此外，提高靶材的密度和強(qiáng)度使靶材能更好地承受濺射過程中的熱應(yīng)力。杭州ZrCu靶材廠家

由金屬靶面通過反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過程中，化合物是在哪里形成的呢？成都Ge靶材功能

常見的PVD裝飾膜主要有幾大色系： 1.IP玫瑰金（rose gold）是一種黃金和銅的合金，由于其具有非常時(shí)尚、靚麗的玫瑰紅色彩，因而普遍用于首飾設(shè)計(jì)和加工。又稱粉色金（pink gold）、紅色金（red gold）。 2. IP金，用離子鍍膜的方式，讓靶材上的黃金沉積到要鍍的工件之上，一般由仿金層和表面金層兩層，表面金層的顏色與24K黃金一樣，厚度可以根據(jù)客戶的要求鍍不同的厚度。 3. 仿金系列（包括仿金色和仿玫瑰金），不含黃金，一般成份是由TiN TiCN ZrN ZrCN等陶瓷化合物組成，但很難達(dá)到真金的亮度。 4. 銀色系列，一般是鉻的化合物，顏色深淺可調(diào)整，可分冷色系列和暖色系列，冷色系列帶藍(lán)調(diào)，金屬光感好，暖色系列帶黃調(diào)，接近不銹鋼本色。 5. 黑色系列，一般是成份是金屬的碳化物，顏色深淺可以調(diào)整，色調(diào)根據(jù)客戶的要求也可以調(diào)整，不同的金屬碳化物具有不同的特性和色調(diào)，可以根據(jù)客戶的需要選擇不同的膜系。 6. 藍(lán)色系列，有天空藍(lán)，冰藍(lán)色，海洋藍(lán)，深藍(lán)等等，不同色系成份也有所不一樣。成都Ge靶材功能

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市，是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司，濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù)，并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作，整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì)，生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬，合金，陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累，已經(jīng)擁有：真空熱壓，冷壓燒結(jié)，真空熔煉，熱等靜壓，等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材：平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái)，冷壓燒結(jié)爐一臺(tái)，真空熔煉設(shè)備兩臺(tái)，等靜壓設(shè)備一臺(tái)，等離子噴涂?jī)商?，綁定平臺(tái)兩套，各類機(jī)加工設(shè)備七臺(tái)，檢驗(yàn)設(shè)備若干，確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承：“一切以客戶的需求為導(dǎo)向，客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。