所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實(shí)施例3提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.8mm;所述靶材表面的硬度為22hv;其中,所述靶材的比較大厚度為28mm;所述靶材組件還包括用于固定靶材的背板;所述靶材呈凹形結(jié)構(gòu);所述靶材包括用于濺射的濺射面;所述濺射面包括平面、第二平面和斜面;所述斜面與水平面的夾角為3°;所述斜面位于所述平面和第二平面之間;所述平面為圓形;所述第二平面為環(huán)形;所述靶材的材質(zhì)包括鉭;所述背板的材質(zhì)包括銅。所得靶材組件濺射強(qiáng)度好,使得濺射過程中薄膜厚度均勻,使用壽命增加。實(shí)施例4提供一種長壽命靶材組件,所述靶材表面的比較高點(diǎn)和比較低點(diǎn)的垂直距離為5.9mm;所述靶材表面的硬度為25hv;金屬靶表面氧化或有不清潔物質(zhì),打磨清理干凈后即可。常州氮化硅靶材圖片
主要產(chǎn)品:1、鈀 顆粒 99.99%常規(guī)尺寸:φ3*6mm;量大可定做2、鈀 靶材 99.99%?常規(guī)尺寸:φ50*1mm;φ60*3mm;φ76.2*4mm等,尺寸可定做3、電鏡鈀片常規(guī)尺寸:φ57*0.1mm*0.2mm4、鈀 箔片 99.92mm等,尺寸可定做二、其他:打穿的鈀靶材、鈀殘料可提供回收再加工。回收流程如下:稱重----清洗、提純---熔煉加工---靶材等成品高純靶,靶靶材鈀顆粒,鈀粉,鈀靶材產(chǎn)品編碼產(chǎn)品名稱規(guī)格應(yīng)用Sc-I4006鈧x真空熔煉Li-G30610鋰顆粒99.9%φ6*10mm真空熔煉Sr-I2011鍶塊狀99%氮?dú)獍b真空熔煉Mg-G3514鎂顆粒99.93%4mm類球形真空熔煉Mg-I3503鎂塊狀99.95%200g/塊真空熔煉Fe-G3533鐵顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Cr-G3501mm真空熔煉Al-G4066鋁顆粒99.99%φ6*6mm真空熔煉Cu-G5033銅顆粒99.999%φ3*3mm真空熔煉Cu-G3533銅顆粒99.95%φ3*3mm真空熔煉Ti-G3033鈦顆粒99.9%φ3*3mm真空熔煉Ni-G3025鎳顆粒99.9%φ2*5mm真空熔煉V-G3015釩顆粒99.9%樹枝狀真空熔煉Mn-F2701常州氮化硅靶材圖片陽極消失:靶中毒時(shí),接地的真空室壁上也沉積了絕緣膜,到達(dá)陽極的電子無法進(jìn)入陽極,形成陽極消失現(xiàn)象。
ITO薄膜制作過程中的影響因素 ITO薄膜在濺鍍過程中會(huì)產(chǎn)生不同的特性,有時(shí)候表面光潔度比較低,出現(xiàn)“麻點(diǎn)”的現(xiàn)象,有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)高蝕間隔帶,在蝕刻時(shí)還會(huì)出現(xiàn)直線放射型缺劃或電阻偏高帶,有時(shí)候會(huì)出現(xiàn)微晶溝縫。 常用的ITO靶材是通過燒結(jié)法生產(chǎn)的,就是由氧化銦(In2O3)和氧化錫(SnO2)粉末按照一定的比例進(jìn)行混合,通常質(zhì)量比是90%In2O3和10% SnO2,形成的黑灰色陶瓷半導(dǎo)體(氧化銦錫,ITO)。一般通過外觀就可以了解ITO靶材的質(zhì)量,深灰色是好的,相反越黑質(zhì)量越差,我國生產(chǎn)的ITO靶材質(zhì)量還可以的是黑灰色的。 研究顯示,在真空鍍膜機(jī)ITO薄膜濺鍍過程中,使用磁控濺射的方式,基底溫度控制在200℃左右可以保證薄膜85%以上高可見光透過率下,電阻率達(dá)到低,而薄膜的結(jié)晶度也隨著基底溫度的提高而提高,晶粒尺寸也逐漸增大,超過200℃后透射率趨于減弱;使用電子束蒸鍍的方式,隨著退火溫度升高,晶粒尺寸變大,表面形貌均一穩(wěn)定,超過600℃后顆粒變得大小不一,形狀各異,小顆粒團(tuán)聚現(xiàn)象嚴(yán)重,薄膜表面形貌破壞。
