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無(wú)錫TaC靶材工廠(chǎng)

來(lái)源: 發(fā)布時(shí)間:2021-12-05

拋光片第二部分320呈弧狀,與經(jīng)圓角處理的靶材側(cè)棱相匹配,可對(duì)靶材側(cè)棱進(jìn)行拋光。所述拋光片第三部分330表面為平整的平面,能夠?qū)Π胁膫?cè)壁表面進(jìn)行拋光。因此所述靶材拋光裝置100能夠同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光,有助于提高拋光作業(yè)效率。由于操作人員同時(shí)對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱進(jìn)行拋光,因此操作人員施加在靶材側(cè)壁表面及側(cè)棱上的力度差異小,拋光工藝結(jié)束后,靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面具有相近似甚至完全相同的平整度,使得拋光表面具有良好的均一性,有助于改善濺射鍍膜質(zhì)量。若分步驟對(duì)靶材側(cè)壁表面及經(jīng)圓角處理的側(cè)棱表面進(jìn)行拋光,操作人員在兩個(gè)步驟中施加的力度容易差別較大,造成拋光處理后,靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面粗糙度差異大,使得靶材側(cè)壁表面與側(cè)棱表面交接處具有臺(tái)階。在濺射鍍膜過(guò)程中,所述臺(tái)階容易導(dǎo)致前列放電,影響濺射鍍膜的均一性,造成鍍膜質(zhì)量差。金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì),打磨清理干凈后即可。無(wú)錫TaC靶材工廠(chǎng)

磁控濺射制備非晶硅薄膜   本實(shí)驗(yàn)采用石英玻璃為襯底,實(shí)驗(yàn)前先將玻璃襯底浸泡在溶液中,放到JHN- 4F(200 W)超聲波清洗機(jī)清洗30 min;然后用分析乙醇同樣在超聲波清洗機(jī)中清洗30 min; 放入裝有去離子水的燒杯中在超聲波清洗器中清洗約30 min 后晾干。然后以高純硅為靶材在JGP500型超高真空磁控濺射設(shè)備上,分別采用直流和射頻方式制備了兩塊樣品。在濺射前,預(yù)濺射5 min以除去靶材表面氧化物。1# 樣品采用直流磁控濺射方式, 濺射功率為100 W, 本底真空度6×10- 4 Pa , 濺射時(shí)間20 min,濺射氣壓0.5 Pa,襯底溫度為室溫。2#樣品采用射頻磁控濺射方式,濺射功率150 W,本底真空度6×10- 4 Pa,濺射時(shí)間120 min,濺射氣壓2.0 Pa,襯底溫度為室溫。樣品1# 和2# 均切為3 小塊,其中各保留一小塊不做退火處理,其他的小塊樣品處理情況為1#750℃、1#850℃,2#750℃、2#850℃在馬弗爐中退火1h。將1# 和2#未處理樣品用拉曼激光誘導(dǎo)方法,研究非晶硅薄膜的晶化過(guò)程。蘇州Tb靶材調(diào)試由金屬靶面通過(guò)反應(yīng)濺射工藝形成化合物的過(guò)程中,化合物是在哪里形成的呢?

靶中毒的解決辦法(1)采用中頻電源或射頻電源。(2)采用閉環(huán)控制反應(yīng)氣體的通入量。(3)采用孿生靶(4)控制鍍膜模式的變換:在鍍膜前,采集靶中毒的遲滯效應(yīng)曲線(xiàn),使進(jìn)氣流量控制在產(chǎn)生靶中毒的前沿,確保工藝過(guò)程始終處于沉積速率陡降前的模式。磁控濺射不起輝的常見(jiàn)原因有哪些,怎么應(yīng)對(duì)?磁控濺射金屬靶時(shí),無(wú)法起輝的原因有很多,常見(jiàn)主要原因有:1.靶材安裝準(zhǔn)確否?2.靶材表面是否干凈------------金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì),打磨清理干凈后即可。3.起輝電源是否正常------------檢查靶電源。4.靶與地線(xiàn)之間短路----------關(guān)掉機(jī)器,把設(shè)備的濺射靶卸下來(lái),靶附近的零件仔細(xì)清洗一下;----------壓靶蓋旋的過(guò)緊,沒(méi)有和靶材之間留下適當(dāng)?shù)木嚯x,調(diào)整距離即可。5.永磁靶表面場(chǎng)強(qiáng)是否下降太多?---------如果下降太多,需要更換磁鋼。6.起輝濺射真空度與前次的差別?---------更換不同的靶材,起輝壓強(qiáng)不盡相同。換靶材后需要重新調(diào)功率匹配器的,只有功率匹配調(diào)好了才能正常起輝。