非晶硅薄膜 多晶硅薄膜具有較高的電遷移率和穩(wěn)定的光電性能,是制備微電子器件、薄膜晶體管、大面積平板液晶顯示的質(zhì)量材料。多晶硅薄膜被公認(rèn)為是制備低耗、理想的薄膜太陽能電池的材料。因此,如何制備多晶硅薄膜是一個(gè)非常有意義的研究課題。固相法是制備多晶硅薄膜的一種常用方法,它是在高溫退火的條件下,使非晶硅薄膜通過固相相變而成為多晶硅薄膜。本文采用固相法,利用X- ray 衍射及拉曼光譜,對用不同方法制備的非晶硅薄膜的晶化過程進(jìn)行了系統(tǒng)地研究。 在硅薄膜太陽能電池材料中,非晶硅薄膜太陽能電池制造工藝相對簡單,但是存在光電轉(zhuǎn)換效率低,壽命短,穩(wěn)定性不好,并且存在光致衰退效應(yīng)(S-W 效應(yīng))等缺點(diǎn)。單晶硅薄膜太陽能電池因?yàn)橹谱鞴に嚭椭谱鞒杀镜仍蚴冀K得不到推廣,而多晶硅薄膜材料在長波段具有光敏性,能有效的吸收可見光并且具有光照穩(wěn)定性。貴金屬靶材,一是實(shí)際重量易出現(xiàn)分歧,二是金屬化以及解綁的時(shí)候都會(huì)有浪費(fèi)料,建議墊一片銅片。
磁控靶濺射沉積率的影響因素 濺射沉積率是表征成膜速度的參數(shù),其沉積率高低除了與工作氣體的種類與壓力、靶材種類與“濺射刻蝕區(qū)“的面積大小、靶面溫度與靶面磁場強(qiáng)度、靶源與基片的間距等影響因素外,還受靶面的功率密度,亦即靶電源輸出的“濺射電壓與電流”兩個(gè)重要因素的直接影響。 1、濺射電壓與沉積率 在影響濺射系數(shù)的諸因數(shù)中,當(dāng)靶材、濺射氣體等業(yè)已選定之后,比較起作用的就是磁控靶的放電電壓。一般來說,在磁控濺射正常工藝范圍內(nèi),放電電壓越高,磁控靶的濺射系數(shù)就越大。 2、濺射電流與沉積率 磁控靶的濺射電流與靶面離子流成正比,因此對沉積率的影響比電壓要大得多。增加濺射電流的辦法有兩個(gè):一個(gè)是提高工作電壓;另一個(gè)是適當(dāng)提高工作氣體壓力。 3、濺射功率與沉積率 一般來說,磁控靶的濺射功率增高時(shí),薄膜的沉積率速率也會(huì)變大;這里有一個(gè)先決條件,就是:加在磁控靶的濺射電壓足夠高,使工作氣體離子在陰-陽極間電場中獲得的能量,足以大過靶材的“濺射能量閥值”。密度也是靶材的關(guān)鍵性能指標(biāo)之一。上海AlTi靶材功能
正離子到達(dá)陰極靶面時(shí)由于絕緣層的阻擋,堆積在靶面上,容易產(chǎn)生冷場致弧光放電,使陰極濺射無法進(jìn)行下去。常州氮化硅靶材圖片
拋光片部分310的厚度均勻。所述拋光片第三部分330的厚度均勻。位于所述固定板200彎折處的所述拋光片300的厚度不均,即所述拋光片第二部分320的厚度不均。拋光片部分310的厚度與所述拋光片第三部分330的厚度相等,均為2mm~3mm。拋光片部分310、拋光片第二部分320及拋光片第三部分330為分體的。在其他實(shí)施例中,所述拋光片部分、拋光片第二部分及拋光片第三部分還可以為一體成型。靶材拋光裝置100還包括:防護(hù)層400,所述防護(hù)層400位于所述固定板200與所述拋光片300之間。所述防護(hù)層400為彈性材料,能夠在所述固定板200及靶材間提供緩沖,避免所述固定板200觸撞靶材導(dǎo)致靶材受損。本實(shí)施例中,所述防護(hù)層400的厚度為30mm~35mm。若所述防護(hù)層400的厚度過小,所述防護(hù)層400起到的緩沖效果差,難以有效的保護(hù)靶材。若所述防護(hù)層400的厚度過大,使得所述防護(hù)層400的體積過大,進(jìn)而造成所述靶材拋光裝置100的體積過大,對操作者使用所述靶材拋光裝置100帶來不必要的困難。常州氮化硅靶材圖片
江陰典譽(yù)新材料科技有限公司地處江蘇省江陰市,是一家專業(yè)生產(chǎn)濺射靶材和蒸發(fā)材料的公司,濺射靶材充分借鑒國外的先進(jìn)技術(shù),并通過與國內(nèi)外**研發(fā)機(jī)構(gòu)合作,整合各行業(yè)資源優(yōu)勢,生產(chǎn)出多系列***濺射靶材產(chǎn)品。 公司目前主要生產(chǎn)金屬,合金,陶瓷三大類靶材產(chǎn)品。經(jīng)過幾年的發(fā)展和技術(shù)積累,已經(jīng)擁有:真空熱壓,冷壓燒結(jié),真空熔煉,熱等靜壓,等離子噴涂等技術(shù)。另外也可根據(jù)客戶要求研發(fā)新型靶材并提供靶材金屬化、綁定和背板服務(wù)。 江陰典譽(yù)新材料科技有限公司已為以下行業(yè)提供***的靶材:平面顯示、裝飾與工具、太陽能光伏和光熱、電子和半導(dǎo)體、建筑與汽車玻璃大面積鍍膜等工業(yè)領(lǐng)域。同時(shí)也為國內(nèi)外各大院校和研究所提供了很多常規(guī)和新型的試驗(yàn)用靶材。 江陰典譽(yù)目前擁有真空熱壓爐兩臺,冷壓燒結(jié)爐一臺,真空熔煉設(shè)備兩臺,等靜壓設(shè)備一臺,等離子噴涂兩套,綁定平臺兩套,各類機(jī)加工設(shè)備七臺,檢驗(yàn)設(shè)備若干,確保出廠的每件產(chǎn)品都能達(dá)到甚至超過客戶的預(yù)期。 江陰典譽(yù)秉承:“一切以客戶的需求為導(dǎo)向,客戶的所有需求一次做好。”的發(fā)展理念。