所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實(shí)施例4本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.9mm;所述靶材表面的硬度為25hv;其中,所述靶材的比較大厚度為24mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括***平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為3°;所述斜面位于所述***平面和第二平面之間;所述***平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鋁;所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過(guò)程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實(shí)施例5本實(shí)施例提供一種長(zhǎng)壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.82mm;所述靶材表面的硬度為21hv;通常靶材為多晶結(jié)構(gòu),晶粒大小可由微米到毫米量級(jí)。

所述防護(hù)層400包括防護(hù)層和第二防護(hù)層,所述防護(hù)層覆蓋所述頂板210底部表面;所述第二防護(hù)層覆蓋所述側(cè)板220的內(nèi)側(cè)面。所述防護(hù)層表面與第二防護(hù)層表面相垂直。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層與第二防護(hù)層厚度相等。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層與第二防護(hù)層為一體成型。在其他實(shí)施例中,所述防護(hù)層及第二防護(hù)層還可以為分體的。本實(shí)施例中,所述靶材拋光裝置100還包括:把手,所述把手設(shè)置于所述固定板200的外表面上。為便于操作人員雙手抓握,所述把手的數(shù)量為兩個(gè),其中一個(gè)所述把手設(shè)置于所述固定板200的頂部,另一個(gè)所述把手設(shè)置于所述固定板200的側(cè)壁上,該設(shè)置方式有利于提高操作人員手持所述靶材拋光裝置100進(jìn)行拋光作業(yè)的便捷性。本實(shí)施例中,兩個(gè)所述把手分別為把手510和第二把手520,所述把手510設(shè)置于所述頂板210上,所述第二把手520設(shè)置于所述側(cè)板220上。選擇高純、超細(xì)粉末作為原料。揚(yáng)州銅靶材定制

許多用戶(hù)在采購(gòu)靶材時(shí)沒(méi)有從專(zhuān)業(yè)的角度去考慮,下面為大家指出購(gòu)買(mǎi)靶材時(shí)需要注意的事項(xiàng)。無(wú)錫TaC靶材工廠(chǎng)

磁控濺射鍍膜中出現(xiàn)膜層不良的表現(xiàn)有哪些,如何改善? 1.脫膜主要表現(xiàn):點(diǎn)狀/片狀膜層脫落 原因分析:雜質(zhì)附著,清洗殘留,真空室臟,臟污、油斑、灰點(diǎn)、口水點(diǎn), 膜層局部附著不良等。 改善:加強(qiáng)清洗,加強(qiáng)烘烤,環(huán)境管控(清潔干燥),對(duì)于多層膜系,底層須與基材匹配(吸附力、硬度、熱膨脹)。 2.裂紋/暴膜主要表現(xiàn): 網(wǎng)狀裂痕/龜裂/起泡脫膜,出爐外觀OK,放置一段時(shí)間后爆裂/起泡脫膜。 原因分析:鍍膜過(guò)程基材加熱不充分,成膜后及出爐后降溫過(guò)快,膜層應(yīng)力累積, 膜層與基材不匹配,多層膜之間參數(shù)不匹配。 改善: 基材充分預(yù)熱加熱;增加離子輔助,減小應(yīng)力;鍍膜緩慢降溫;底層須與基材匹配;多層膜之間參數(shù)不突變。 3,色差主要表現(xiàn):同爐產(chǎn)品顏色不一致 原因分析及改善:靶材分布;布?xì)?;磁?chǎng);遮擋。無(wú)錫TaC靶材工廠(chǎng)

江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專(zhuān)業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國(guó)外的先進(jìn)技術(shù),并通過(guò)與國(guó)內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢(shì),生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類(lèi)靶材產(chǎn)品。經(jīng)過(guò)幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶(hù)要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽(yáng)能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車(chē)玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國(guó)內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺(tái),冷壓燒結(jié)爐一臺(tái),真空熔煉設(shè)備兩臺(tái),等靜壓設(shè)備一臺(tái),等離子噴涂?jī)商祝壎ㄆ脚_(tái)兩套,各類(lèi)機(jī)加工設(shè)備七臺(tái),檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠(chǎng)的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過(guò)客戶(hù)的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶(hù)的需求為導(dǎo)向,客戶(hù)的所有需求一次做好?!钡陌l(fā)展理念。

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